取向膜涂敷检测设备的制造方法

文档序号:9431454阅读:464来源:国知局
取向膜涂敷检测设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示领域,尤其涉及一种取向膜涂敷检测设备。
【背景技术】
[0002]液晶显示面板(TFT-1XD)具有显示质量高、功耗低、无辐射等优点,近几年发展十分迅速,并在各个领域得到了广泛的应用,现有的液晶显示面板主要包括阵列基板、彩膜基板和液晶层,在现有的液晶显示面板制作工艺中,需要在彩膜基板以及阵列基板(TFT基板)上涂敷一层取向膜,并在取向膜上形成取向沟槽来使液晶分子取向、旋转而进行光的传递,从而实现显示。
[0003]现有的取向膜涂敷工艺主要采取APR版转印技术将取向液涂敷在基板上,然而,在取向液的固化过程中,取向液边缘会形成一层厚度不均的区域,为了确保基板上显示区域厚度一致和图像显示质量,在涂敷完成后,需要人工对涂敷效果进行测试,要保证面板的有效区域全部涂敷取向膜,并使厚度不均的区域距离基板上的显示区域大于预设距离(如0.1mm),传统的取向膜涂敷效果检测方法具体为:在显微镜下通过人为的移动镜头,通过在显示屏的成像来测量取向膜边缘的距离,然而,由于上述检测方法主要采用人工手动进行检测,无法实现自动化作业,不利于产能的提高。

