Lcos显示面板及其制造方法
【专利摘要】本发明提供了一种LCOS显示面板及其制造方法，其中，所述LCOS显示面板包括：玻璃基板，所述玻璃基板上形成有ID标记，所述ID标记由黑光阻构成。所述LCOS显示面板的制造方法包括：提供玻璃基板；在所述玻璃基板上形成黑光阻；对所述黑光阻执行曝光工艺及显影工艺，形成ID标记。在本发明提供的LCOS显示面板及其制造方法中，通过黑光阻构成ID标记，由此可以避免使用激光对玻璃基板照射，从而便可避免相应的电路损伤问题，由此提高了LCOS显示面板的质量与可靠性。
【专利说明】
LGOS显示面板及其制造方法
技术领域
[0001]本发明涉及显示器技术领域，特别涉及一种LCOS显示面板及其制造方法。
【背景技术】
[0002]随着数字时代的来临，数字信号播送形式与显示技术的改变，使近年来各种不同于传统阴极射线管(cathode ray tube，CRT)显示器的各类平面显示器，如液晶显示器(liquid crystal display，LCD)、场发射显不器(field emiss1n display，FED)、有机发光二极管(organic light emitting d1de，0LED)显示器以及等离子体显示器(plasmadisplay panel，H)P)等广泛地被应用于日常生活上。
[0003]除此之外，由于微型显示器(micro-display)可利用光学方式将影像放大至超过上述平面显示器的尺寸，故更符合超大尺寸显示的需求。且微型显示器可应用于各类型的显示器，如LCD或OLED显示器，举例来说，应用于LCD的微型显示器即称为微型液晶面板。微型显示器因其成像方式的不同可概分为穿透式及反射式两大类。穿透式液晶微型显式面板主要是建构于玻璃基板上，其运作时光线透过显示面板;反射式液晶微型面板则建构于硅基板上，因此亦称为娃基液晶(liquid crystal on si I icon，LC0S)显示面板。LCOS显示面板通常包括硅基板，所述硅基板上形成有MOS晶体管;玻璃基板，所述玻璃基板与所述硅基板封装在一起；以及液晶层，所述液晶层位于所述硅基板和所述玻璃基板之间。LCOS显示面板以金属材料作为像素电极，通过光线反射的原理成像，因而称之为反射式液晶微型面板。
[0004]在LCOS显示面板的生产过程中，为了追踪LCOS显示面板的质量、流向等，通常会在LCOS显示面板上制作ID标记。现有技术中通过激光刻字工艺在LCOS显示面板上制作ID标记，此种制作方式会使得激光能量通过玻璃基板聚焦在薄膜晶体管等结构表面，从而产生电路损伤，影响LCOS显示面板的质量与可靠性。
【发明内容】
[0005]本发明的目的在于提供一种LCOS显示面板及其制造方法，以解决现有的LCOS显示面板上制作ID标记容易产生电路损伤，影响LCOS显示面板的质量与可靠性的问题。
[0006]为解决上述技术问题，本发明提供一种LCOS显示面板，所述LCOS显示面板包括:玻璃基板，所述玻璃基板上形成有ID标记，所述ID标记由黑光阻构成。
[0007]可选的，在所述的LCOS显示面板中，所述黑光阻为正性光阻或者负性光阻。
[0008]可选的，在所述的LCOS显示面板中，所述ID标记为凸起结构或者凹陷结构。
[0009]可选的，在所述的LCOS显示面板中，所述玻璃基板上还形成有黑矩阵。
[0010]可选的，在所述的LCOS显示面板中，所述LCOS显示面板还包括硅基板，所述硅基板上形成有MOS晶体管，所述玻璃基板与所述硅基板封装在一起。
[0011]本发明还提供一种LCOS显示面板的制造方法，所述LCOS显示面板的制造方法包括:
[0012]提供玻璃基板；
[0013]在所述玻璃基板上形成黑光阻；
[0014]对所述黑光阻执行曝光工艺及显影工艺，形成ID标记。
[0015]可选的，在所述的LCOS显示面板的制造方法中，形成ID标记的同时，形成黑矩阵。
