一种表面镀膜的光电耦合器的制造方法

文档序号:9726476阅读:378来源:国知局
一种表面镀膜的光电耦合器的制造方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明一种光电稱合器,特别是一种表面锻膜的光电稱合器。
【背景技术】
[0002]光电耦合器是以光为媒介传输电信号的一种电-光-电转换器件,在各种电路中得到广泛的应用。在其生产光电耦合器过程中,若光耦的胶体产生损坏,其气密性会降低,对产品的质量产生影响,寿命降低。

【发明内容】

[0003]本发明提供一种表面镀膜的光电耦合器,在现有的光电耦合器表面增加防氧化膜层,提高了光稱的气密性,增加了光稱的寿命。
[0004]本发明米取的技术方案为:一种表面锻膜的光电稱合器,光电稱合器表面锻有防氧化膜层,其厚度为2~4μπι。所述光电耦合器的胶体表面、电极脚均镀有防氧化膜层。
[0005]本发明一种表面镀膜的光电耦合器,防氧化膜层与光耦外表面结合稳层,防氧化膜层材料均匀细致、表面光滑、发亮,确保了光耦的防氧化能力。
【附图说明】
[0006]图1为本发明光电耦合器结构示意图。
【具体实施方式】
[0007]如图1所—种表面锻膜的光电稱合器,光电稱合器1表面锻有防氧化膜层2,其厚度为2~4μηι。所述光电稱合器1的胶体1.1表面、电极脚1.2均锻有防氧化膜层2。电极脚表面极易氧化,镀一层氧化膜后能防止电极脚的氧化,增加产品的寿命。
[0008]本发明光电耦合器选用防氧化材料:抗氧剂1076,作膜层,通过特殊镀膜工艺,在光电稱合器1表面涂覆有防氧化膜层2。防氧化膜层2与光电稱合器1外表面结合稳层,防氧化膜层2均匀细致、表面光滑、发亮,确保了光耦的防氧化能力。
【主权项】
1.一种表面镀膜的光电耦合器,其特征在于,光电耦合器(1)表面镀有防氧化膜层(2),其厚度为2~4μ m。2.根据权利要求1所述一种表面镀膜的光电耦合器,其特征在于,所述光电耦合器(1)的胶体(1.1)表面、电极脚(1.2 )均镀有防氧化膜层(2 )。
【专利摘要】一种表面镀膜的光电耦合器,光电耦合器表面镀有防氧化膜层,其厚度为2~4μm。所述光电耦合器的胶体表面、电极脚均镀有防氧化膜层。本发明一种表面镀膜的光电耦合器,防氧化膜层与光耦外表面结合稳层,防氧化膜层材料均匀细致、表面光滑、发亮,确保了光耦的防氧化能力。
【IPC分类】G02B6/42
【公开号】CN105487181
【申请号】CN201410473681
【发明人】彭会银
【申请人】湖北匡通电子股份有限公司
【公开日】2016年4月13日
【申请日】2014年9月17日
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