掩膜板的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种掩膜板。
【背景技术】
[0002]掩膜板是在薄膜晶体管液晶显示器(英文:Thin Film Transistor LiquidCrystal Display;简称:TFT-1XD)的光刻工艺中用于进行图形制作的一种组件，掩膜板主要由透明基板和形成在该透明基板上的具有特定图形的不透光区域组成。
[0003]相关技术中，在制作掩膜板时，主要是在透明基板上沉积一层不透光膜层(例如铬层)，然后采用电子束或激光按照预设的特定图形对该不透光膜层进行刻画，再经过显影、刻蚀和脱膜等图形化工艺，即可在透明基板上形成具有特定图形的不透光区域。
[0004]但是，相关技术中每张掩膜板上的图形是固定不变的，即每张掩膜板唯一对应一种图形。由于显示基板的制造过程需要在衬底基板上依次形成多个图形，需要购买与要形成的图形相对应的多个掩膜板，因此，TFT-LCD的制造过程较繁琐，且制造成本较高。
【发明内容】
[0005]为了解决相关技术中薄膜晶体管液晶显示器TFT-LCD制造成本较高的问题，本发明提供了一种掩膜板。所述技术方案如下:
[0006]本发明实施例提供了一种掩膜板，所述掩膜板包括:透明基板；
[0007]所述透明基板上形成有至少两层电致变色薄膜图形，每层所述电致变色薄膜图形的上下两侧形成有透明电极；
[0008]所述至少两层电致变色薄膜图形能够在所述透明电极的作用下在显示基板上形成至少两种不同的掩膜图形。
[0009]可选的，所述透明基板的两侧分别形成有至少一层电致变色薄膜图形。
[0010]可选的，所述透明基板的一侧形成有第一下透明电极，所述第一下透明电极上形成有第一电致变色薄膜图形，所述第一电致变色薄膜图形上形成有第一上透明电极；
[0011]所述透明基板的另一侧形成有第二下透明电极，所述第二下透明电极上形成有第二电致变色薄膜图形，所述第二电致变色薄膜图形上形成有第二上透明电极。
[0012]可选的，所述透明基板的两侧中的至少一侧形成有下透明电极，所述下透明电极上形成有第一电致变色薄膜图形，所述第一电致变色薄膜图形上形成有共用透明电极，所述共用透明电极上形成有第二电致变色薄膜图形，所述第二电致变色薄膜图形上形成有上透明电极，所述共用透明电极上加载的电压小于所述下透明电极上加载的电压和所述上透明电极上加载的电压。
[0013]可选的，所述电致变色薄膜图形包括至少两个间隔设置的电致变色薄膜单元，所述至少两个间隔设置的电致变色薄膜单元的间隙形成有透明绝缘层。
[0014]可选的，所述掩膜板还包括:设置在所述透明基板外围的控制模块，
[0015]所述控制模块分别与每层所述电致变色薄膜图形上下两侧形成的透明电极电连接，用于控制每层所述电致变色薄膜图形的电压，以调节每层所述电致变色薄膜图形的透光状态；
[0016]所述透光状态包括可透光状态和不透光状态。
[0017]可选的，所述电致变色薄膜图形为普鲁士蓝薄膜。
[0018]可选的，所述透明电极为氧化铟锡ITO膜层。
[0019]可选的，所述透明绝缘层为氧化硅膜层或者氮化硅膜层。
[0020]可选的，所述至少两层电致变色薄膜图形在所述透明基板上的正投影所形成的投影区域不同。
[0021]本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果是:
[0022]本发明实施例提供了一种掩膜板，该掩膜板包括:透明基板;该透明基板上形成有至少两层电致变色薄膜图形，每层该电致变色薄膜图形的上下两侧形成有透明电极;该至少两层电致变色薄膜图形能够在该透明电极的作用下在显示基板上形成至少两种不同的掩膜图形，因此可以减少显示基板制造过程中所需要使用的掩膜板的个数，简化了薄膜晶体管液晶显示器TFT-1XD的制造工艺，降低了 TFT-1XD的制造成本。
