减薄装置及其使用方法

文档序号:9686529阅读:709来源:国知局
减薄装置及其使用方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示领域,特别涉及一种减薄装置及其使用方法。
【背景技术】
[0002]随着液晶显示屏(英文:Liquid Crystal Display;简称:LCD)向轻薄化发展,液晶显示屏需要使用更加轻薄的衬底基板,因此,需要对衬底基板进行减薄处理。
[0003]相关技术中,在对衬底基板进行减薄处理时,通常使用减薄装置向衬底基板表面喷淋减薄溶液,使得衬底基板与减薄溶液进行化学反应,实现衬底基板的薄形化。具体的,衬底基板的材质为二氧化硅(S12),减薄溶液为氢氟酸(HF),当减薄装置向衬底基板表面喷淋减薄溶液时,S12能够和HF发生化学反应,并生成氟硅酸(H2SiF6)和水(H2O),生成的H2SiF6和H2O能够随着减薄溶液的流动脱离衬底基板表面。
[0004]由于相关技术中,减薄装置喷出的减薄液对衬底基板表面的各个位置的冲击力不同,使得衬底基板表面会形成多个凹点,因此,衬底基板表面的平整度较低。

【发明内容】

[0005]为了解决衬底基板表面的平整度较低的问题,本发明提供了一种减薄装置及其使用方法。所述技术方案如下:
[0006]—方面,提供了一种减薄装置,所述减薄装置包括:出液组件、承载组件和静电场组件,
[0007]所述承载组件上用于承载待减薄结构的承载面与水平面存在倾角;
[0008]所述出液组件的出液口位于所述承载面较高的一端,所述出液口的出液方向平行于所述承载面,所述出液组件用于向所述待减薄结构的待减薄表面输出减薄液;
[0009]所述静电场组件用于形成静电场,所述静电场的电场源位于所述承载面未承载有所述待减薄结构的一侧,所述待减薄表面的减薄液位于所述静电场内。
[0010]可选的,所述减薄装置还包括:回收组件,所述回收组件与所述出液组件相连通,
[0011]所述回收组件的进液口位于所述承载面较低的一端,所述回收组件用于收集流过所述待减薄表面的减薄液,并将收集到的减薄液传输至所述出液组件。
[0012]可选的,所述出液组件还用于检测待输出的减薄液的浓度;
[0013]所述出液组件还用于在待输出的减薄液的浓度大于预设浓度时,向所述待减薄表面输出减薄液。
[0014]可选的,所述承载组件为棱台,所述棱台的侧面为所述承载面。
[0015]可选的,所述棱台由承载支架和至少一个承载板构成,
[0016]所述承载板设置在所述承载支架上,所述承载支架构成所述棱台的边,所述至少一个承载板构成所述棱台的侧面。
[0017]可选的,所述承载板为矩形板,位于所述承载板的第一端的侧面与位于所述承载板的第二端的侧面平行,所述承载板的第一端和所述承载板的第二端分别向相反的方向卷起,
[0018]所述承载板的第一端悬挂在所述承载支架上,所述回收组件的进液口位于所述承载板的第二端,所述回收组件用于通过所述承载板的第二端收集流过所述待减薄表面的减薄液。
[0019]可选的,所述减薄装置还包括:旋转组件,所述旋转组件包括:旋转轴,
[0020]所述旋转轴的轴线穿过所述承载组件,且垂直于所述承载组件的底面,所述旋转组件用于控制所述承载组件沿所述旋转轴的轴线旋转。
[0021 ]可选的,所述承载组件为正棱台,所述旋转轴的轴线与所述承载组件的轴线重合。
[0022]另一方面,提供了一种减薄装置的使用方法,用于减薄装置,所述减薄装置包括:出液组件、承载组件和静电场组件,所述方法包括:
[0023]将待减薄结构承载在所述承载组件的承载面上,所述承载面与水平面存在倾角;
[0024]控制所述出液组件向所述待减薄结构的待减薄表面输出减薄液,所述出液组件的出液口位于所述承载面较高的一端,所述出液口的出液方向平行于所述承载面;
[0025]控制所述静电场组件形成静电场,所述静电场的电场源位于所述承载面未承载有待减薄结构的一侧,所述待减薄表面的减薄液位于所述静电场内。
[0026]可选的,所述减薄装置还包括:回收组件,所述回收组件的进液口位于所述承载面较低的一端,在所述控制所述出液组件向所述待减薄表面输出减薄液之后,所述方法还包括:
[0027]控制所述回收组件收集流过所述待减薄表面的减薄液;
[0028]控制所述回收组件将收集到的减薄液传输至所述出液组件。
[0029]可选的,在所述控制所述出液组件向所述待减薄结构的待减薄表面输出减薄液之前,所述方法还包括:
