一种蓝玻璃红外截止滤光片及其镀膜方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及滤光片技术领域，特别涉及一种蓝玻璃红外截止滤光片及其镀膜方法。
【背景技术】
[0002]红外截止滤光片是一种允许可见光透过而截止或反射红外光的光学滤光片，主要用于数码相机、手机、电脑摄像头、监视器、可视电话等，可使通过摄相镜头后的光波滤去高频段，只让一定范围内的低频光波通过。在镜头与CCD或CMOS图像传感器之间加上红外截止滤光片，能有效抑制高于CCD或CMOS图像传感器空间频率的光波通过而引起波纹扰动，并有效地抑制红外光波，提高彩色CCD、CMOS图像传感器有效分辨率和彩色还原性，使图像清晰和稳定。蓝玻璃红外截止滤光片是通过在蓝玻璃表面镀制红外截止膜加上自身的吸收作用来达到截止红外波的效果。蓝玻璃滤光片可以解决在大角度入射时对红外光波长偏移量，并且可以避免传统红色滤光片反射光的二次成像，使图像色彩更加柔和、自然。由于蓝玻璃本身材质、膜层结构和镀膜工艺的原因，膜层相对与普通滤光片容易脱落，在温度85°C、湿度85RH环测条件下，400小时左右即脱膜。
【发明内容】
[0003]本发明的目的在于克服蓝玻璃易脱膜的问题，从而提供一种膜层牢固度得到改善的蓝玻璃红外截止滤光片。
[0004]本发明的另一目的在于提供一种蓝玻璃红外截止滤光片的镀膜方法。
[0005]为了达到上述设计目的，本发明解决其技术所采用的技术方案是:一种蓝玻璃红外截止滤光片，包括基板，其特征在于:在基板上依次设有缓冲层和复合膜层，所述复合膜层由高折射率材料和低折射率材料交替叠合形成。
[0006]所述缓冲层由MgF2、A1203、H4、Si02S Ti 305材料的一种或两种以上组合构成的膜层。
[0007]所述的高折射率材料是Ti305。
[0008]所述的低折射率材料是Si02。
[0009]—种蓝玻璃红外截止滤光片的镀膜方法，其特征在于按下述步骤镀膜:清洗基板表面，由MgF2、A1203、H4、Si02S Ti 305材料中的一种或两种以上使用电子枪沉积镀膜，镀膜厚度为5~30nm，形成缓冲层；缓冲层上镀制复合膜层，复合膜层的第一层使用离子源辅助沉积成膜，该第一层离子源挡板延迟0到50s打开，其余层离子源挡板提前0_3s打开；然后与低折射率材料Si02、高折射率材料Ti305交替覆盖在基板上。
[0010]一种蓝玻璃红外截止滤光片的镀膜方法，其特征在于按下述步骤镀膜:清洗基板表面，将MgF2、A1203、H4、Si02s Ti 305材料中的一种或两种以上使用离子源辅助沉积，厚度设置较厚，缓冲层第一层离子源挡板延迟0-60s打开，复合层中各膜层的离子源挡板提前0-3s打开；然后与低折射率材料Si02、高折射率材料Ti305交替覆盖在基板上。
[0011]本发明有益效果:该蓝玻璃红外截止滤光片，在基板上依次设有缓冲层和复合膜层，所述复合膜层由高折射率材料和低折射率材料交替叠合形成。缓冲层由MgF2、Al203、H4、Si02S Ti 305材料的一种或两种以上组合构成的膜层，可很好的与基板结合，提高了复合膜层的结合能力。在镀膜方法中，缓冲层由MgF2、Al203、H4、Si02S Ti 305材料的一种或两种以上组合不使用离子源辅助沉积镀膜，且厚度设置较薄，约为5~30nm。从复合层的第一层开始使用离子源辅助成膜，复合层的第一层离子源挡板延迟0到50s打开，其余层离子源挡板提前0-3s打开。在上述镀膜中缓冲层厚度设置较薄，在缓冲层镀膜结束后只能形成海峡状沟道，经过继续沉积，海峡状沟道将收缩成孔眼，最后孔眼消失形成连续的膜。而第二层挡板延迟打开可以避免离子源在没有形成薄膜结构时损伤基板，造成膜层容易脱落，耐环测性能差。镀制的蓝玻璃滤光片，在温度85°C、湿度85RH环测条件下，可以做到1000小时不脱膜。
[0012]作为另一种镀膜方法，缓冲层由MgF2、Al203、H4、Si02S Ti 305材料的一种或两种以上组合使用离子源辅助沉积，厚度设置较厚。缓冲层的离子源挡板延迟0-60s打开，复合层的各膜层离子源挡板提前0-3s打开。该镀膜方法中第一层缓冲层厚度设置较厚，在缓冲层镀膜开始后一段时间只能形成海峡状沟道，经过继续沉积，海峡状沟道将收缩成孔眼，最后孔眼消失形成连续的膜。缓冲层离子源挡板延迟打开可以避免离子源在没有形成薄膜结构时损伤基板，造成膜层容易脱落，耐环测性能差。镀制的蓝玻璃滤光片，在温度85°C、湿度85RH环测条件下，可以做到800小时不脱膜。
