一种大张角玻璃镜片的减反膜的制作方法

文档序号:13105264阅读:189来源:国知局
一种大张角玻璃镜片的减反膜的制作方法与工艺

本实用新型涉及工艺制造领域,具体涉及一种大张角玻璃镜片的减反膜。



背景技术:

大张角玻璃镜片减反膜主要应用于广角性能要求高的成像系统等领域,如车载摄像头等数码成像以及运动摄像机SDV的光学模组。

为达到其成像系统的广角性能,必须使得光路系统中的第一片镜片的凹面的曲率越来越大,当采取现有镀膜工艺与中心回转机台加工时,就造成了镜片中心与边缘的反射率偏差越来越大,也就是色差越来越大,最终造成成像鬼影的出现,从而无法满足镜头的成像性能。并且,在现有镀膜技术中,加工后产品凹面的膜层均匀性比较差,如图5所示,且加工后的凹面边缘膜层不致密,膜强度差,易产生掉膜不良。



技术实现要素:

本实用新型的目的旨在提供一种膜层均匀性一致,且凹面边缘膜强度佳的大张角玻璃镜片的减反膜,以克服现有技术中的不足之处。

按此目的设计的一种大张角玻璃镜片的减反膜,包括设置在大张角玻璃镜片表面的减反膜,其结构特征是所述减反膜为八层的多层膜结构,其包括依次堆叠的高折射率膜层及低折射率膜层。

进一步,所述减反膜包括依次堆叠的高折射率膜层、低折射率膜层、高折射率膜层、低折射率膜层、高折射率膜层、低折射率膜层、高折射率膜层、低折射率膜层。

进一步,所述高折射率膜层为五氧化三钛膜层;低折射率膜层为氟化镁膜层或二氧化硅膜层。

一种大张角玻璃镜片的减反膜的制作工艺,包括以下步骤:

步骤一,采用行星镀膜机台进行镀膜加工,在镀膜真空室镀膜前,使用高能离子源进行清洁处理60秒;

步骤二,镀第一膜层时,镀膜压力为2.0*10-2Pa,镀膜速率为镀膜时间为117~120秒;所述第一膜层为五氧化三钛膜层;

步骤三,镀第二膜层时,镀膜压力为1.5*10-3Pa,镀膜速率为镀膜时间为90~93秒;所述第二膜层为二氧化硅膜层;

步骤四,镀第三膜层时,镀膜压力为2.0*10-2Pa,镀膜速率为镀膜时间为305~308秒;所述第三膜层为五氧化三钛膜层;

步骤五,镀第四膜层时,镀膜压力为1.5*10-3Pa,镀膜速率为镀膜时间为37~40秒;所述第四膜层为二氧化硅膜层;

步骤六,镀第五膜层时,镀膜压力为2.0*10-2Pa,镀膜速率为镀膜时间为465~468秒;所述第五膜层为五氧化三钛膜层;

步骤七,镀第六膜层时,镀膜压力为1.5*10-3Pa,镀膜速率为镀膜时间为75~78秒;所述第六膜层为为二氧化硅膜层;

步骤八,镀第七膜层时,镀膜压力为2.0*10-2Pa,镀膜速率为镀膜时间为172~175秒;所述第七膜层为五氧化三钛膜层;

步骤九,镀第八膜层时,镀膜压力为1.1*10-3Pa,镀膜速率为镀膜时间为560~563秒;所述第八膜层为氟化镁膜层;

步骤十,镀膜完成后需冷却3~5分钟,方可使行星镀膜机台进气,至此镀膜完成。

进一步,当镀膜真空室的真空度到达1.5×10-3Pa时,开始镀膜,高能离子源轰击辅助镀膜的参数见表1;

