一种彩膜基板及其制备方法、显示面板及其制备方法
【专利摘要】本发明提供一种彩膜基板及其制备方法、显示面板及其制备方法，涉及显示技术领域，可保证取向层的均匀性，且可减小液晶显示器的厚度、降低生产成本。该彩膜基板的制备方法包括：在衬底上依次形成黑矩阵和彩色滤光层；形成黑矩阵包括：采用第一渐变透过率掩模板形成侧面为楔形面的黑矩阵；其中，第一渐变透过率掩模板的透过率渐变部分与待形成的黑矩阵的侧面对应；形成彩色滤光层包括：采用第二渐变透过率掩模板、第三渐变透过率掩模板和第四渐变透过率掩模板依次形成第一基色滤光图案、第二基色滤光图案和第三基色滤光图案，其中，渐变透过率掩模板的透过率渐变部分与待形成基色滤光图案的与黑矩阵搭接的部分对应。
【专利说明】
一种彩膜基板及其制备方法、显示面板及其制备方法
技术领域
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制备方法、显示面板及其制备方法。
【背景技术】
[0002]液晶显示器(Liquid Crystal Display，简称LCD)具有机身轻薄、耗电低、无福射、使用寿命长等优点。
[0003]液晶显示器包括阵列基板和彩膜基板。其中，彩膜基板包括用于避免漏光和混光的BM(black matrix，黑矩阵)和彩色滤光层，彩色滤光层包括第一基色滤光图案例如红色滤光图案、第二基色滤光图案例如绿色滤光图案、第三基色滤光图案例如蓝色滤光图案。
[0004]现有技术中的彩膜基板，如图1所示，BM02形成在衬底01上，彩色滤光层03通过构图工艺形成在BM02上，而彩色滤光层03的第一基色滤光图案31、第二基色滤光图案32以及第三基色滤光图案33与BM02接触的位置处都会产生凸起，本领域技术人员称之为角段差。由于角段差的存在会影响取向层04涂布的均匀性，而取向层04涂布不均匀会造成液晶分子取向混乱，导致显示异常。
[0005]为了解决上述问题，本领域技术人员提出在彩色滤光层03上增加一层0C(0verCoating，涂覆保护)层50来抹平角段差。其中，BM02的遮光能力与其厚度成正比，目前批量生产的彩膜基板中，BM02的厚度为1.2um，其厚度无法进一步减小。而OC层50的厚度需要达至IJl.5um才能抹平角段差，这样一来，增加了液晶显示器的厚度，提高了生产成本。
【发明内容】
[0006]本发明的实施例提供一种彩膜基板及其制备方法、显示面板及其制备方法，可保证取向层的均匀性，且可减小液晶显示器的厚度、降低生产成本。
[0007]为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案:
[0008]第一方面，提供一种彩膜基板的制备方法，包括在衬底上依次形成黑矩阵和彩色滤光层，所述彩色滤光层包括第一基色滤光图案、第二基色滤光图案和第三基色滤光图案；形成所述黑矩阵包括:采用第一渐变透过率掩模板形成侧面为楔形面的黑矩阵;其中，所述第一渐变透过率掩模板的透过率渐变部分与待形成的所述黑矩阵的侧面对应;形成所述彩色滤光层包括:采用第二渐变透过率掩模板形成所述第一基色滤光图案，其中，所述第二渐变透过率掩模板的透过率渐变部分与待形成所述第一基色滤光图案的与所述黑矩阵搭接的部分对应;采用第三渐变透过率掩模板形成所述第二基色滤光图案，其中，所述第三渐变透过率掩模板的透过率渐变部分与待形成所述第二基色滤光图案的与所述黑矩阵搭接的部分对应;采用第四渐变透过率掩模板形成所述第三基色滤光图案，其中，所述第四渐变透过率掩模板的透过率渐变部分与待形成所述第三基色滤光图案的与所述黑矩阵搭接的部分对应。
[0009]优选的，形成所述黑矩阵，具体包括:在衬底上形成黑矩阵薄膜;将第一渐变透过率掩模板置于所述黑矩阵薄膜一侧;其中，所述第一渐变透过率掩模板包括完全透光部分、完全不透光部分、以及透过率渐变部分;使所述完全透光部分和所述透过率渐变部分对应待形成的所述黑矩阵，使所述完全不透光部分对应其他区域;其中，所述完全透光部分与待形成黑矩阵的上表面在所述衬底上的投影完全对应，所述透过率渐变部分与待形成黑矩阵的侧面在所述衬底上的投影完全对应;以所述透过率渐变部分与所述完全透光部分接触的一侧为参考，所述透过率渐变部分的透过率逐渐降低;对所述黑矩阵薄膜进行曝光，显影后形成所述黑矩阵。
