光刻胶排放系统的制作方法

本实用新型属于集成电路技术领域，特别是涉及一种光刻胶排放系统。

背景技术：

在现有的光刻胶排放系统中，各光刻胶供给瓶与喷嘴之间的连接管路上均会设置缓冲罐(buffer tank)，所述缓冲罐用于暂存光刻胶、过滤光刻胶中的气泡及杂质；同时，缓冲罐会通过一排液管路连接至厂务排污系统以将过滤出的气泡、杂质和废光刻胶排出所述缓冲罐之外。然而，目前的光刻胶排放系统中，不同的光刻胶的缓冲罐(即与存放不同光刻胶的光刻胶供给瓶相连接的不同的缓冲罐)的排液管路是相互连通的，这必然会在排出气泡、杂质和废光刻胶的过程中造成不同的光刻胶之间的交叉污染，过滤出的杂质在光刻胶回流的过程中也会经由排液管路污染正常的光刻胶，从而造成光刻胶的浪费。

技术实现要素：

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种光刻胶排放系统，用于解决现有技术中的光刻胶排放系统中由于连接不同的光刻胶的缓冲罐的排液管路相互连通而导致的造成不同的光刻胶之间的交叉污染的问题，以及过滤出的杂质在光刻胶回流的过程中会污染正常的光刻胶的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种光刻胶排放系统，所述光刻胶排放系统包括：

若干个光刻胶供给源，用于提供光刻胶；

若干个缓冲罐，与所述光刻胶供给源一一对应连接；

若干个第一供液管路，位于所述光刻胶供给源与所述缓冲罐之间，一端与所述光刻胶供给源一一对应连接，另一端与所述缓冲罐一一对应连接；

若干个排液管路，与所述缓冲罐一一对应连接；及

若干个第二供液管路，一端与所述缓冲罐一一对应连接。

作为本实用新型的一种优选方案，部分所述光刻胶供给源提供的光刻胶互不相同。

作为本实用新型的一种优选方案，若干个所述光刻胶供给源提供的光刻胶均互不相同。

作为本实用新型的一种优选方案，所述光刻胶供给源包括光刻胶供给瓶。

作为本实用新型的一种优选方案，所述光刻胶排放系统还包括：

排污端口，与若干个所述排液管路远离所述缓冲罐的一端均相连接；及

厂务排污系统，与所述排污端口相连接。

作为本实用新型的一种优选方案，所述光刻胶排放系统还包括供气管路，一端与所述光刻胶供给源相连接，另一端与气体源相连接。

作为本实用新型的一种优选方案，所述气体源包括氮气源。

作为本实用新型的一种优选方案，所述光刻胶排放系统还包括若干个喷嘴，若干个所述喷嘴与所述第二供液管路远离所述缓冲罐的一端一一对应连接。

作为本实用新型的一种优选方案，所述光刻胶排放系统还包括：

若干个过滤器，一一对应设置于所述第二供液管路上；

若干个捕集阱，一一对应设置于所述第二供液管路上，且位于所述过滤器与所述喷嘴之间；

若干个抽液泵，一一对应设置于所述第二供液管路上，且位于所述捕集阱与所述喷嘴之间；及

若干个控制阀，一一对应设置于所述第二供液管路上，且位于所述抽液泵与所述喷嘴之间。

作为本实用新型的一种优选方案，所述控制阀包括气动阀。

本实用新型还提供一种光刻胶排放方法，所述光刻胶排放方法包括如下步骤：

1)提供如上述任一方案中所述的光刻胶排放系统；

2)使用所述光刻胶供给源、所述第一供液管路及所述第二供液管路供给光刻胶，并使用与所述缓冲罐一一对应连接的所述排液管路将所述缓冲罐内光刻胶中的气泡及杂质排出所述缓冲罐。

如上所述，本实用新型光刻胶排放系统，具有以下有益效果：

本实用新型的光刻胶排放系统通过使用不同排液管路与各个缓冲罐一一对应连接，即将不同的缓冲罐使用不同的排液管路连接，不同的光刻胶供给源之间相互独立，不会造成不同光刻胶之间交叉污染，也不会存在滤出的杂质回流污染正常的光刻胶的问题；

