基底层材料初步硬化。
[0101]步骤2042c、从对置基板一侧对基底层材料进行照射，以使与显示区对应设置的基底层材料曝光形成曝光部分，与非显示区对应设置的基底层材料形成未曝光部分。
[0102]图5c为实施例四中对基底层材料进彳丁曝光的不意图，如图5c所不，米用光源14从对置基板2 —侧对基底层材料133进行照射，以使与显示区121对应设置的基底层材料133曝光形成曝光部分134，与非显示区122对应设置的基底层材料133形成未曝光部分135。
[0103]由于显示区121为透光区域，因此光源14发出的光线会透过显示区121并使与显示区121对应设置的基底层材料133曝光；由于非显示区122为不透光区域，光源14发出的光线被非显示区122阻挡不会透过非显示区122，因此与显示区121对应设置的基底层材料133不会被曝光。本实施例采用非显示区122对光源14发出的光线进行遮挡，无需再使用掩膜板，采用了自对位技术，从而降低了制造成本。
[0104]在实际应用中，可选地，还可以采用光源从显示基板的第二表面对基底层材料进行照射，但是此种方案需要在显示基板的第二表面的上方设置掩膜板。
[0105]步骤2042d、对曝光后的基底层材料进行显影以去除曝光部分，保留未曝光部分以形成抗反射层。
[0106]图5d为实施例四中对曝光后的基底层材料进彳丁显影的不意图，如图5d所不，对曝光后的基底层材料进行显影，去除曝光部分134且保留未曝光部分以形成基底层131。去除曝光部分134时，曝光的基底层材料和抗反射颗粒均被去除。
[0107]步骤1022e、对抗反射层进行后烘烤。
[0108]图5e为实施例四中烘烤后的抗反射层的示意图，如图5e所示，本步骤中后烘烤工艺可以使抗反射层进一步硬化，后烘烤后的抗反射层如图5e所示。
[0109]本实施例提供的显示装置的制造方法可用于制造上述实施例二提供的显示装置，此处不再赘述。
[0110]本实施例的显示装置的制造方法与上述实施例三的区别在于:实施例三是在制造显示基板的过程中将抗反射层形成于衬底基板的第一表面上，而后在形成显示装置时再将形成有抗反射层的显示基板与对置基板对盒，但是由于抗反射层的表面是非平整表面，会对后续搬运显不基板广生影响，从而影响对盒工艺；而本实施例中是在显不基板和对置基板完成对盒之后，再在显示基板的衬底基板的第二表面形成抗反射层。本实施例在对盒工艺之后再形成抗反射层，从而避免了先形成抗反射层时对后续对盒工艺产生影响。
[0111]本实施例提供的显示装置的制造方法的技术方案中，在衬底基板第二表面上形成有抗反射层，抗反射层与非显示区对应设置，抗反射层可对照射到非显示区的光线进行吸收或者漫反射，降低了非显示区的反射率，从而极大的降低了非显示区的反射现象对显示区的显示造成的影响。
[0112]可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种显示基板，其特征在于，包括:衬底基板和形成于所述衬底基板第一表面的多个亚像素区域，每个所述亚像素区域包括显示区和非显示区，所述衬底基板第二表面上形成有抗反射层，所述抗反射层与所述非显示区对应设置。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述抗反射层包括:基底层，所述基底层混合有抗反射颗粒。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述抗反射颗粒包括碳粉颗粒。
4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述基底层的材料为树脂。
5.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述抗反射颗粒的直径包括1nm至100 μ m0
6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述基底层的厚度包括:0.02 μπι至5 μ m0
7.—种显示装置，其特征在于，包括:相对设置的对置基板和权利要求1至6任一所述的显不基板。
8.一种显示基板的制造方法，其特征在于，包括: 在衬底基板的第一表面形成多个亚像素区域，每个所述亚像素区域包括显示区和非显不区; 在衬底基板的第二表面上形成抗反射层，所述抗反射层与所述非显示区对应设置。
9.根据权利要求8所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述抗反射层包括:基底层，所述基底层混合有抗反射颗粒； 所述在衬底基板的第二表面上形成抗反射层包括: 将所述抗反射颗粒混入所述基底层材料中； 在所述衬底基板的第二表面上形成所述基底层材料，并对所述基底层材料进行构图工艺以形成所述抗反射层。
10.根据权利要求9所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述在所述衬底基板的第二表面上形成所述基底层材料，并对所述基底层材料进行构图工艺以形成所述抗反射层包括: 在所述衬底基板的第二表面上形成所述基底层材料； 从所述衬底基板的第一表面对所述基底层材料进行照射，以使与所述显示区对应设置的基底层材料曝光形成曝光部分，与所述非显示区对应设置的基底层材料形成未曝光部分; 对曝光后的基底层材料进行显影以去除所述曝光部分，保留未曝光部分以形成所述抗反射层。
11.一种显示装置的制造方法，其特征在于，包括: 制备显示基板，所述显示基板包括衬底基板和形成于所述衬底基板第一表面的多个亚像素区域，每个所述亚像素区域包括显示区和非显示区； 制备对置基板； 将所述显示基板和所述对置基板相对设置； 在所述衬底基板第二表面上形成抗反射层，所述抗反射层与所述非显示区对应设置。
12.根据权利要求11所述的显示装置的制造方法，其特征在于，所述抗反射层包括:基底层，所述基底层混合有抗反射颗粒； 所述在所述衬底基板第二表面上形成抗反射层包括: 将所述抗反射颗粒混入所述基底层材料中； 在所述衬底基板的第二表面上形成所述基底层材料，并对所述基底层材料进行构图工艺以形成所述抗反射层。
13.根据权利要求12所述的显示装置的制造方法，其特征在于，所述在所述衬底基板的第二表面上形成所述基底层材料，并对所述基底层材料进行构图工艺以形成所述抗反射层包括: 在所述衬底基板的第二表面上形成所述基底层材料； 从所述对置基板一侧对所述基底层材料进行照射，以使与所述显示区对应设置的基底层材料曝光形成曝光部分，与所述非显示区对应设置的基底层材料形成未曝光部分； 对曝光后的基底层材料进行显影以去除所述曝光部分，保留未曝光部分以形成所述抗反射层。
【专利摘要】本发明公开了一种显示基板及其制造方法和显示装置及其制造方法。该显示基板包括：衬底基板和形成于所述衬底基板第一表面的多个亚像素区域，每个所述亚像素区域包括显示区和非显示区，所述衬底基板第二表面上形成有抗反射层，所述抗反射层与所述非显示区对应设置。本发明提供的技术方案中，在衬底基板第二表面上形成有抗反射层，抗反射层与非显示区对应设置，抗反射层可对照射到非显示区的光线进行吸收或者漫反射，降低了非显示区的反射率，从而极大的降低了非显示区的反射现象对显示区的显示造成的影响。
【IPC分类】G02F1-1333
【公开号】CN104570445
【申请号】CN201510018732
【发明人】武延兵
【申请人】京东方科技集团股份有限公司
【公开日】2015年4月29日
【申请日】2015年1月14日