显示基板及其制造方法和显示装置及其制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示基板及其制造方法和显示装置及其制造方法。
【背景技术】
[0002]在显示技术领域，显示装置的屏幕往往都是玻璃制作的，由于玻璃有反射，因此在观看时造成用户体验变差。
[0003]现有技术中，显示装置可包括相对设置的彩膜基板和阵列基板，彩膜基板衬底基板和形成于衬底基板第一表面的多个亚像素区域，每个亚像素区域包括显示区和非显示区，显示区中设置有彩色矩阵图形，非显示区中设置有黑矩阵图形。显示区会根据需要发出相应强度的光，而非显示区为被控制线路所占的区域，因此这个区域往往会被黑矩阵图形覆盖。在实际应用中，当显示装置的屏幕为黑色时，只有反射光线进入人眼，因此用户可以清楚的看到自己的倒影；而当显示装置的屏幕显示内容时，由于显示的光线更强，因此人眼就感受不到反射的光线。
[0004]但是，当显示装置的非显示区的反射现象严重时，非显示区的反射率较高，从而对显示区的显示造成影响。
【发明内容】
[0005]本发明提供一种显示基板及其制造方法和显示装置及其制造方法，用于降低非显示区的反射率，从而降低非显示区的反射现象对显示区的显示造成的影响。
[0006]为实现上述目的，本发明提供了一种显示基板，包括:衬底基板和形成于所述衬底基板第一表面的多个亚像素区域，每个所述亚像素区域包括显示区和非显示区，所述衬底基板第二表面上形成有抗反射层，所述抗反射层与所述非显示区对应设置。
[0007]可选地，所述抗反射层包括:基底层，所述基底层混合有抗反射颗粒。
[0008]可选地，所述抗反射颗粒包括碳粉颗粒。
[0009]可选地，所述基底层的材料为树脂。
[0010]可选地，所述抗反射颗粒的直径包括1nm至100 μπι。
[0011]可选地，所述基底层的厚度包括:0.02 μπι至5 μπι。
[0012]为实现上述目的，本发明提供了一种显示装置，包括:相对设置的对置基板和上述显不基板。
[0013]为实现上述目的，本发明提供了一种显示基板的制造方法，包括:
[0014]在衬底基板的第一表面形成多个亚像素区域，每个所述亚像素区域包括显示区和非显示区；
[0015]在衬底基板的第二表面上形成抗反射层，所述抗反射层与所述非显示区对应设置。
[0016]可选地，所述抗反射层包括:基底层，所述基底层混合有抗反射颗粒；
[0017]所述在衬底基板的第二表面上形成抗反射层包括:
[0018]将所述抗反射颗粒混入所述基底层材料中；
[0019]在所述衬底基板的第二表面上形成所述基底层材料，并对所述基底层材料进行构图工艺以形成所述抗反射层。
[0020]可选地，所述在所述衬底基板的第二表面上形成所述基底层材料，并对所述基底层材料进行构图工艺以形成所述抗反射层包括:
[0021]在所述衬底基板的第二表面上形成所述基底层材料；
[0022]从所述衬底基板的第一表面对所述基底层材料进行照射，以使与所述显示区对应设置的基底层材料曝光形成曝光部分，与所述非显示区对应设置的基底层材料形成未曝光部分；
[0023]对曝光后的基底层材料进行显影以去除所述曝光部分，保留未曝光部分以形成所述抗反射层。
[0024]为实现上述目的，本发明提供了一种显示装置的制造方法，包括:
[0025]制备显示基板，所述显示基板包括衬底基板和形成于所述衬底基板第一表面的多个亚像素区域，每个所述亚像素区域包括显示区和非显示区；
[0026]制备对置基板；
[0027]将所述显不基板和所述对置基板相对设置；
[0028]在所述衬底基板第二表面上形成抗反射层，所述抗反射层与所述非显示区对应设置。
[0029]可选地，所述抗反射层包括:基底层，所述基底层混合有抗反射颗粒；
[0030]所述在所述衬底基板第二表面上形成抗反射层包括:
[0031]将所述抗反射颗粒混入所述基底层材料中；
[0032]在所述衬底基板的第二表面上形成所述基底层材料，并对所述基底层材料进行构图工艺以形成所述抗反射层。
[0033]可选地，所述在所述衬底基板的第二表面上形成所述基底层材料，并对所述基底层材料进行构图工艺以形成所述抗反射层包括:
[0034]在所述衬底基板的第二表面上形成所述基底层材料；
[0035]从所述对置基板一侧对所述基底层材料进行照射，以使与所述显示区对应设置的基底层材料曝光形成曝光部分，与所述非显示区对应设置的基底层材料形成未曝光部分；
[0036]对曝光后的基底层材料进行显影以去除所述曝光部分，保留未曝光部分以形成所述抗反射层。
[0037]本发明具有以下有益效果:
[0038]本发明提供的显示基板及其制造方法和显示装置及其制造方法的技术方案中，在衬底基板第二表面上形成有抗反射层，抗反射层与非显示区对应设置，抗反射层可对照射到非显示区的光线进行吸收或者漫反射，降低了非显示区的反射率，从而极大的降低了非显示区的反射现象对显示区的显示造成的影响。
【附图说明】
[0039]图1为本发明实施例一提供的一种显不基板的结构不意图；
[0040]图2为本发明实施例三提供的一种显示基板的制造方法的流程图；
[0041]图3a为实施例三中形成亚像素区域的示意图；
[0042]图3b为实施例三中形成基底层材料的示意图；
[0043]图3c为实施例三中对基底层材料进行曝光的示意图；
[0044]图3d为实施例二中对曝光后的基底层材料进彳丁显影的不意图；
[0045]图4为本发明实施例四提供的一种显示装置的制造方法的流程图；
[0046]图5a为实施例四中显不基板和对置基板相对设置的不意图；
[0047]图5b为实施例四中形成基底层材料的不意图；
[0048]图5c为实施例四中对基底层材料进彳丁曝光的不意图；
[0049]图5d为实施例四中对曝光后的基底层材料进彳丁显影的不意图；
[0050]图5e为实施例四中烘烤后的抗反射层的示意图。
【具体实施方式】
[0051]为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明提供的显示基板及其制造方法和显示装置及其制造方法进行详细描述。
[0052]图1为本发明实施例一提供的一种显不基板的结构不意图，如图1所不，该显不基板包括:衬底基板11和形成于衬底基板11第一表面的多个亚像素区域12，每个亚像素区域12包括显示区121和非显示区122，衬底基板11第二表面上形成有抗反射层13，抗反射层13与非显示区122对应设置。
[0053]显示区121中设置有用于显示的结构，例如:彩色矩阵图形、像素电极等。非显示区122中设置有用于分隔显示区121的结构或者布线结构，例如:黑矩阵图形、薄膜晶体管、栅线、数据线等，因此非显示区122为不透光区域。
[0054]本实施例中，显示基板可以为彩膜基板，则显示区121中设置有彩色矩阵图形，非显示区122中设置有黑矩阵图形。
[0055]本实施例中，抗反射层13可包括:基底层131，基底层131混合有抗反射颗粒132。其中，抗反射颗粒132可以为可吸光的颗粒，优选地，抗反射颗粒13