本实用新型的光刻胶排放方法通过在供给光刻胶的过程中使用与各个缓冲罐一一对应连接的排液管路将各所述缓冲罐内光刻胶中的气泡及杂质排出，不会造成不同光刻胶之间交叉污染，也不会存在滤出的杂质回流污染正常的光刻胶的问题。

附图说明

图1显示为本实用新型实施例一中提供的光刻胶排放系统的结构示意图。

图2显示为本实用新型图1中A区域的放大结构示意图。

图3显示为本实用新型图2中B区域的放大结构示意图。

图4显示为本实用新型实施例二中提供的光刻胶排放方法的流程图。

元件标号说明

10 光刻胶供给源

11 缓冲罐

12 第一供液管路

13 排液管路

14 第二供液管路

15 排污端口

16 供气管路

17 气体源

18 喷嘴

19 过滤器

20 捕集阱

21 抽液泵

22 控制阀

23 晶圆

24 光刻胶

S1～S2 步骤1)～步骤2)

具体实施方式

以下通过特定的具体实例说明本实用新型的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点与功效。本实用新型还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本实用新型的精神下进行各种修饰或改变。

请参阅图1至图4。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本实用新型的基本构想，虽图示中仅显示与本实用新型中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的形态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局形态也可能更为复杂。

实施例一

请参阅图1，本实用新型提供一种光刻胶排放系统，所述光刻胶排放系统包括：

若干个光刻胶供给源10，所述光刻胶供给源10用于提供光刻胶；

若干个缓冲罐11，若干个所述缓冲罐11与所述光刻胶供给源10一一对应连接，即不同的所述缓冲罐11与不同的所述光刻胶供给源10相连接；

若干个第一供液管路12，所述第一供液管路12位于所述光刻胶供给源10与所述缓冲罐11之间，所述第一供液管路12一端与所述光刻胶供给源10一一对应连接，另一端与所述缓冲罐11一一对应连接；即不同的所述缓冲罐11通过不同的所述第一供液管路12与不同的所述光刻胶供给源10相连接；所述第一供液管路12用于将所述光刻胶供给源10内的所述光刻胶供给至所述缓冲罐11内；

若干个排液管路13，所述排液管路13与所述缓冲罐11一一对应连接；即不同的所述缓冲罐11与不同的所述排液管路13相连接；及

若干个第二供液管路14，所述第二供液管路14一端与所述缓冲罐11一一对应连接。

在一示例中，部分所述光刻胶供给源10提供的光刻胶互不相同，即若干个所述光刻胶供给源10中，部分所述光刻胶供给源10提供的所述光刻胶不相同，另一部分所述光刻胶供给源10提供的所述光刻胶相同。

在另一示例中，若干个所述光刻胶供给源10提供的光刻胶均互不相同，即若干个所述光刻胶供给源10提供的所述光刻胶互不相同。

作为示例，所述光刻胶供给源10可以包括但不仅限于光刻胶供给瓶。

本实用新型所述光刻胶排放系统通过使用不同所述排液管路13与各个所述缓冲罐11一一对应连接，即将不同的所述缓冲罐11使用不同的所述排液管路13连接，不同的所述光刻胶供给源10之间相互独立，不会造成不同光刻胶之间交叉污染，也不会存在滤出的杂质回流污染正常的光刻胶的问题。

作为示例，所述光刻胶供给源10的数量、所述缓冲罐11的数量、所述第一供液管路12的数量、所述排液管路13的数量及所述第二供液管路14的数量均相同，图1中仅以所述光刻胶供给源10的数量、所述缓冲罐11的数量、所述第一供液管路12的数量、所述排液管路13的数量及所述第二供液管路14的数量均为四个作为示例，而在实际示例中，所述光刻胶供给源10的数量、所述缓冲罐11的数量、所述第一供液管路12的数量、所述排液管路13的数量及所述第二供液管路14的数量可以根据实际需要进行设置，并不以图1中示出的数量为限。