表1

进一步,所述行星镀膜机台在进行真空镀时,行星镀膜机台的工作温度为110℃~130℃,恒温时间12min~15min。

本实用新型中的大张角玻璃镜片表面的减反膜为八层的多层膜结构,其包括依次堆叠的高折射率膜层及低折射率膜层;当整个膜层镀制完成后,大张角玻璃镜片表面镀制的减反膜的膜层均匀性一致,且凹面边缘膜强度佳。

本实用新型采用具有公转和自转功能的行星镀膜机台,再加上专门设计的镀膜制作工艺,使大张角玻璃镜片表面镀制的减反膜的膜层均匀性一致,且凹面边缘膜强度佳。采用此工艺获得的本产品,在使用过程中具有广角性能高和成像清晰的特点,且能从根本上杜绝红斑鬼影,从而达到此类成像系统的光学要求,并且本产品的凹面边缘膜强度佳、品质好、产品使用期限长,能达到节约成本的效果。

综上所述,本实用新型具有膜层均匀性一致,且凹面边缘膜强度佳的特点。

附图说明

图1为本实用新型一实施例的结构示意图。

图2为本实用新型第一实施例的实测曲线图。

图3为本实用新型第二实施例的实测曲线图。

图4为本实用新型第三实施例的实测曲线图。

图5为现有产品的实测曲线图。

图中,1为镜片边缘,2为镜片R/2,3为镜片中心。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述。

第一实施例

参见图1-图2,本大张角玻璃镜片的减反膜,包括设置在大张角玻璃镜片表面的减反膜,其结构特征是所述减反膜为八层的多层膜结构,其包括依次堆叠的高折射率膜层及低折射率膜层。

所述减反膜包括依次堆叠的高折射率膜层、低折射率膜层、高折射率膜层、低折射率膜层、高折射率膜层、低折射率膜层、高折射率膜层、低折射率膜层。所述高折射率膜层为五氧化三钛膜层;低折射率膜层为氟化镁膜层或二氧化硅膜层。

一种大张角玻璃镜片的减反膜的制作工艺,包括以下步骤:

步骤一,采用行星镀膜机台进行镀膜加工,在镀膜真空室镀膜前,使用高能离子源进行清洁处理60秒;

步骤二,镀第一膜层时,镀膜压力为2.0*10-2Pa,镀膜速率为镀膜时间为117~120秒;所述第一膜层为五氧化三钛膜层;

步骤三,镀第二膜层时,镀膜压力为1.5*10-3Pa,镀膜速率为镀膜时间为90~93秒;所述第二膜层为二氧化硅膜层;

步骤四,镀第三膜层时,镀膜压力为2.0*10-2Pa,镀膜速率为镀膜时间为305~308秒;所述第三膜层为五氧化三钛膜层;

步骤五,镀第四膜层时,镀膜压力为1.5*10-3Pa,镀膜速率为镀膜时间为37~40秒;所述第四膜层为二氧化硅膜层;

步骤六,镀第五膜层时,镀膜压力为2.0*10-2Pa,镀膜速率为镀膜时间为465~468秒;所述第五膜层为五氧化三钛膜层;

步骤七,镀第六膜层时,镀膜压力为1.5*10-3Pa,镀膜速率为镀膜时间为75~78秒;所述第六膜层为为二氧化硅膜层;

步骤八,镀第七膜层时,镀膜压力为2.0*10-2Pa,镀膜速率为镀膜时间为172~175秒;所述第七膜层为五氧化三钛膜层;

步骤九,镀第八膜层时,镀膜压力为1.1*10-3Pa,镀膜速率为镀膜时间为560~563秒;所述第八膜层为氟化镁膜层;

步骤十,镀膜完成后需冷却3~5分钟,方可使行星镀膜机台进气,至此镀膜完成。

当镀膜真空室的真空度到达1.5×10-3Pa时,开始镀膜,高能离子源轰击辅助镀膜的参数见表1;