[0030]控制所述出液组件检测待输出的减薄液的浓度;
[0031 ]所述控制所述出液组件向所述待减薄结构的待减薄表面输出减薄液,包括:
[0032]在所述待输出的减薄液的浓度大于预设浓度时,控制所述回收组件将收集到的减薄液传输至所述出液组件。
[0033]可选的,所述承载组件为棱台,所述减薄装置还包括:旋转组件,所述旋转组件包括:旋转轴,所述旋转轴的轴线穿过所述承载组件,且垂直于所述承载组件的底面,在所述将待减薄结构承载在所述承载组件的承载面上之后,所述方法还包括:
[0034]通过控制所述旋转组件,控制所述承载组件沿所述旋转轴的轴线旋转。
[0035]本发明提供了一种减薄装置及其使用方法,在减薄装置中,承载组件上的承载面与水平面存在倾角,出液组件的出液口位于承载面较高的一端,出液组件能够从出液口沿平行于承载面的方向,向待减薄表面输出减薄液。且静电场组件形成的静电场的电场源位于承载面未承载有待减薄结构的一侧,待减薄表面的减薄液位于静电场内。当待减薄结构置于承载面上时,该待减薄结构的待减薄表面与水平面存在倾角,该出液组件输出的减薄液能够在重力的作用下进行流动,并在流动的过程中对待减薄表面进行减薄。由于减薄液从出液口输出时的初速度较小,所以,该减薄液对待减薄表面的冲击力较小,实现了在对待减薄结构进行减薄的过程中,提高了该待减薄表面的平整度。
[0036]进一步的,静电场能够对该待减薄表面的减薄液起到吸附作用,待减薄表面的减薄液在重力和静电场的作用下,能够减小流动的速度,进一步的减小了减薄液对待减薄表面的冲击力,且增加了待减薄表面减薄液的厚度,从而增大了待减薄表面的减薄液的体积,在减薄液为HF且待减薄结构的材质为S12时,减小了减薄过程中生成的氟硅酸的浓度,防止了由于氟硅酸浓度较大而析出晶体,对待减薄表面造成污染。
【附图说明】
[0037]为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0038]图1为本发明实施例提供的一种减薄装置的结构示意图;
[0039]图2为本发明实施例提供的另一种减薄装置的结构示意图;
[0040]图3为本发明实施例提供的又一种减薄装置的结构示意图;
[0041]图4为本发明实施例提供的一种减薄装置的局部结构示意图;
[0042]图5为本发明实施例提供的一种承载板的结构示意图;
[0043]图6为相关技术提供的一种减薄基板的不意图;
[0044]图7为本发明实施例提供的一种减薄装置的使用方法的方法流程图;
[0045]图8为本发明实施例提供的另一种减薄装置的使用方法的方法流程图。
【具体实施方式】
[0046]为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
[0047]如图1所示,本发明实施例提供了一种减薄装置0,该减薄装置O可以包括:出液组件01、承载组件02和静电场组件03。
[0048]其中,承载组件02上用于承载待减薄结构W的承载面A与水平面X存在倾角;出液组件01的出液口B位于承载面A较高的一端,出液口B的出液方向Y平行于承载面A,出液组件01用于向待减薄结构W的待减薄表面Z输出减薄液;静电场组件03用于形成静电场C,静电场C的电场源位于承载面A上未承载有待减薄结构W的一侧,待减薄表面Z的减薄液位于静电场C内。
[0049]综上所述,本发明提供的减薄装置中,承载组件上的承载面与水平面存在倾角,出液组件的出液口位于承载面较高的一端,出液组件能够从出液口沿平行于承载面的方向,向待减薄表面输出减薄液。且静电场组件形成的静电场的电场源位于承载面未承载有待减薄结构的一侧,待减薄表面的减薄液位于静电场内。当待减薄结构置于承载面上时,该待减薄结构的待减薄表面与水平面存在倾角,该出液组件输出的减薄液能够在重力的作用下进行流动,并在流动的过程中对待减薄表面进行减薄。由于减薄液从出液口输出时的初速度较小,所以,该减薄液对待减薄表面的冲击力较小,实现了在对待减薄结构进行减薄的过程中,提高了该待减薄表面的平整度。
[0050]进一步的,静电场能够对该待减薄表面的减薄液起到吸附作用,待减薄表面的减薄液在重力和静电场的作用下,能够减小流动的速度,进一步的减小了减薄液对待减薄表面的冲击力,且增加了待减薄表面减薄液的厚度,从而增大了待减薄表面的减薄液
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