作为示例，所述光刻胶供给源10为所述光刻胶供给瓶时，所述第一供液管路12与所述光刻胶供给源10相连接的一端插入至所述光刻胶供给瓶内。

作为示例，所述缓冲罐11用于暂存液体(譬如，光刻胶)，主要是为了防止所述光刻胶供给源10提供的光刻胶用完后造成机台停止作业，造成机台内的晶圆损伤；这是由于所述缓冲罐11上有两个传感器，可以即时报空，避免造成机台停止作用对晶圆造成损伤；同时，所述缓冲罐11还可以在更换所述光刻胶供给源10时暂时向机台提供光刻胶，使得机台可以持续不简单工作；此外，所述缓冲罐11还可以用于过滤所述光刻胶内的气泡及杂质，过滤出的气泡及杂质可以使用所述排液管路13排出所述缓冲罐11。所述缓冲罐11包括进液口、第一出液口及第二出液口，所述缓冲罐11的进液口与所述第一供液管路12相连通，所述缓冲罐11的第一出液口与所述排液管路13相连通，所述缓冲罐11的第二出液口与所述第二供液管路14相连通。

作为示例，如图1所示，所述光刻胶排放系统还包括：

排污端口15，所述排污端口15与若干个所述排液管路13远离所述缓冲罐11的一端均相连接，即所述排污端口15与所有的所述排液管路13远离所述缓冲罐11的一端均相连接；及

厂务排污系统(未示出)，所述厂务排污系统与所述排污端口15相连接；所述厂务排液系统的具体结构及用途为本领域技术人员所知晓，此处不再累述。

需要说明的是，在其他示例中，所述光刻胶排放系统还可以包括回收装置，此时，所述排污端口15可以与所述回收装置相连接，所述回收装置将所述排污端口15排出的带有气泡及杂质的光刻胶进行收集处理后再利用。

作为示例，如图2所示，所述光刻胶排放系统还包括供气管路16，所述供气管路16一端与所述光刻胶供给源10相连接，另一端与一气体源17相连接。所述光刻胶供给源10为光刻胶供给瓶时，所述供气管路16远离所述气体源17的一端插入至所述光刻胶供给瓶内，且所述供气管路16远离所述气体源17的一端位于所述光刻胶供给瓶内的光刻胶上方。所述供气管路16将所述气体源17内的其他排放至所述光刻胶供给源10内，以将所述光刻胶供给源16内的光刻胶压入至所述第一供液管路12内。

作为示例，所述气体源17可以包括但不仅限于氮气源；当然，在其他示例中，所述气体源17也可以为其他任意一种不会与光刻胶发生反应的气体的气体源，譬如，氩气源、氦气源等等。

作为示例，如图3所示，所述光刻胶排放系统还包括若干个喷嘴18，若干个所述喷嘴18与所述第二供液管路14远离所述缓冲罐11的一端一一对应连接，即每个所述喷嘴18分别与不同的所述第二供液管路14远离所述缓冲罐11的一端相连接。不同的所述喷嘴18用于向不同的晶圆23上喷涂光刻胶24。所述喷嘴18可以为单喷口喷嘴，也可以为多喷口喷嘴，无论是单喷口喷嘴还是多喷口喷嘴的具体结构都为本领域技术人员所知晓，此处不再累述。

作为示例，如图3所示，所述光刻胶排放系统还包括：

若干个过滤器19，若干个所述过滤器19一一对应设置于所述第二供液管路14上，即每一条所述第二供液管路14上设置一个所述过滤器19；

若干个捕集阱20，若干个所述捕集阱20一一对应设置于所述第二供液管路14上，即每一条所述第二供液管路14上设置一个所述捕集阱20，且所述捕集阱20位于所述过滤器19与所述喷嘴18之间；

若干个抽液泵21，若干个所述抽液泵21一一对应设置于所述第二供液管路14上，即每一条所述第二供液管路14上设置一个所述抽液泵21，且所述抽液泵21位于所述捕集阱20与所述喷嘴18之间；及

若干个控制阀22，若干个所述控制阀22一一对应设置于所述第二供液管路14上，即每一条所述第二供液管路14上设置一个所述控制阀22，且所述控制阀22位于所述抽液泵21与所述喷嘴18之间。

作为示例，所述过滤器19用于过滤供应的所述光刻胶内的气泡及杂质。所述过滤器19包括进液口、第一出液口及第二出液口；所述过滤器19的进液口与位于所述缓冲罐18及所述过滤器19之间的所述第二供液管路14相连通，用于向所述过滤器19内注入光刻胶；所述过滤器19的第一出液口与一排污管路(未示出)相连通，用于将过滤的气泡及杂质排放出所述过滤器19；所述过滤器19的第二出液口与位于所述过滤器19与所述捕集阱20之间的所述第二供液管路14相连通，用于将过滤后的光刻胶排放至所述过滤器19与所述捕集阱20之间的所述第二供液管路14内。