表1

所述行星镀膜机台在进行真空镀时,行星镀膜机台的工作温度为110℃~130℃,恒温时间12min~15min。

在本实施例中,大张角玻璃镜片的结构,见图1。采用具有公转和自转功能的昭和行星镀膜机台进行镀膜加工,在大张角玻璃镜片上进行镀制减反膜。实际镀膜的膜层及其厚度见表2。

表2 单位:mm。

步骤一,采用行星镀膜机台进行镀膜加工,在镀膜真空室镀膜前,使用高能离子源进行清洁处理60秒;

步骤二,镀第一膜层时,镀膜压力为2.0*10-2Pa,镀膜速率为镀膜时间为118秒;所述第一膜层为五氧化三钛膜层;

步骤三,镀第二膜层时,镀膜压力为1.5*10-3Pa,镀膜速率为镀膜时间为91秒;所述第二膜层为二氧化硅膜层;

步骤四,镀第三膜层时,镀膜压力为2.0*10-2Pa,镀膜速率为镀膜时间为306秒;所述第三膜层为五氧化三钛膜层;

步骤五,镀第四膜层时,镀膜压力为1.5*10-3Pa,镀膜速率为镀膜时间为38秒;所述第四膜层为二氧化硅膜层;

步骤六,镀第五膜层时,镀膜压力为2.0*10-2Pa,镀膜速率为镀膜时间为466秒;所述第五膜层为五氧化三钛膜层;

步骤七,镀第六膜层时,镀膜压力为1.5*10-3Pa,镀膜速率为镀膜时间为76秒;所述第六膜层为为二氧化硅膜层;

步骤八,镀第七膜层时,镀膜压力为2.0*10-2Pa,镀膜速率为镀膜时间为173秒;所述第七膜层为五氧化三钛膜层;

步骤九,镀第八膜层时,镀膜压力为1.1*10-3Pa,镀膜速率为镀膜时间为561秒;所述第八膜层为氟化镁膜层;

步骤十,镀膜完成后需冷却3~5分钟,方可使行星镀膜机台进气,至此镀膜完成。

镀制完成后,大张角玻璃镜片表面镀制的整个减反膜的膜层均匀性一致,且凹面边缘膜强度佳。

当镀膜真空室的真空度到达1.5×10-3Pa时,开始镀膜,高能离子源轰击辅助镀膜的参数见表3;

表3

所述行星镀膜机台在进行真空镀时,行星镀膜机台的工作温度为120℃,恒温时间15min。

对得到的产品进行分光测试,得到如图2所示的分光测试实测曲线图,从中心到边缘的均匀性,可见镀制的减反膜的分光符合规格,镀膜面的膜层均匀性佳。

第二实施例

参见图1和图3,在本实施例中,大张角玻璃镜片的结构,见图1。采用具有公转和自转功能的昭和行星镀膜机台进行镀膜加工,在大张角玻璃镜片上进行镀制减反膜。实际镀膜的膜层及其厚度见表4。

表4 单位:mm。

步骤一,采用行星镀膜机台进行镀膜加工,在镀膜真空室镀膜前,使用高能离子源进行清洁处理60秒;

步骤二,镀第一膜层时,镀膜压力为2.0*10-2Pa,镀膜速率为镀膜时间为117秒;所述第一膜层为五氧化三钛膜层;

步骤三,镀第二膜层时,镀膜压力为1.5*10-3Pa,镀膜速率为镀膜时间为90秒;所述第二膜层为二氧化硅膜层;

步骤四,镀第三膜层时,镀膜压力为2.0*10-2Pa,镀膜速率为镀膜时间为305秒;所述第三膜层为五氧化三钛膜层;

步骤五,镀第四膜层时,镀膜压力为1.5*10-3Pa,镀膜速率为镀膜时间为37秒;所述第四膜层为二氧化硅膜层;

步骤六,镀第五膜层时,镀膜压力为2.0*10-2Pa,镀膜速率为镀膜时间为465秒;所述第五膜层为五氧化三钛膜层;