[0013]本发明专利的蓝玻璃红外滤光片的生产方法，解决了蓝玻璃滤光片由于本身材质受损伤导致的膜层脱落，从而提高了蓝玻璃滤光片的品质。
【附图说明】
[0014]图1为本发明一种蓝玻璃红外截止滤光片结构示意图。
[0015]图2为另一种镀膜结构示意图。
【具体实施方式】
[0016]下面结合附图对本发明的【具体实施方式】做详细描述。
[0017]如图1、2所示的一种蓝玻璃红外截止滤光片，包括基板1，在基板上依次设有缓冲层2和复合膜层，所述复合膜层由高折射率材料4和低折射率材料3交替叠合形成。所述缓冲层由MgF2、A1203、H4、Si02S Ti 305材料的一种或两种以上组合构成的膜层。所述的高折射率材料是Ti305。所述的低折射率材料是Si02。
[0018]—种蓝玻璃红外截止滤光片的镀膜方法，其特征在于按下述步骤镀膜:清洗基板表面，由MgF2、Al203、H4、Si02S Ti 305材料中的一种或两种以上材料电子枪沉积镀膜)，镀膜厚度为5~30nm，形成缓冲层；缓冲层上镀制复合膜层，复合膜层的第一层使用离子源辅助沉积成膜，第一层离子源挡板延迟0到50s打开，复合膜层的其余层离子源挡板提前0-3s打开；然后与低折射率材料Si02、高折射率材料Ti305交替覆盖在基板上。
[0019]—种蓝玻璃红外截止滤光片的镀膜方法，其特征在于按下述步骤镀膜:清洗基板表面，将MgF2、A1203、H4、Si02S Ti 305材料中的一种或两种以上使用离子源辅助沉积，厚度设置较厚，第一层缓冲层离子源挡板延迟0-60s打开，复合层各膜层离子源挡板提前0-3s打开；然后与低折射率材料Si02、高折射率材料Ti305交替覆盖在基板上。
[0020]本发明专利的蓝玻璃红外滤光片的生产方法，解决了蓝玻璃滤光片由于本身材质受损伤导致的膜层脱落，从而提高了蓝玻璃滤光片的品质。
【主权项】
1.一种蓝玻璃红外截止滤光片，包括基板，其特征在于:在基板上依次设有缓冲层和复合膜层，所述复合膜层由高折射率材料和低折射率材料交替叠合形成。2.根据权利要求1所述的一种蓝玻璃红外截止滤光片，其特征在于:所述缓冲层由MgF2、A1203、H4、Si02S Ti 305材料的一种或两种以上组合构成的膜层。3.根据权利要求2所述的一种蓝玻璃红外截止滤光片，其特征在于:所述的高折射率材料是Ti305。4.根据权利要求3所述的一种蓝玻璃红外截止滤光片，其特征在于:所述的低折射率材料是Si02。5.一种蓝玻璃红外截止滤光片的镀膜方法，其特征在于按下述步骤镀膜:清洗基板表面，由MgF2、A1203、H4、Si02S Ti 305材料中的一种或两种以上使用电子枪沉积镀膜，镀膜厚度为5~30nm，形成缓冲层；缓冲层上镀制复合膜层，复合膜层的第一层使用离子源辅助沉积成膜，该第一层离子源挡板延迟0到50s打开，其余层离子源挡板提前0_3s打开；然后与低折射率材料Si02、高折射率材料Ti305交替覆盖在基板上。6.一种蓝玻璃红外截止滤光片的镀膜方法，其特征在于按下述步骤镀膜:清洗基板表面，将1^2、六1203、!14、5102或11 305材料中的一种或两种以上使用离子源辅助沉积，厚度设置较厚，缓冲层第一层离子源挡板延迟0-60s打开，复合层中各膜层的离子源挡板提前0-3s打开；然后与低折射率材料Si02、高折射率材料Ti305交替覆盖在基板上。
【专利摘要】本发明公开了一种蓝玻璃红外截止滤光片及其镀膜方法，滤光片包括基板，在基板上依次设有缓冲层和复合膜层，所述复合膜层由高折射率材料和低折射率材料交替叠合形成。所述缓冲层由MgF2、Al2O3、H4或Ti3O5材料的一种或两种以上组合构成的膜层，所述高折射率材料是Ti3O5，所述低折射率材料是SiO2。镀膜方法是将MgF2、Al2O3、H4、SiO2或Ti3O5材料中的一种或两种以上材料电子枪沉积镀膜在基板表面，再镀制复合膜层，复合膜层的第一层使用离子源辅助沉积成膜，第一层离子源挡板延迟0到50s打开，其余层离子源挡板提前0-3s打开；然后由SiO2、Ti3O5交替镀制在缓冲层上。本发明解决了蓝玻璃滤光片由于本身材质受损伤导致的膜层脱落，提高了蓝玻璃滤光片的品质。
【IPC分类】G02B1/10, G02B5/28
【公开号】CN105403942
【申请号】CN201510871554
【发明人】孙波, 焦涛, 付勇, 李智超
【申请人】利达光电股份有限公司
【公开日】2016年3月16日
【申请日】2015年12月2日