【发明内容】

[0004](一 )要解决的技术问题
[0005]本发明要解决的技术问题是:如何实现取向膜涂敷效果的自动化检测。
[0006]( 二)技术方案
[0007]为解决上述技术问题,本发明的技术方案提供了一种取向膜涂敷检测设备,包括:
[0008]反射率测量装置,用于测量涂敷有取向膜的基板上预设路径上的光反射率,所述预设路径经所述基板上显示区域的边缘和所述取向膜的边缘;
[0009]距离测量装置,用于根据所述反射率测量装置检测的光反射率获取所述显示区域的边缘与所述取向膜的边缘之间的距离。
[0010]优选地,所述反射率测量装置包括:
[0011]光发射单元,用于向所述预设路径上的多个位置发射测量光线;
[0012]光接收单元,用于接收所述预设路径上的所述多个位置的反射光线;
[0013]光分析单元,用于根据所述测量光线和所述反射光线得到所述预设路径上的所述多个位置的光反射率。
[0014]优选地,还包括显微镜镜头。
[0015]优选地,所述光发射单元集成在所述显微镜镜头中。
[0016]优选地,还包括移动机构,用于控制所述基板匀速运动以使所述反射率测量装置测量所述预设路径上多个位置的光反射率。
[0017]优选地,所述距离测量装置包括:
[0018]计时单元,用于当测量至所述显示区域的边缘时发生第一光反射率突变时记录第一时刻,以及当测量至所述取向膜的边缘时发生第二光反射率突变时记录第二时刻;
[0019]第一距离计算单元,用于根据所述第一时刻、所述第二时刻以及所述匀速运动的速度计算所述显示区域的边缘与所述取向膜的边缘之间的距离。
[0020]优选地,所述距离测量装置包括:
[0021]位置获取单元,用于当测量至所述显示区域的边缘时发生第一光反射率突变时记录所述基板的第一坐标位置,以及当测量至所述取向膜的边缘时发生第二光反射率突变时记录所述基板的第二坐标位置;
[0022]第二距离计算单元,用于根据所述第一坐标位置、所述第二坐标位置计算所述显示区域的边缘与所述取向膜的边缘之间的距离。
[0023]优选地,还包括数据处理装置,所述数据处理装置包括信息生成单元,用于记录通过在不同的所述预设路径检测光反射率从而获取的不同位置处的所述距离,并生成相应的数据文件。
[0024]优选地,所述数据处理装置还包括报警单元,用于当所述距离超出预设数值范围时报警。
[0025]优选地,所述基板为阵列基板,所述显示区域的边缘为所述阵列基板上最外侧的栅线背向所述阵列基板中心的边缘或者为所述阵列基板上最外侧的数据线背向所述阵列基板中心的边缘。
[0026](三)有益效果
[0027]本发明提供的取向膜涂敷检测设备,通过利用显示区域边缘处的光反射率变化和取向膜边缘的反射率变化计算两者之间的距离,不但能够实现取向膜涂敷效果的自动检测,提高产能,还能提高测量精度,解决人为测量带来的误差。
【附图说明】
[0028]图1是本发明实施方式提供的一种取向膜涂敷检测设备的示意图;
[0029]图2是本发明实施方式提供的一种阵列基板的示意图;
[0030]图3是图2中虚线框内的放大示意图;
[0031]图4是对图3中阵列基板进行取向膜涂敷检测的示意图;
[0032]图5是对图3中阵列基板进行检测得到的反射率变化示意图;
[0033]图6是本发明实施方式提供的一种取向膜涂敷检测设备的示意图。
【具体实施方式】
[0034]下面结合附图和实施例,对本发明的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。
[0035]图1是本发明实施方式提供了一种取向膜涂敷检测设备的示意图,该取向膜涂敷检测设备包括:
[0036]反射率测量装置100,用于测量涂敷有取向膜的基板上预设路径上的光反射率,所述预设路径经所述基板上显示区域的边缘和所述取向膜的边缘;
[0037]距离测量装置200,用于根据所述反射率测量装置检测的光反射率获取所述显示区域的边缘与所述取向膜的边缘之间的距离。
[0038]本发明实施方式提供的取向膜涂敷检测设备,通过利用显示区域边缘处的光反射率变化和取向膜边缘的反射率变化计算两者之间的距离,不但能够实现取向膜涂敷效果的自动检测,提高产能,还能提高测量精度,解决人为测量带来的误差。
[0039]优选地,反射率测量装置100可以选取垂直显示区域的边缘的路径作为测量的预设路径;
[0040]例如,对于阵列基板,其上设置有多条纵横交错的栅线和数据线,通过该多条纵横交错的栅线和数据线在阵列基板上形成显示区域,因此,对于阵列基板上用于显示的显示区域,其边缘即为位于最外侧的栅线背向阵列基板中心的边缘以及最外侧的数据线背向阵列基板中心的边缘,并且由于栅线和数据线通常采用铝、钕或钼等光透过率几乎为零的金属材料,当如图2所示在阵列基板300的显示区域310上形成取向膜320后,能够在阵列基板上形成反射率差异较大的三种区域,分别为未设置有金属线(栅线或数据线)且未覆盖有取向膜的区域、仅覆盖有取向膜但未设置有金属线的区域、设置有金属线且覆盖有取向膜的区域,且三种区域的反射率依次增大,通过利用上述三种区域的光反射率不同可以测量显示区域310的边缘与形成的取向膜320的边缘之间的距离;
[0041]图3是图2中虚线框330内的放大示意图,如图3所示,可以沿垂直最外侧的数据线311的路径400测量反射率,测量的起始点可以在数据线311上的位置,通过控制反射率测量装置与阵列基板的相对移动,从而测量路径400上多个位置的反射率,例如,可以如图4所示,首先将反射率测量装置放置于最外侧数据线311的上方,再控制阵列基板沿垂直数据线311的方向匀速运动,在匀速运动过程中,反射率测量装置可以等时间间隔测量反射率,并将测量的反射率发送至距离测量装置,距离测量装置记录测量每一反射率数据时阵列基板的位置或者匀速运动的时间,在测量的过程中,可以将当前测得的反射率与上次测得的反射率进行比较,若两者之间的差值大于预设值,则可认为发生反射率突变,例如,通过记录阵列基板的移动距离其得到的坐标数据如图5所示,如图5所示,在阵列基板的运动过程中,在移动距离为A时发生了第一次反射率突变,在移动距离为B时发生了第二次反射率突变,通过上述分析可知,当阵列基板移动距离为A时,其测量反射率的位置为数据线311的边缘,当移动距离为B时,其测量反射率的位置为取向膜的边缘,通过将距离B减去A从而能够得到该位置处显示区域310的边缘与形成的取向膜320的边缘之间的距离。
[0042]其中,在本实施方式中,反射率测量装置用于测量基板
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