步骤七,镀第六膜层时,镀膜压力为1.5*10-3Pa,镀膜速率为镀膜时间为75秒;所述第六膜层为为二氧化硅膜层;

步骤八,镀第七膜层时,镀膜压力为2.0*10-2Pa,镀膜速率为镀膜时间为172秒;所述第七膜层为五氧化三钛膜层;

步骤九,镀第八膜层时,镀膜压力为1.1*10-3Pa,镀膜速率为镀膜时间为560秒;所述第八膜层为氟化镁膜层;

步骤十,镀膜完成后需冷却3~5分钟,方可使行星镀膜机台进气,至此镀膜完成。

镀制完成后,大张角玻璃镜片表面镀制的整个减反膜的膜层均匀性一致,且凹面边缘膜强度佳。

当镀膜真空室的真空度到达1.5×10-3Pa时,开始镀膜,高能离子源轰击辅助镀膜的参数见表5;

表5

所述行星镀膜机台在进行真空镀时,行星镀膜机台的工作温度为110℃,恒温时间15min。

对得到的产品进行分光测试,得到如图3所示的分光测试实测曲线图,从中心到边缘的均匀性,可见镀制的减反膜的分光符合规格,镀膜面的膜层均匀性佳。

其余未述部分见第一实施例,不再赘述。

第三实施例

参见图1和图4,在本实施例中,大张角玻璃镜片的结构,见图1。采用具有公转和自转功能的昭和行星镀膜机台进行镀膜加工,在大张角玻璃镜片上进行镀制减反膜。实际镀膜的膜层及其厚度见表6。

表6 单位:mm。

步骤一,采用行星镀膜机台进行镀膜加工,在镀膜真空室镀膜前,使用高能离子源进行清洁处理60秒;

步骤二,镀第一膜层时,镀膜压力为2.0*10-2Pa,镀膜速率为镀膜时间为120秒;所述第一膜层为五氧化三钛膜层;

步骤三,镀第二膜层时,镀膜压力为1.5*10-3Pa,镀膜速率为镀膜时间为93秒;所述第二膜层为二氧化硅膜层;

步骤四,镀第三膜层时,镀膜压力为2.0*10-2Pa,镀膜速率为镀膜时间为308秒;所述第三膜层为五氧化三钛膜层;

步骤五,镀第四膜层时,镀膜压力为1.5*10-3Pa,镀膜速率为镀膜时间为40秒;所述第四膜层为二氧化硅膜层;

步骤六,镀第五膜层时,镀膜压力为2.0*10-2Pa,镀膜速率为镀膜时间为468秒;所述第五膜层为五氧化三钛膜层;

步骤七,镀第六膜层时,镀膜压力为1.5*10-3Pa,镀膜速率为镀膜时间为78秒;所述第六膜层为为二氧化硅膜层;

步骤八,镀第七膜层时,镀膜压力为2.0*10-2Pa,镀膜速率为镀膜时间为175秒;所述第七膜层为五氧化三钛膜层;

步骤九,镀第八膜层时,镀膜压力为1.1*10-3Pa,镀膜速率为镀膜时间为563秒;所述第八膜层为氟化镁膜层;

步骤十,镀膜完成后需冷却3~5分钟,方可使行星镀膜机台进气,至此镀膜完成。

镀制完成后,大张角玻璃镜片表面镀制的整个减反膜的膜层均匀性一致,且凹面边缘膜强度佳。

当镀膜真空室的真空度到达1.5×10-3Pa时,开始镀膜,高能离子源轰击辅助镀膜的参数见表7;

表7

所述行星镀膜机台在进行真空镀时,行星镀膜机台的工作温度为130℃,恒温时间12min。

对得到的产品进行分光测试,得到如图4所示的分光测试实测曲线图,从中心到边缘的均匀性,可见镀制的减反膜的分光符合规格,镀膜面的膜层均匀性佳。

其余未述部分见第一实施例,不再赘述。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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