具有提高的亮度的显示面板以及用于制造其的方法

文档序号:9929114阅读:478来源:国知局
具有提高的亮度的显示面板以及用于制造其的方法
【技术领域】
[0001]本发明的实施方式总体地涉及平板显示器。更具体地,本发明的实施方式涉及具有提高的亮度的显示面板以及用于制造该显示面板的方法。
【背景技术】
[0002]显示装置是可见地显示数据的装置。显示装置可以包括液晶显示器、电泳显示器、有机发光显示器、无机EL显示器(电致发光显示器)、场发射显示器、表面传导电子发射显不器(surface-conduct1n electron-emitter display)、等离子体显不器、阴极射线管显示器等。
[0003]液晶显示器通过在两个透明基板之间设置液晶层以及通过根据液晶层的驱动而控制每个像素的透光率来显示期望的图像。
[0004]由于在这样的液晶显示器中液晶自身不能发光,所以单独的光源单元安装在显示器中以调节穿过位于每个像素中的液晶的光的强度并实现灰度(对比度)。
[0005]这里,显示装置的亮度能够根据从光源单元入射的光如何被使用而确定。

【发明内容】

[0006]本发明的多个方面提供一种具有优良的亮度的显示面板以及用于制造该显示面板的方法。
[0007]本发明的多个方面不限于这里阐述的实施方式中的那些,没有被提及的其他方面将从以下描述而被本领域技术人员清楚地理解。
[0008]根据本发明的实施方式的一种显示面板包括:基板;栅线,形成在基板上并基本上在第一方向上延伸;数据线,与栅线绝缘并基本上在不同于第一方向的第二方向上延伸;薄膜晶体管,电连接到栅线和数据线;以及像素电极,电连接到薄膜晶体管。
[0009]薄膜晶体管包括:栅电极组,形成在基板上;栅绝缘膜,形成在基板和栅电极组上;有源层,形成在栅绝缘膜上以至少部分地交叠栅电极组;以及源电极和漏电极,形成在有源层和栅绝缘膜上从而彼此间隔开。栅电极组包括形成在基板上的第一栅电极、形成在第一栅电极上的第二栅电极以及插置在第一栅电极和第二栅电极之间的绝缘层。第一栅电极具有比第二栅电极高的反射率。
[0010]第一栅电极和第二栅电极可以彼此电绝缘。栅线可以电连接到第二栅电极。第一栅电极的厚度可以小于第二栅电极的厚度。
[0011]显示面板还可以包括位于基板和栅电极组之间的偏振片。偏振片可以是包括多个平行的导电线图案的线栅偏振片。线栅偏振片还可以包括位于导电线图案和栅电极组之间的电绝缘保护膜。
[0012]第一栅电极可以具有在约1nm和约10nm之间的厚度。第一栅电极还可以包括铝和银中的至少一个,第二栅电极可以包括铜。
[0013]根据本发明的实施方式的一种制造显示面板的方法包括:在基板上形成第一栅电极;在第一栅电极上形成绝缘层;在绝缘层上形成第二栅电极,第二栅电极具有比第一栅电极低的反射率;在基板和第二栅电极上形成栅绝缘膜;在栅绝缘膜上形成有源层以至少部分地交叠第二栅电极;在有源层上在彼此间隔开的位置形成源电极和漏电极;以及形成电连接到漏电极的像素电极。
[0014]在该方法中,第一栅电极可以包括铝和银中的至少一个,第二栅电极可以包括铜。
[0015]第一栅电极和第二栅电极可以使用相同的掩模形成。
[0016]第一栅电极、绝缘膜和第二栅电极可以使用相同的掩模形成。
[0017]形成第一栅电极可以包括在基板上形成线栅偏振片以及在线栅偏振片上形成第一栅电极。
[0018]形成线栅偏振片可以包括在基板上形成多个导电线图案以及在该多个导电线图案上形成保护膜。
[0019]根据本发明的各实施方式,存在至少以下效果。
[0020]可以提供具有优良的亮度的显示面板。
[0021]本发明的效果不受以上例示的内容限制,各种进一步的效果包括在这里。
【附图说明】
[0022]通过参照附图详细描述示范实施方式,本发明的以上和其它的方面以及实施方式将变得更加明显,附图中:
[0023]图1是根据本发明的实施方式的显示面板的平面图;
[0024]图2是沿图1的线A-A’截取的截面图;
[0025]图3是根据本发明的另一实施方式的显示面板的截面图;
