一种液晶显示面板的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶显示领域，特别是涉及一种液晶显示面板的制作方法。
【背景技术】
[0002]随着科技的发展，智能手机和平板电脑的出现对于中小尺寸的液晶显示面板提出了更高规格的要求，其中一个方向就是液晶显示面板的窄边框设计。
[0003]窄边框设计可以减小液晶显示面板边缘的无效显示区域，在相同的显示面积下，使得液晶显示面板的尺寸更小。但同时液晶显示面板的设计难度也变大许多，比如驱动电路的空间利用率需要提高到极致等。现有的中高端的液晶显示面板在非驱动电路侧的边框设计为小于等于1mm。驱动电路侧的边框设计则为5mm左右。
[0004]但是上述驱动电路侧的边框太靠近液晶显示面板的有效显示区域(AA区)，导致对驱动芯片进行邦定(bonding)操作时，有效显示区的基板玻璃由于局部温度过高而受热膨胀，向液晶显示面板的内侧凸出。这样受热膨胀区域的液晶盒的间隙变小，容易出现色斑(mura)的不良。
[0005]故，有必要提供一种液晶显示面板的制作方法，以解决现有技术所存在的问题。
【发明内容】
[0006]本发明的目的在于提供一种可以避免液晶盒的间隙不均的液晶显示面板的制作方法，以解决现有的液晶显示面板的制作方法中由于驱动芯片的邦定操作，导致液晶盒的部分间隙变小，从而容易出现色斑不良的技术问题。
[0007]为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下:
[0008]本发明实施例提供一种液晶显示面板的制作方法，其包括:
[0009]在第一基板衬底上制作阵列元件，以形成阵列基板；
[0010]在第二基板衬底上制作黑色矩阵以及彩膜色阻，以形成彩膜基板；
[0011]在所述彩膜基板上设置彩膜平坦化层，并在所述彩膜基板的第二形变区域设置一所述彩膜平坦化层的凹槽；
[0012]使用所述阵列基板和所述彩膜基板制作液晶盒，并在所述液晶盒内注入液晶分子；以及
[0013]在所述阵列基板的非显示区域设置驱动芯片，以在所述阵列基板的第一形变区域形成一所述阵列基板的凸起，其中所述阵列基板的第一形变区域的位置和所述彩膜基板的第二形变区域的位置相对应，所述凹槽的高度和所述凸起的高度大致相同。
[0014]在本发明所述的液晶显示面板的制作方法中，所述在第一基板衬底上制作阵列元件，以形成阵列基板的步骤之后还包括:
[0015]在所述阵列基板的显示区域设置第一配向层。
[0016]在本发明所述的液晶显示面板的制作方法中，所述在第一基板衬底上制作阵列元件，以形成阵列基板的步骤之后还包括:
[0017]在所述阵列基板上设置阵列平坦化层；以及
[0018]在所述阵列基板的显示区域的所述阵列平坦化层上设置第一配向层。
[0019]在本发明所述的液晶显示面板的制作方法中，所述在所述彩膜基板上设置彩膜平坦化层，并在所述彩膜基板的第二形变区域设置一所述彩膜平坦化层的凹槽的步骤之后还包括:
[0020]在所述彩膜基板的所述彩膜平坦化层上设置第二配向层。
[0021]在本发明所述的液晶显示面板的制作方法中，所述在彩膜基板上设置彩膜平坦化层，并在所述彩膜基板的第二形变区域设置一所述彩膜平坦化层的凹槽的步骤包括:
[0022]在所述彩膜基板上设置彩膜平坦化层；以及
[0023]使用半色调光罩，对所述彩膜平坦化层进行图形化处理，使得所述彩膜基板的第二形变区域形成一所述彩膜平坦化层的凹槽。
[0024]在本发明所述的液晶显示面板的制作方法中，所述在彩膜基板上设置彩膜平坦化层，并在所述彩膜基板的第二形变区域设置一所述彩膜平坦化层的凹槽的步骤包括:
[0025]通过图形化处理，在所述彩膜基板上设置第一彩膜平坦化层，其中所述彩膜基板的第二形变区域并未设置所述第一彩膜平坦化层；以及
[0026]在设置所述第一彩膜平坦化层的所述彩膜基板上设置第二彩膜平坦化层，使得所述彩膜基板的第二形变区域形成一所述第二彩膜平坦化层的凹槽。
[0027]本发明实施例还提供一种液晶显示面板的制作方法，其包括:
[0028]在第一基板衬底上制作显示元件，以形成阵列基板；
[0029]在所述阵列基板上设置阵列平坦化层，并通过图像化处理使得所述阵列基板的第一形变区域上的所述阵列平坦化层形成一凹槽；
[0030]在第二基板衬底上制作黑色矩阵以及彩膜色阻，以形成彩膜基板；
[0031 ] 在所述彩膜基板上设置彩膜平坦化层；以及