[0016]可选的，在所述的LCOS显示面板的制造方法中，所述LCOS显示面板的制造方法还包括:对所述黑光阻执行曝光工艺之后、显影工艺之前，对所述黑光阻执行紫外光固化工
-H-
O
[0017]可选的，在所述的LCOS显示面板的制造方法中，所述LCOS显示面板的制造方法还包括:对所述ID标记及黑矩阵执行热固化工艺。
[0018]可选的，在所述的LCOS显示面板的制造方法中，所述ID标记为凸起结构或者凹陷结构。
[0019]在本发明提供的LCOS显示面板及其制造方法中，通过黑光阻构成ID标记，由此可以避免使用激光对玻璃基板照射，从而便可避免相应的电路损伤问题，由此提高了 LCOS显示面板的质量与可靠性。
【附图说明】
[0020]图1是本发明实施例的LCOS显示面板的制造方法的流程示意图；
[0021]图2是本发明实施例的ID标记的一结构示意图；
[0022]图3是本发明实施例的ID标记的另一结构示意图。
【具体实施方式】
[0023]以下结合附图和具体实施例对本发明提出的LCOS显示面板及其制造方法作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。特别的，由于各附图所要突出的内容不同，往往采用了不同的比例。
[0024]请参考图1，其为本发明实施例的LCOS显示面板的制造方法的流程示意图。
[0025]如图1所示，首先执行步骤SlO:提供玻璃基板。在本申请实施例中，所述玻璃基板为已与硅基板封装在一起的玻璃基板，即在提供玻璃基板之前还包括如下步骤:提供硅基板;在所述硅基板上形成MOS晶体管;将玻璃基板与所述硅基板封装在一起；以及在所述玻璃基板与硅基板之间形成液晶层。进一步的，所述玻璃基板可通过UV胶或者玻璃胶等黏合剂与所述硅基板封装在一起。
[0026]接着，执行步骤Sll:在所述玻璃基板上形成黑光阻。其中，所述黑光阻既可以为正性光阻，也可以为负性光阻。在本申请实施例中，所述黑光阻采用负性光阻。
[0027]具体的，通过旋涂工艺在所述玻璃基板上形成黑光阻。优选的，所述黑光阻的厚度为Ιμπι?30μηι，例如，所述黑光阻的厚度可以为1μηι、5μηι、ΙΟμπι、12μηι、15μηι、20μηι或者30μηι等。在本申请实施例中，所述旋涂工艺的温度优选为50 °C?150 °C，例如，所述旋涂工艺的温度可以为50 °C、60 °C、70 °C、90 °C、120 °C或者150 °C等。进一步的，所述旋涂工艺的涂布速度优选为10rpm?3500rpm，例如，所述旋涂工艺的涂布速度可以为100rpm、200rpm、500rpm、lOOOrpm、1500rpm、2000rpm或者3500rpm等;所述旋涂工艺的涂布时间优选为1s?600s，例如，所述旋涂工艺的涂布时间可以为108、508、1008、1508、2508、4008、5008或者6008等。
[0028]请继续参考图1，接着执行步骤S12:对所述黑光阻执行曝光工艺及显影工艺，形成ID标记。进一步的，形成ID标记的同时，形成黑矩阵。具体的，所述对所述黑光阻执行曝光工艺及显影工艺，形成ID标记及黑矩阵的工艺包括如下步骤:
[0029]首先，对所述黑光阻执行曝光工艺。在本申请实施例中，通过UV曝光机执行曝光工艺。具体的，将形成有黑光阻的玻璃基板置于UV曝光机机内；在所述(形成有黑光阻的)玻璃基板上放置掩膜板，所述掩膜板上形成有ID标记(图案)，在本申请实施例中，所述掩膜板上还形成有黑矩阵(图案)；接着，通过UV光照射所述掩膜板及其下的(形成有黑光阻的)玻璃基板，较佳的，所述UV光的波长为10nm?450nmo
[0030]为了提高所形成的ID标记及黑矩阵的质量，在本申请实施例中，接着，对所述黑光阻执行紫外光固化工艺。在此，通过所述紫外光固化工艺可以去除所述黑光阻中的一些杂质物质，例如一些杂质有机物等，从而提高后续形成的ID标记及黑矩阵的质量。在此，所述紫外光固化工艺中所使用的紫外光的波长优选为36 5nm?40 5nm ο