【附图说明】
[0023]为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0024]图1是本发明实施例提供的一种掩膜板的侧视结构示意图；
[0025]图2是本发明实施例提供的另一种掩膜板的侧视结构示意图；
[0026]图3是本发明实施例提供的再一种掩膜板的侧视结构示意图；
[0027]图4是本发明实施例提供的又一种掩膜板的俯视结构示意图；
[0028]图5-1是本发明实施例提供的一种掩膜板的制造方法的流程图；
[0029]图5-2是本发明实施例提供的一种形成第一下透明电极的侧视结构示意图；
[0030]图5-3是本发明实施例提供的一种形成第一电致变色薄膜图形的侧视结构示意图；
[0031]图5-4是本发明实施例提供的一种形成透明绝缘层的侧视结构示意图；
[0032]图5-5是本发明实施例提供的一种形成第一上透明电极的结构示意图；
[0033]图6-1是本发明实施例提供的一种显示基板的制造方法的流程图；
[0034]图6-2是本发明实施例提供的一种形成第一掩膜图形的侧视结构示意图；
[0035]图6-3是本发明实施例提供的一种形成第二掩膜图形的侧视结构示意图。
【具体实施方式】
[0036]为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
[0037]图1本发明实施例提供的一种掩膜板的侧视结构示意图，参见图1，该掩膜板包括:透明基板00;
[0038]该透明基板00上形成有至少两层电致变色薄膜图形10，每层该电致变色薄膜图形的上下两侧形成有透明电极20。示例的，在图1所示的掩膜板中，该透明基板00上形成有两层电致变色薄膜图形101和102，其中，电致变色薄膜图形101的上下两侧形成有透明电极201和202，电致变色薄膜图形102的上下两侧形成有透明电极203和204。
[0039]该至少两层电致变色薄膜图形10能够在该透明电极20的作用下在显示基板(图中未示出)上形成至少两种不同的掩膜图形。
[0040]综上所述，本发明实施例提供的一种掩膜板包括:透明基板以及形成在该透明基板上的至少两层电致变色薄膜图形，该至少两层电致变色薄膜图形能够在透明电极的作用下在显示基板上形成至少两种不同的掩膜图形，因此可以减少显示基板制造过程中所需要使用的掩膜板的个数，进而简化了 TFT-1XD的制造工艺，降低了 TFT-1XD的制造成本。
[0041]在本发明实施例中，该至少两层电致变色薄膜图形10在透明基板00上的正投影所形成的投影区域不同，即该至少两层电致变色薄膜图形10在透明基板00上的正投影所形成的投影区域可以完全错开，也可以部分重叠，但不完全重叠，从而保证该至少两层电致变色薄膜图形10能够在显示基板上形成至少两种不同的掩膜图形。
[0042]可选的，在本发明实施例中，该透明基板00的两侧可以分别形成有至少一层电致变色薄膜图形。示例的，在图1所示的掩膜板中，该透明基板00的两侧分别形成有一层电致变色薄膜图形101和102，该透明基板00的一侧形成有第一下透明电极201，该第一下透明电极201上形成有第一电致变色薄膜图形101，该第一电致变色薄膜图形101上形成有第一上透明电极202;该透明基板00的另一侧形成有第二下透明电极203，该第二下透明电极203上形成有第二电致变色薄膜图形102，该第二电致变色薄膜图形102上形成有第二上透明电极204。在掩膜板的两侧分别设置一层电致变色薄膜图形，可以保证在曝光过程中，光线穿过一层电致变色薄膜图形后即可照射到显示基板上，避免了光线在多层电致变色薄膜图形中传输时，可能会发生的偏折，保证了显示基板的制造精度。
[0043]图2本发明实施例提供的另一种掩膜板的侧