[0032]使用所述阵列基板和所述彩膜基板制作液晶盒，并在所述液晶盒内注入液晶分子;
[0033]在所述阵列基板的非显示区域设置驱动芯片，以在所述阵列基板的第一形变区域形成一所述阵列基板的凸起；其中所述凹槽的高度和所述凸起的高度大致相同。
[0034]在本发明所述的液晶显示面板的制作方法中，所述在所述阵列基板上设置阵列平坦化层，并通过图像化处理使得所述阵列基板的第一形变区域上的所述阵列平坦化层形成一凹槽的步骤之后还包括:
[0035]在所述阵列基板的显示区域的所述阵列平坦化层上设置第一配向层；
[0036]所述在所述彩膜基板上设置彩膜平坦化层的步骤之后还包括:
[0037]在所述彩膜基板的所述彩膜平坦化层上设置第二配向层。
[0038]在本发明所述的液晶显示面板的制作方法中，所述在所述阵列基板上设置阵列平坦化层，并通过图像化处理使得所述阵列基板的第一形变区域上的所述阵列平坦化层形成一凹槽的步骤包括:
[0039]在所述阵列基板上设置阵列平坦化层；以及
[0040]使用半色调光罩，对所述阵列平坦化层进行图形化处理，使得所述阵列基板的第一形变区域上的所述阵列平坦化层形成一凹槽。
[0041]在本发明所述的液晶显示面板的制作方法中，所述在所述阵列基板上设置阵列平坦化层，并通过图像化处理使得所述阵列基板的第一形变区域上的所述阵列平坦化层形成一凹槽的步骤包括:
[0042]通过图形化处理，在所述阵列基板上设置第一阵列平坦化层，其中所述阵列基板的第一形变区域并未设置所述第一阵列平坦化层；以及
[0043]在设置所述第一阵列平坦化层的所述阵列基板上设置第二阵列平坦化层，使得所述阵列基板的第一形变区域上的所述阵列平坦化层形成一凹槽。
[0044]相较于现有的液晶显示面板的制作方法，本发明的液晶显示面板的制作方法通过彩膜基板的彩膜平坦化层或阵列基板的阵列平坦化层，对由于驱动芯片邦定产生的阵列基板的凸起进行平坦化，避免了液晶盒的间隙不均；解决了现有的液晶显示面板的制作方法中由于驱动芯片的邦定操作，导致液晶盒的部分间隙变小，从而容易出现色斑不良的技术冋题。
[0045]为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下:
【附图说明】
[0046]图1为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的流程图；
[0047]图2为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的步骤S105后的结构示意图；
[0048]图3为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的步骤S103的流程图之一；
[0049]图4A为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的步骤S1031A后的彩膜基板的结构示意图；
[0050]图4B为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的步骤S1032A后的彩膜基板的结构示意图；
[0051]图5为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的步骤S103的流程图之二 ；
[0052]图6为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的步骤S1032B后的彩膜基板的结构示意图；
[0053]图7为本发明的液晶显示面板的制作方法的第二优选实施例的流程图；
[0054]图8为本发明的液晶显示面板的制作方法的第二优选实施例的步骤S706后的结构示意图；
[0055]图9为本发明的液晶显示面板的制作方法的第二优选实施例的步骤S702的流程图之一；
[0056]图1OA为本发明的液晶显示面板的制作方法的第二优选实施例的步骤S7021A后的彩膜基板的结构示意图；
[0057]图1OB为本发明的液晶显示面板的制作方法的第二优选实施例的步骤S7022A后的彩膜基板的结构示意图；
[0058]图11为本发明的液晶显示面板的制作方法的第二优选实施例的步骤S702的流程图之二 ；
[0059]图12为本发明的液晶显示面板的制作方法的二优选实施例的步骤S7022B后的彩膜基板的结构示意图。
【具体实施方式】<