[0010]进一步优选的，以任意所述透过率渐变部分与所述完全透光部分接触的一侧为参考，所述透过率渐变部分的透过率变化规律一致。
[0011 ]基于上述，优选的，形成所述第一基色滤光图案，包括:在形成有所述黑矩阵的衬底上形成第一基色滤光薄膜;将第二渐变透过率掩模板置于所述黑矩阵一侧，所述第二渐变透过率掩模板包括完全透光部分、完全不透光部分、以及透过率渐变部分;使所述完全透光部分和所述透过率渐变部分对应待形成的所述第一基色滤光图案，使所述完全不透光部分对应其他区域;其中，所述完全透光部分对应待形成第一基色滤光图案不与所述黑矩阵接触的部分，所述透过率渐变部分对应待形成第一基色滤光图案与所述黑矩阵接触的部分；以所述透过率渐变部分与所述完全透光部分接触的一侧为参考，所述透过率渐变部分的透过率逐渐降低；对所述第一基色滤光薄膜进行曝光，显影后形成所述第一基色滤光图案。
[0012]优选的，形成所述第二基色滤光图案，包括:在形成有所述黑矩阵的衬底上形成第二基色滤光薄膜;将第三渐变透过率掩模板置于所述黑矩阵一侧，所述第三渐变透过率掩模板包括完全透光部分、完全不透光部分、以及透过率渐变部分;使所述完全透光部分和所述透过率渐变部分对应待形成的所述第二基色滤光图案，使所述完全不透光部分对应其他区域;其中，所述完全透光部分对应待形成第二基色滤光图案不与所述黑矩阵接触的部分，所述透过率渐变部分对应待形成第二基色滤光图案与所述黑矩阵接触的部分；以所述透过率渐变部分与所述完全透光部分接触的一侧为参考，所述透过率渐变部分的透过率逐渐降低;对所述第二基色滤光薄膜进行曝光，显影后形成所述第二基色滤光图案。
[0013]进一步优选的，形成所述第三基色滤光图案，包括:在形成有所述黑矩阵的衬底上形成第三基色滤光薄膜;将第四渐变透过率掩模板置于所述黑矩阵一侧，所述第四渐变透过率掩模板包括完全透光部分、完全不透光部分、以及透过率渐变部分;使所述完全透光部分和所述透过率渐变部分对应待形成的所述第三基色滤光图案，使所述完全不透光部分对应其他区域;其中，所述完全透光部分对应待形成第三基色滤光图案不与所述黑矩阵接触的部分，所述透过率渐变部分对应待形成第三基色滤光图案与所述黑矩阵接触的部分；以所述透过率渐变部分与所述完全透光部分接触的一侧为参考，所述透过率渐变部分的透过率逐渐降低;对所述第三基色滤光薄膜进行曝光，显影后形成所述第三基色滤光图案。
[0014]优选的，所述方法还包括在彩色滤光层上方形成OC层，所述OC层的厚度为0.5土0.16um0
[0015]第二方面，提供一种显示面板的制备方法，所述显示面板包括彩膜基板，所述彩膜基板通过上述第一方面所述的方法制备得到。
[0016]第三方面，提供一种彩膜基板，包括:衬底、设置在所述衬底上的黑矩阵、以及设置在所述黑矩阵上方的彩色滤光层，所述彩色滤光层包括第一基色滤光图案、第二基色滤光图案和第三基色滤光图案;所述黑矩阵的侧面为楔形面，且所述黑矩阵的靠近所述衬底的下表面的面积大于上表面的面积;所述第一基色滤光图案、所述第二基色滤光图案和所述第三基色滤光图案的上表面平坦。
[0017]优选的，所述黑矩阵的相对侧面的倾斜角度相同。
[0018]基于上述，优选的，还包括设置在所述彩色滤光层上方形成OC层，所述OC层的厚度为 0.5±0.16um0
[0019]第四方面，提供一种显示面板，包括彩膜基板，所述彩膜基板为上述第三方面所述的彩膜基板。
[0020]本发明实施例提供一种彩膜基板及其制备方法、显示面板及其制备方法，通过采用渐变透过率掩模板将黑矩阵的侧面形成为楔形形状，并通过渐变透过率掩模板使彩色滤光层的第一基色滤光图案、第二基色滤光图案和第三基色滤光图案分别与黑矩阵搭接处的厚度由各自边缘向中间部分逐渐递增，使任意搭接位置处，黑矩阵的厚度与相应位置处滤光图案厚度叠加后的总厚度，与滤光图案的不与黑矩阵搭接处的厚度一致，可使第一基色滤光图案、第二基色滤光图案和第三基色滤光图案的上表面平坦。基于此，相对现有技术，可无需采用厚度较厚的OC层来保证取向层涂布的均匀性，进而可减小液晶显示器的厚度，降低生产成本。
【附图说明】
[0021]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0022]图1为现有技术提供的一种彩膜基板的结构示意图；
