一种光电测径系统用光学装置的制作方法

本实用新型涉及测经系统技术领域，具体涉及一种光电测径系统用光学装置。

背景技术：
：

光电测径系统是对利用光电的转换来对被测物的直径大小等进行测量的整体工作系统，其原理为采用半导体激光器作为信号光光源，激光器发出的激光光束通过多面体扫描转镜、透镜扩展为与光轴平行的高速扫描光束，对被测区域里面的被测物体进行高速扫描，扫描后的光束经过汇聚透镜后照向光电转换系统，并由光信号接收器接收光信号进行光电转换，并放大整形，然后再传送给单片机进行信号识别与处理，将处理过后的信号进行运算再经由液晶显示屏进行显示。

本专利提供的技术为光电测径系统用光学装置，是该系统中必不可少的硬件支持。

技术实现要素：
：

本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种结构简单、使用方便、便于调节、可以准确、快速的对光束进行转换和对物体进行测量的光电测径系统用光学装置。

本实用新型所要解决的技术问题采用以下的技术方案来实现：

一种光电测径系统用光学装置，由底板、六面扫描转镜、准直透镜、激光发射器、待测物、聚光镜和光电接收器组合而成，所述六面扫描转镜、准直透镜、激光发射器、待测物、聚光镜和光电接收器均垂直安装固定在底板上，在底板上还设置有准直调节条，所述准直调节条设置在底板的内部并与六面扫描转镜、准直透镜、激光发射器、待测物、聚光镜和光电接收器都相连，所述六面扫描转镜的下部安装有旋转电机，在旋转电机的下部设置有夹持器，所述激光发射器的下部也设置有夹持器，在激光发射器的底部还安装有激光发射角度调节杆，所述激光发射角度调节杆安装在底板的底部，并与激光发射器相连，在激光发射角度调节杆上还设置有调节阀，用来控制调整激光发射器的角度；

所述六面扫描转镜、准直透镜、激光发射器、待测物、聚光镜和光电接收器的底部均设置有支撑，所述支撑固定在底板上；

所述六面扫描转镜、准直透镜、激光发射器、待测物、聚光镜和光电接收器依次按顺序排列安装；

所述夹持器底端固定在支撑上；

系统采用半导体激光器作为信号光光源，激光发射器发出的激光光束通过六面扫描转镜反射向准直透镜，准直透镜将激光光束转变为平行于光轴的平行光束，平行光束对被测物体进行扫描，扫描后的光束经过聚光镜汇聚在光电接收器，光电接收器将光信号转换为电信号，经过一系列处理将电信号传送至单片机进行处理运算，最后在液晶显示屏上面显示测量结果。

本实用新型的有益效果是：结构简单、使用方便、便于调节、可以准确、快速的对光束进行转换和对物体进行测量。

附图说明：

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的底部示意图；

其中：1-底板；2-六面扫描转镜；3-准直透镜；4-激光发射器；5-待测物；6-准直调节条；7-夹持器；8-支撑；9-激光发射角度调节杆；10-聚光镜；11-光电接收器。

具体实施方式：

为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本实用新型。

如图1和图2所示：一种光电测径系统用光学装置，由底板1、六面扫描转镜2、准直透镜3、激光发射器4、待测物5、聚光镜10和光电接收器11组合而成，所述六面扫描转镜2、准直透镜3、激光发射器4、待测物5、聚光镜10和光电接收器11均垂直安装固定在底板1上，在底板1上还设置有准直调节条6，所述准直调节条6设置在底板1的内部并与六面扫描转镜2、准直透镜3、激光发射器4、待测物5、聚光镜10和光电接收器11都相连，所述六面扫描转镜2的下部安装有旋转电机，在旋转电机的下部设置有夹持器7，所述激光发射器4的下部也设置有夹持器7，在激光发射器4的底部还安装有激光发射角度调节杆9，所述激光发射角度调节杆9安装在底板1的底部，并与激光发射器4相连，在激光发射角度调节杆9上还设置有调节阀，用来控制调整激光发射器4的角度；

所述六面扫描转镜2、准直透镜3、激光发射器4、待测物5、聚光镜10和光电接收器11的底部均设置有支撑8，所述支撑8固定在底板1上；

所述六面扫描转镜2、准直透镜3、激光发射器4、待测物5、聚光镜10和光电接收器11依次按顺序排列安装；

所述夹持器7底端固定在支撑8上；

系统采用半导体激光器作为信号光光源，激光发射器4发出的激光光束通过六面扫描转镜2反射向准直透镜3，准直透镜3将激光光束转变为平行于光轴的平行光束，平行光束对待测物5进行扫描，扫描后的光束经过聚光镜10汇聚在光电接收器11，光电接收器11将光信号转换为电信号，经过一系列处理将电信号传送至单片机进行处理运算，最后在液晶显示屏上面显示测量结果。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。