作为示例，所述捕集阱20用于捕获供给的光刻胶内的气泡。所述捕集阱20包括进液口、第一出液口及第二出液口；所述捕集阱20的进液口与所述过滤器19及所述捕集阱20之间的所述第二供液管路14相连通，用于向所述捕集阱20内供给光刻胶；所述捕集阱20的第一出液口与一排污管路(未示出)相连通，用于将捕获的气泡过滤排出所述捕集阱20；所述捕集阱20的第二出液口与位于所述捕集阱20及所述抽液泵21之间的所述第二供液管路14相连通，用于将排出捕获的气泡后的光刻胶排放至所述捕集阱20与所述抽液泵21之间。

作为示例，所述抽液泵21用于为所述第二供液管路14内的光刻胶加压，所述控制阀22用于控制所述喷嘴18处光刻胶的喷涂。

作为示例，所述控制阀22可以包括但不仅限于气动阀。当然，在其他示例中，所述控制阀22还可以为电动阀或机械阀等等。

如图1所示，本实用新型的所述光刻胶排放系统中，一个所述光刻胶供给源10、与该所述光刻胶源10相连接的所述第一供液管路12、与该所述第一供液管路12相连接的所述缓冲罐12、与该所述缓冲罐12相连接的所述排放管路13及所述第二供液管路14、与该所述第二供液管路14相连接的所述喷嘴18及设置于该所述第二供液管路14上的所述过滤器19、所述捕集阱20、所述抽液泵21及所述控制阀22共同构成一个光刻胶喷涂系统，可以实现对所述晶圆23进行光刻胶喷涂。

实施例二

请结合图1至图3参阅图4，本实用新型还提供一种光刻胶排放方法，所述光刻胶排放方法包括如下步骤：

1)提供如实施例一中所述的光刻胶排放系统；

2)使用所述光刻胶供给源、所述第一供液管路及所述第二供液管路供给光刻胶，并使用与所述缓冲罐一一对应连接的所述排液管路将所述缓冲罐内光刻胶中的气泡及杂质排出所述缓冲罐。

作为示例，步骤1)中所述的光刻胶排放系统的具体结构请参阅实施例一，此处不再累述。

作为示例，步骤2)中，使用所述光刻胶供给源10、所述第一供液管路12及所述第二供液管路14供给光刻胶的同时，使用与所述缓冲罐11一一对应连接的所述排液管路13将所述缓冲罐11内光刻胶中的气泡及杂质排出，即在供给所述光刻胶的同时，使用不同的所述排液管路13将不同的所述缓冲罐11中的所述气泡及杂质排出。

本实用新型的光刻胶排放方法通过在供给光刻胶的过程中使用与各个所述缓冲罐11一一对应连接的所述排液管路13将各所述缓冲罐11内光刻胶中的气泡及杂质排出，即使用不同的所述排液管路13将不同的所述缓冲罐11中的所述气泡及杂质排出，不会造成不同光刻胶之间交叉污染，也不会存在滤出的杂质回流污染正常的光刻胶的问题。

综上所述，本实用新型提供一种光刻胶排放系统，所述光刻胶排放系统包括：若干个光刻胶供给源，用于提供光刻胶；若干个缓冲罐，与所述光刻胶供给源一一对应连接；若干个第一供液管路，位于所述光刻胶供给源与所述缓冲罐之间，一端与所述光刻胶供给源一一对应连接，另一端与所述缓冲罐一一对应连接；若干个排液管路，与所述缓冲罐一一对应连接；及若干个第二供液管路，一端与所述缓冲罐一一对应连接。本实用新型的光刻胶排放系统通过使用不同排液管路与各个缓冲罐一一对应连接，即将不同的缓冲罐使用不同的排液管路连接，不同的光刻胶供给源之间相互独立，不会造成不同光刻胶之间交叉污染，也不会存在滤出的杂质回流污染正常的光刻胶的问题；本实用新型的光刻胶排放方法通过在供给光刻胶的过程中使用与各个缓冲罐一一对应连接的排液管路将各所述缓冲罐内光刻胶中的气泡及杂质排出，不会造成不同光刻胶之间交叉污染，也不会存在滤出的杂质回流污染正常的光刻胶的问题。

上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。