本实用新型涉及一种曝光设备领域，尤其涉及一种恒温曝光机。
背景技术：
曝光机是一种通过紫外线将胶片或其他透明体上的图像转移到涂有感光物质的材料上的设备，其利用紫外线对有机聚合物进行曝光，受紫外线辐照后的光刻胶，其物理化学性质发生变化，在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域，从而在抗蚀剂上形成精细图形。
而由于曝光机需要产生足够能量的辐照，在辐照过程中会产生大量的热量，虽然曝光机一般设置在恒温恒湿的室内，但是其机体内部产生的大量热能往往不容易冷却，而在曝光过程中使用到的底片如果长期暴露了在高温环境下容易产生相应的形变，甚至会影响材料表面的感光涂层，最终导致次品的产生，如果不能解决温度影响将会大大影响生产的效率。
技术实现要素：
本实用新型所要解决的技术问题是：针对现有技术的缺陷，提供一种恒温曝光机。
本实用新型为解决上述技术问题采用以下技术方案：
一种恒温曝光机，包括：进料口、工作台、曝光室、控制室、曝光灯、灯罩、冷却管、循环水系统、支撑架、电机、导轨、微处理器、控制面板、进气装置、排气装置和温度传感器，其中所述进料口位于曝光室的前端，所述工作台通过滑轨滑动安装在进料口的位置，所述曝光灯阵列分布在灯罩内，所述灯罩背面安装有冷却管，所述冷却管通过软管与所述循环水系统相连接，所述灯罩背面中央与所述支撑架的一端固定连接，所述支撑架的另一端与所述电机固定连接，所述电机与导轨滚动连接，所述微处理器和所述循环水系统安装在控制室内，所述曝光室外侧固定安装有控制面板，所述曝光室内壁上还分别安装有进气装置排气装置和温度传感器。
特别的，所述导轨为固定齿条，所述电机上安装有齿轮，所述齿轮与所述固定齿条相齿合。
特别的，所述固定齿条的为竖直安装。
特别的，所述电机为步进电机。
特别的，所述工作台在工作时处于所述曝光灯正下方。
特别的，所述工作台的数量为两个，与工作台相对应的温度传感器的数量也为两个。
特别的，所述温度传感器与所述微处理器电性连接。
特别的，所述工作台与对应的温度传感器处在相同高度。
本实用新型采用以上技术方案，与现有技术相比，具有如下技术效果：本实用新型通过步进电机和导轨进行配合可以使曝光灯进行竖直方向的运动，从而控制曝光灯与工件的距离达到控制工件表面温度的目的，同时因为是通过温度传感器与微处理器进行控制，所以本实用新型具是自动化的设备，不需要进行人工调试，大大提高企业生产效率，同时有效避免因曝光温度过高导致次品产生。
附图说明
图1为本实用新型的侧面结构示意图。
图中：进料口-1、工作台-2、曝光室-3、控制室-4、曝光灯-5、灯罩-6、冷却管-7、循环水系统-8、支撑架-9、电机-10、导轨-11、微处理器-12、控制面板 -13、进气装置-14、排气装置-15、温度传感器-16
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的技术方案做进一步的详细说明。
一种恒温曝光机，包括：进料口1、工作台2、曝光室3、控制室4、曝光灯5、灯罩6、冷却管7、循环水系统8、支撑架9、电机10、导轨11、微处理器12、控制面板13、进气装置14、排气装置15和温度传感器16，其中所述进料口1位于曝光室3的前端，所述工作台2通过滑轨滑动安装在进料口1的位置，所述曝光灯5阵列分布在灯罩6内，所述灯罩6背面安装有冷却管7，所述冷却管7通过软管与所述循环水系统8相连接，所述灯罩6背面中央与所述支撑架9的一端固定连接，所述支撑架9的另一端与所述电机10固定连接，所述电机10与导轨11滚动连接，所述微处理器12和所述循环水系统8安装在控制室4内，所述曝光室3外侧固定安装有控制面板13，所述曝光室3内壁上还分别安装有进气装置14、排气装置15和温度传感器16。
本实用新型的一个实施例中，所述导轨11为固定齿条，所述电机10上安装有齿轮，所述齿轮与所述固定齿条相齿合。
本实用新型的一个实施例中，所述固定齿条的为竖直安装。
本实用新型的一个实施例中，所述电机10为步进电机。
本实用新型的一个实施例中，所述工作台2在工作时处于所述曝光灯5正下方。
本实用新型的一个实施例中，所述工作台2的数量为两个，所述温度传感器16的数量也为两个。
本实用新型的一个实施例中，所述温度传感器16与所述微处理器12电性连接。
对本实用新型的工作模式做进一步的说明，具体如下：
通过控制面板13控制工作参数，控制面板13通过微处理器12发出电信号控制控制步进电机10转动，步进电机10在齿条上运动从而带动灯罩6沿竖直方向运动，灯罩6内的曝光灯5与工件之间的距离影响工件的温度，位于工作台 2相同水平面一侧的温度传感器16感应温度并将温度电信号传送给微处理器 12，微处理器12判断是否达到要求，并相应控制步进电机10的运动，具体的，当传感器感应到工件温度比预设温度低时，微处理器12发出电信号控制步进电机10转动并带动灯罩6向下运动一定距离，反之则向上运动，本申请中采用两个工作台2设计，保证设备无间断运作，同时因为两个工作台存在上下层的关系，分别与曝光灯5的距离也不同，因此，在转换工作台2时，通过温度感应装置以及微处理器12和步进电机10的协调运作保证设备曝光时，工件的温度始终不会有太大变化，特别的，当工作台2被拉出曝光室3时，温度传感器16感应到温度的骤降后会通过微处理器12自动判别，并停止拉出工作台2所对应的温度传感器16的工作，同时开启另一个温度传感器16，曝光机在运作时，循环水系统8、进气装置14和排气装置15默认处于开启状态，通过循环水和加速气体流动达到进一步控制曝光室3内温度的目的。
以上对本实用新型的具体实施例进行了详细描述，但其只作为范例，本实用新型并不限制于以上描述的具体实施例。对于本领域技术人员而言，任何对该实用进行的等同修改和替代也都在本实用新型的范畴之中。因此，在不脱离本实用新型的精神和范围下所作的均等变换和修改，都应涵盖在本实用新型的范围内。