[0031]接着，对所述黑光阻执行显影工艺。在此采用TMAH为主要原料的显影液，选取的浓度为0.1%?2.38%。在本申请的其他实施例中，也可选取其他显影液对所述黑光阻执行显影工艺，对此本申请并不做限定。通过上述显影工艺后便可形成ID标记;此外，在本申请实施例中，还可同时形成黑矩阵。其中，通过所述ID标记便可实现对于LCOS显示面板的质量、流向等的追踪；而通过所述黑矩阵可防止所述LCOS显示面板漏光，提高所述LCOS显示面板的质量。
[0032]在本申请实施例中，所形成的ID标记既可以为凸起结构，也可以为凹陷结构。具体的，可参考图2和图3，图2和图3分别示出了两种ID标记(即凸起结构和凹陷结构)的结构示意图。
[0033]如图2所示，在此所示ID标记10为凸起结构，即所述ID标记10的黑光阻被保留下来了，其周围的黑光阻被移除了。
[0034]如图3所示，在此所示ID标记10’为凹陷结构，即所述ID标记10’的黑光阻被去除了，其周围的黑光阻被保留了下来。
[0035]为了进一步提高所形成的ID标记及黑矩阵的质量，在本申请实施例中，接着对所述ID标记及黑矩阵执行热固化工艺。通过所述热固化工艺可以去除黑光阻中的一些水分等，从而使得所述ID标记及黑矩阵更好的固定于所述玻璃基板上。
[0036]通过上述工艺便可形成带有ID标记的LCOS显示面板，此ID标记通过黑光阻构成，由此可以避免使用激光对玻璃基板照射，从而便可避免相应的电路损伤问题，由此提高了LCOS显示面板的质量与可靠性。
[0037]具体的，所述LCOS显示面板包括:玻璃基板，所述玻璃基板上形成有ID标记，所述ID标记由黑光阻构成。其中，所述黑光阻为正性光阻或者负性光阻，所述ID标记为凸起结构或者凹陷结构。进一步的，所述玻璃基板上还形成有黑矩阵。所述LCOS显示面板还包括硅基板，所述娃基板上形成有MOS晶体管，所述玻璃基板与所述娃基板封装在一起。
[0038]上述描述仅是对本发明较佳实施例的描述，并非对本发明范围的任何限定，本发明领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。
【主权项】
1.一种LCOS显示面板，其特征在于，所述LCOS显示面板包括:玻璃基板，所述玻璃基板上形成有ID标记，所述ID标记由黑光阻构成。2.如权利要求1所述的LCOS显示面板，其特征在于，所述黑光阻为正性光阻或者负性光阻。3.如权利要求2所述的LCOS显示面板，其特征在于，所述ID标记为凸起结构或者凹陷结构。4.如权利要求1所述的LCOS显示面板，其特征在于，所述玻璃基板上还形成有黑矩阵。5.如权利要求1?4中任一项所述的LCOS显示面板，其特征在于，所述LCOS显示面板还包括硅基板，所述硅基板上形成有MOS晶体管，所述玻璃基板与所述硅基板封装在一起。6.一种LCOS显示面板的制造方法，其特征在于，所述LCOS显示面板的制造方法包括: 提供玻璃基板； 在所述玻璃基板上形成黑光阻； 对所述黑光阻执行曝光工艺及显影工艺，形成ID标记。7.如权利要求6所述的LCOS显示面板的制造方法，其特征在于，形成ID标记的同时，形成黑矩阵。8.如权利要求7所述的LCOS显示面板的制造方法，其特征在于，所述LCOS显示面板的制造方法还包括:对所述黑光阻执行曝光工艺之后、显影工艺之前，对所述黑光阻执行紫外光固化工艺。9.如权利要求7所述的LCOS显示面板的制造方法，其特征在于，所述LCOS显示面板的制造方法还包括:对所述ID标记及黑矩阵执行热固化工艺。10.如权利要求6?9中任一项所述的LCOS显示面板的制造方法，其特征在于，所述ID标记为凸起结构或者凹陷结构。
【文档编号】G02F1/1333GK105974627SQ201610307866
【公开日】2016年9月28日
【申请日】2016年5月11日
【发明人】王强, 柯于鹏, 李端鹏, 马懿超
【申请人】豪威半导体（上海）有限责任公司