彩膜基板及其制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种彩膜基板及其制作方法，该彩膜基板包括：在衬底基板上形成色阻层，所述色阻层包括多个彩膜，相邻两个彩膜之间相互交叠；在具有双折射率的平坦层材料中混合短波长的光起始剂，得到混合材料；将所述混合材料涂布在所述色阻层上；对遮光区域的混合材料进行曝光，以在所述遮光区域形成遮光部；其中所述遮光区域与所述相邻两个彩膜相互交叠的区域的位置相对应；对曝光后的混合材料进行固化形成平坦层。本发明能防止ESD漏电，降低了生产成本。
【专利说明】
彩膜基板及其制作方法
【技术领域】
[0001 ]本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种彩膜基板及其制作方法。
【【背景技术】】
[0002]现有的彩膜基板，由于多个彩膜之间存在重叠，因此为了避免色偏，会在彩膜色阻重叠区域位置设置黑色矩阵，以解决色偏问题。
[0003]如图1所示，现有的彩膜基板一般是在衬底基板11上先制作黑色矩阵12，再在黑色矩阵12上形成色阻层，该色阻层包括红色彩膜101、绿色彩膜102、蓝色彩膜103;之后在色阻层上形成平坦层13。为了使黑色矩阵的遮光系数较高，通常在黑色矩阵12中加入炭黑，由于炭黑导电，从而导致静电释放电路(Electro-Static discharge，ESD)漏电。而ESD漏电，容易损坏液晶显示面板，增大了生产成本。
[0004]故，有必要提出一种彩膜基板及其制作方法，以解决上述技术问题。
【
【发明内容】
】
[0005]本发明的目的在于提供一种彩膜基板及其制作方法，以解决现有技术中彩膜基板的黑色矩阵容易使得静电释放电路漏电，从而容易损坏液晶显示面板，增大了生产成本的技术问题。
[0006]为解决上述问题，本发明提供一种彩膜基板的制作方法，其包括:
[0007]在衬底基板上形成色阻层，所述色阻层包括多个彩膜，相邻两个彩膜之间相互交置;
[0008]在具有双折射率的平坦层材料中混合短波长的光起始剂，得到混合材料;并将所述混合材料涂布在所述色阻层上；
[0009]对遮光区域的混合材料进行曝光，以在所述遮光区域形成遮光部；其中所述遮光区域与所述相邻两个彩膜相互交叠的区域的位置相对应；
[0010]对曝光后的混合材料进行固化形成平坦层。
[0011]在本发明的彩膜基板的制作方法中，所述平坦层与所述色阻层之间的厚度差小于等于0.25微米。
[0012]在本发明的彩膜基板的制作方法中，所述具有双折射率的平坦层材料为有机透明材料。
[0013]在本发明的彩膜基板的制作方法中，所述方法还包括:在与所述遮光部对应的位置上形成间隔子。
[0014]在本发明的彩膜基板的制作方法中，所述间隔子的材料为有机透明材料。
[0015]本发明还提供一种彩膜基板，其包括:
[0016]衬底基板；
[0017]色阻层，位于所述衬底基板上;所述色阻层包括多个彩膜;相邻两个彩膜之间相互交叠；
[0018]平坦层，位于所述色阻层上，所述平坦层包括多个遮光部;其中所述遮光部与所述相邻两个彩膜相互交叠的区域的位置相对应，所述平坦层的材料包括具有双折射率的平坦层材料和短波长的光起始剂。
[0019]在本发明的彩膜基板中，所述具有双折射率的平坦层材料为有机透明材料。
[0020]在本发明的彩膜基板中，所述平坦层与所述色阻层之间的厚度差小于等于0.25微米。
[0021]在本发明的彩膜基板中，所述彩膜基板还包括:间隔子，所述间隔子位于所述平坦层上。
[0022]在本发明的彩膜基板中，所述间隔子的材料为有机透明材料。
[0023]本发明的彩膜基板及其制作方法，由于使用具有双折射率的平坦层材料制作平坦层，使得平坦层形成遮光部，通过该遮光部进行遮光，有效地防止了静电释放电路漏电，降低了生产成本。
【【附图说明】】
[0024]图1为现有的彩膜基板的结构示意图；
[0025]图2为本发明的彩膜基板制作方法第一步的示意图；
[0026]图3为本发明的彩膜基板制作方法第二步的示意图；
[0027]图4为本发明的彩膜基板制作方法第三步中曝光的示意图；
[0028]图5为本发明的彩膜基板制作方法第三步中曝光后的示意图；
[0029]图6为本发明的彩膜基板制作方法第四步的示意图；
[0030]图7为本发明的彩膜基板制作方法第五步的示意图。
【【具体实施方式】】
[0031]以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。
[0032]参考图2-6，图2-6为本发明的彩膜基板制作方法各步骤的示意图。
[0033]本发明的彩膜基板的制作方法包括以下步骤:
[0034]S201、在衬底基板上形成色阻层，所述色阻层包括多个彩膜，相邻两个彩膜之间相互交叠；
[0035]例如，如图2所示，在衬底基板11上分别涂布三种颜色的光刻胶、使用掩膜板对上述光刻胶进行曝光，之后再进行显影、蚀刻，形成具有红色彩膜101、绿色彩膜102、蓝色彩膜103的色阻层，相邻两个彩膜之间相互交叠。
[0036]S202、在具有双折射率的平坦层材料中混合短波长的光起始剂，得到混合材料;将所述混合材料涂布在所述色阻层上；；
[0037]如图3所示，在具有双折射率的平坦层材料中混合短波长的光起始剂，之后将该混合材料21涂布在色阻层上。
[0038]S203、对遮光区域的混合材料进行曝光，以在所述遮光区域形成遮光部；
[0039]如图4-5所示，其中所述遮光区域与所述相邻两个彩膜相互交叠的区域的位置相对应;该遮光区域如图4中的虚线框所示的位置，对遮光区域的混合材料进行曝光；
[0040]由于平坦层材料中加入短波长的光起始剂，当用短波长的光照射遮光区域时，光起始剂引发平坦层材料发生光化学反应，从而改变该平坦层的双折射性。当光照射到该材料表面时，经过曝光的区域由于光的折射性发生改变，使得光线不能透过，也即起形成遮光部211。而没有经过曝光的区域，由于折射率特性未发生变化，使得光线顺利通过。