[0026]图4是根据本发明的另一实施方式的显示面板的截面图;
[0027]图5是根据本发明的另一实施方式的显示面板的截面图;
[0028]图6至图14是根据本发明的实施方式的用于显示面板的制造工艺的截面图;
[0029]图15至图23是根据本发明的另一实施方式的用于显示面板的制造工艺的截面图;
[0030]图24至图34是根据本发明的另一实施方式的用于显示面板的制造工艺的截面图;以及
[0031]图35至图45是根据本发明的另一实施方式的用于显示面板的制造工艺的截面图。
【具体实施方式】
[0032]通过参照以下对示范实施方式的详细说明和附图,本发明的优点和特征以及实现其的方法可以被更容易地理解。然而,本发明可以以许多不同的形式实施,而不应被解释为限于这里阐述的实施方式。而是,提供这些实施方式使得本公开将透彻和完整,并将本发明的构思充分地传达给本领域技术人员,本发明将仅由权利要求书限定。相同的附图标记在整个说明书中指代相同的元件。
[0033]这里使用的术语仅是为了描述特定实施方式的目的,而不旨在限制本发明。如这里所用的,单数形式“一”和“该”旨在也包括复数形式,除非上下文另外清楚地指示。还将理解,术语“包括”和/或“包含”当在本说明书中使用时,指定所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或部件的存在,但是并不排除一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、部件和/或其组的存在或添加。
[0034]将理解,当一元件或层被称为“在”另一元件或层“上”、“连接到”或“联接到”另一元件或层时,它可以直接在另一元件或层上、直接连接到或联接到另一元件或层,或者可以存在插入的元件或层。相反,当一元件被称为“直接在”另一元件或层“上”、“直接连接到”或“直接联接到”另一元件或层时,不存在插入的元件或层。如这里所用的,术语“和/或”包括一个或多个相关所列项目的任何及所有组合。
[0035]将理解,尽管术语第一、第二等可以在这里用于描述各种元件、组件、区域、层和/或部分,但是这些元件、部件、区域、层和/或部分不应受到这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件、部件、区域、层或部分与另一个元件、部件、区域、层或部分区别开。因此,下面讨论的第一元件、部件、区域、层或部分可以被称为第二元件、部件、区域、层或部分而没有背离本发明的教导。
[0036]为了便于描述,这里可以使用空间关系术语诸如“在...之下”、“在...下面”、“下”、“上面”、“上”等来描述一个元件或特征与另一个(些)元件或特征如附图所示的关系。将理解,空间关系术语旨在涵盖除附图所示的取向之外器件在使用或操作中的不同的取向。例如,如果附图中的器件被翻转,则被描述为“在”其他元件或特征“下面”或“之下”的元件将取向为在其他元件或特征“之上”。因此,示范性术语“在...下面”能够涵盖之上和之下两种取向。器件可以另外地取向(旋转90度或在其他的取向),这里使用的空间关系描述符被相应地解释。
[0037]在描述本发明构思的实施方式时“可以”的使用指的是本发明的一个或多个实施方式。术语“示范性”旨在指的是示例或图示。如这里使用的,术语“使用”可以被认为是与术语“利用”同义的。
[0038]这里参照截面图描述了实施方式,该截面图是理想化实施方式(以及中间结构)的示意图。因而,由例如制造技术和/或公差引起的图示形状的偏差是可能发生的。因此,这些实施方式不应被解释为限于这里示出的区域的特定形状,而是包括由例如制造引起的形状偏差。例如,示出为矩形的注入区域将通常具有圆化或弯曲的特征和/或在其边缘处的注入浓度的梯度,而不是从注入区至非注入区的二元变化。同样地,通过注入形成的埋入区
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