本发明属于电子器件制造技术领域，具体涉及一种干膜显影方法。
背景技术：
干膜技术应用于形成rn5041薄膜精密分压电阻网络的电阻体图形，图形的质量直接影响产品的质量。在干膜显影过程中原来采用的方式是静置显影，会造成基片表面形成絮状层，阻挡进一步显影。
曝光后基片在显影液中浸泡时间较长，会导致显影后产品表面干膜起皮、起泡；而显影时间较短，表面边缘则有锯齿状过多，甚至出现大面积剥离现象，而则一组矛盾还存在重叠。大概每片有60％的电阻单元会出现如图1中出现的严重锯齿状边缘，而在随后的激光调阻中会导致余切量过小而产生质量隐患，甚至有的基片出现大面积剥离而报废。
技术实现要素：
为了解决上述问题，本发明提供了一种干膜显影方法，避免显影之后表面边缘有锯齿状产生。
本发明的技术方案为：一种干膜显影方法，包括以下步骤：
(1)将干膜显影槽用去离子水清洗干净；
(2)向干膜显影槽中加入干膜显影剂；
(3)将待显影的基片放入所述干膜显影剂中，喷淋浸泡；
(4)在显影过程中，采用软毛刷轻微的来回刷洗基片干膜表面；
(5)显影结束之后，取出已显影的基片，清洗干净，并吹干。
本发明经分析基片显影之后表面边缘则有锯齿状，该现象产生的原因是由于在静置显影时，干膜溶解的物质在基片表面形成了絮状层，而该絮状层阻挡了进一步显影。
由上述分析之后，本发明在现有干膜显影技术中，在显影过程中，采用软毛刷轻微的来回刷洗基片干膜表面，将絮状层以物理方式破坏，从而减少该絮状层对显影产生的影响，干膜本身有一定硬度，所以软毛刷不足以影响干膜本身。
本发明中的基片可以为多种现有常规的产品结构，作为优选，所述基片为rn5041薄膜精密分压电阻。
与现有技术相比，本发明的有益效果体现在：
本发明使用软毛刷轻微的来回刷洗并减少絮状层对产品的影响，经过多批次验证，本发明起到很大的改善，齿状边缘出现的频率(从60％降为10％)，同时显影矛盾的解决和效率提升，生产速率得到了明显的改善。增加了显影效率(速度由5m/30s～7m/30s降至2m/30s)，因此本发明有效的增加显影质量，减少锯齿状边缘出现的频率，增加了显影效率。
附图说明
图1为本发明改善前的产品示意图。
图2为本发明改善后的产品示意图。
具体实施方式
实施例1
一种干膜显影方法，包括以下步骤：
(1)将干膜显影槽用去离子水清洗干净；
(2)向干膜显影槽中加入干膜显影剂；
(3)将待显影的基片(rn5041薄膜精密分压电阻)放入所述干膜显影剂中，喷淋浸泡；
(4)在显影过程中，采用软毛刷轻微的来回刷洗基片干膜表面；
(5)显影结束之后，取出已显影的基片，清洗干净，并吹干。
注：本发明中除了在显影过程中，采用软毛刷轻微的来回刷洗基片干膜表面以外的步骤，均为现有常规方法，因此本发明在此不做赘述。
本发明中显影过程中采取使用软毛刷轻微的来回刷洗，将絮状层以物理方式破坏，从而减少该絮状层对显影产生的影响。干膜本身有一定硬度，所以软毛刷不足以影响干膜本身。
采用上述方法经过多批次验证，该方法起到很大的改善，齿状边缘出现的频率(从60％降为10％)，(见图2：改善后效果)，同时显影矛盾的解决和效率提升，生产速率得到了明显的改善，增加了显影效率(速度由5m/30s～7m/30s降至2m/30s)。
在rn5041薄膜精密分压电阻(约900只)发货产品时因本发明的方法改进收益，特别表现在发货周期的提前的时候(周期缩短了1周左右的时间)，同时后续的合格率也明显提升(40％升至60％)，对质量的提升和质量一致性有明显的贡献。该改善虽是流程改善，但考虑到rn5041的售价较高，如果按100元/只计算，该技术改进的贡献幅度可能近千元升至更高。未来rn5041的发货仍可能进一步上升，加之如果将改进后的干膜技术引入其它溅射阻挡领域(例如研发的滤波器正在尝试)，后期效益不可估计。