[0041]S204、对曝光后的混合材料进行固化形成平坦层。
[0042]如图6所示，对曝光后的混合材料进行固化，形成平坦层22。
[0043]优选地，所述平坦层22与所述色阻层之间的厚度差小于等于0.25微米。由于厚度太大，增大彩膜基板的厚度，而厚度太小，不利于彩膜基板的表面平整。
[0044]优选地，所述具有双折射率的平坦层材料为有机透明材料。由于有机透明材料具有较好的双折射率特性，因此通过曝光后，能够形成遮光系数较高的遮光部。
[0045]优选地，上述制作方法还可以包括:
[0046]S205、在与所述遮光部对应的位置上形成间隔子。
[0047]如图7所示，在所述遮光部211上形成间隔子，该间隔子可以包括主间隔子23和次间隔子24。由于在遮光部上形成该间隔子，不会影响整个面板的透光率。
[0048]优选地，所述间隔子的材料为有机透明材料。也即所述间隔子23和24的材料为有机透明材料，从而进一步增大液晶显示面板的透光率。
[0049]本发明的彩膜基板及其制作方法，由于使用具有双折射率的平坦层材料制作平坦层，使得平坦层形成遮光部，通过该遮光部进行遮光，由于具有双折射率的平坦层材料具有较高的阻抗，因此导电性能较差，使得遮光部不导电，从而有效地防止了静电释放电路漏电，降低了生产成本。同时由于不需要单独制程一层黑色矩阵，简化了生产工序，进一步降低了生产成本。
[0050]本发明还提供一种彩膜基板，如图7所示，其包括衬底基板11、色阻层、平坦层22;该衬底基板11的材料可以为透明玻璃；
[0051]该色阻层位于所述衬底基板11上；所述色阻层包括多个彩膜;相邻两个彩膜之间相互交叠;例如色阻层包括红色彩膜101、绿色彩膜102和蓝色彩膜103;
[0052]该平坦层22位于所述色阻层上，所述平坦层22包括多个遮光部211;其中所述遮光部211与所述相邻两个彩膜相互交叠的区域的位置相对应，所述平坦层的材料包括具有双折射率的平坦层材料和短波长的光起始剂。
[0053]优选地，所述平坦层22与所述色阻层之间的厚度差小于等于0.25微米。由于厚度太大，增大彩膜基板的厚度，而厚度太小，不利于彩膜基板的表面平整。
[0054]优选地，所述具有双折射率的平坦层材料为有机透明材料。由于有机透明材料具有较好的双折射率特性，因此通过曝光后，能够形成遮光系数较高的遮光部。
[0055]优选地，在与所述遮光部对应的位置上形成间隔子。如图7所示，在所述遮光部211上形成间隔子，该间隔子可以包括主间隔子23和次间隔子24。由于在遮光部形成该间隔子，不会影响整个面板的透光率。
[0056]优选地，所述间隔子的材料为有机透明材料。也即所述间隔子23和24的材料为有机透明材料，从而进一步增大液晶显示面板的透光率。
[0057]本发明的彩膜基板，由于使用具有双折射率的平坦层材料制作平坦层，使得平坦层形成遮光部，通过该遮光部进行遮光，由于具有双折射率的平坦层材料具有较高的阻抗，因此导电性能较差，使得遮光部不导电，从而有效地防止了静电释放电路漏电，降低了生产成本。同时由于不需要单独制程一层黑色矩阵，简化了生产工序，进一步降低了生产成本。
[0058]综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
【主权项】
1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括: 在衬底基板上形成色阻层，所述色阻层包括多个彩膜，相邻两个彩膜之间相互交叠；在具有双折射率的平坦层材料中混合短波长的光起始剂，得到混合材料;并将所述混合材料涂布在所述色阻层上； 对遮光区域的混合材料进行曝光，以在所述遮光区域形成遮光部；其中所述遮光区域与所述相邻两个彩膜相互交叠的区域的位置相对应； 对曝光后的混合材料进行固化形成平坦层。2.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于， 所述平坦层与所述色阻层之间的厚度差小于等于0.25微米。3.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述具有双折射率的平坦层材料为有机透明材料。4.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述方法还包括:在与所述遮光部对应的位置上形成间隔子。5.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述间隔子的材料为有机透明材料。6.一种彩膜基板，其特征在于，包括: 衬底基板； 色阻层，位于所述衬底基板上；所述色阻层包括多个彩膜；相邻两个彩膜之间相互交置; 平坦层，位于所述色阻层上，所述平坦层包括多个遮光部;其中所述遮光部与所述相邻两个彩膜相互交叠的区域的位置相对应，所述平坦层的材料包括具有双折射率的平坦层材料和短波长的光起始剂。7.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于， 所述具有双折射率的平坦层材料为有机透明材料。8.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于， 所述平坦层与所述色阻层之间的厚度差小于等于0.25微米。9.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于， 所述彩膜基板还包括:间隔子，所述间隔子位于所述平坦层上。10.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述间隔子的材料为有机透明材料。
【文档编号】G02F1/1335GK105867010SQ201610458769
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2016年6月22日
【发明人】杨超群, 黄长治
【申请人】武汉华星光电技术有限公司