[0023]图2为本发明实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图一；
[0024]图3(a)为本发明实施例提供的一种制备黑矩阵的过程示意图一；
[0025]图3(b)为本发明实施例提供的一种制备黑矩阵的过程示意图二；
[0026]图4(a)为本发明实施例提供的一种制备第一基色滤光图案的过程示意图一；
[0027]图4(b)为本发明实施例提供的一种制备第一基色滤光图案的过程示意图二；
[0028]图5(a)为本发明实施例提供的一种制备第二基色滤光图案的过程示意图一；
[0029]图5(b)为本发明实施例提供的一种制备第二基色滤光图案的过程示意图二；
[0030]图6(a)为本发明实施例提供的一种制备第三基色滤光图案的过程示意图一；
[0031]图6(b)为本发明实施例提供的一种制备第三基色滤光图案的过程示意图二；
[0032]图7为本发明实施例提供的一种制备黑矩阵的流程示意图；
[0033]图8为本发明实施例提供的一种制备第一基色滤光层的流程示意图；
[0034]图9为本发明实施例提供的一种制备第二基色滤光层的流程示意图；
[0035]图10为本发明实施例提供的一种制备第三基色滤光层的流程示意图；
[0036]图11为本发明实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图二。
[0037]附图标记:
[0038]01-衬底;02-黑矩阵；21-黑矩阵薄膜;02a-黑矩阵的侧面;02b-黑矩阵的上表面；03-彩色滤光层;04-取向层;10-第一渐变透过率掩模板;1a-透过率渐变部分；1b-完全透光部分；1d-完全不透光部分;20-第二渐变透过率掩模板;30-第三渐变透过率掩模板;31-第一基色滤光图案；32-第二基色滤光图案；33-第三基色滤光图案;40-第四渐变透过率掩模板;50-0C层。
【具体实施方式】
[0039]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0040]本发明实施例提供一种彩膜基板的制备方法，如图2所示，包括在衬底01上依次形成黑矩阵02和彩色滤光层03，彩色滤光层03包括第一基色滤光图案31、第二基色滤光图案32和第三基色滤光图案33。
[0041]具体的，如图3(a)_3(b)所示，形成黑矩阵02包括:采用第一渐变透过率掩模板10形成侧面为楔形面的黑矩阵02;其中，第一渐变透过率掩模板10的透过率渐变部分1a与待形成的黑矩阵的侧面02a对应。
[0042]形成彩色滤光层包括:如图4(a)_4(b)所示，采用第二渐变透过率掩模板20形成第一基色滤光图案31，其中，第二渐变透过率掩模板30的透过率渐变部分1a与待形成第一基色滤光图案31的与黑矩阵02搭接的部分对应;如图5(a)-5(b)所示，采用第三渐变透过率掩模板30形成第二基色滤光图案32，其中，第三渐变透过率掩模板30的透过率渐变部分1a与待形成第二基色滤光图案32的与黑矩阵02搭接的部分对应;如图6(a)-6(b)所示，采用第四渐变透过率掩模板40形成第三基色滤光图案33，其中，第四渐变透过率掩模板40的透过率渐变部分1a与待形成第三基色滤光图案33的与黑矩阵02搭接的部分对应。
[0043]需要说明的是，第一，第一基色滤光图案31、第二基色滤光图案32和第三基色滤光图案33的颜色各不相同，只要三者的颜色为三基色即可。
[0044]其中，第一基色、第二基色和第三基色可以互为红色、蓝色和绿色，例如，第一基色为红色、第二基色为黄色、第三基色为红色，当然也可以是其他组合。或者，第一基色、第二基色和第三基色也可以互为青色、品红和黄色，例如，第一基色为青色、第二基色为品红、第三基色为黄色，当然也可以是其他组合。
[0045]第二，本领域技术人员应该明白，通过渐变透过率掩模板刻蚀出的侧面为楔形面的黑矩阵02，其靠近衬底01的下表面的面积应大于上表面的面积。
[0046]第三，为使彩色滤光层03的上表面保持平坦，通过渐变透过率掩模板刻蚀出的第一基色滤光图案31、第二基色滤光图案32和第三基色滤光图案33在与黑矩阵02搭接处的厚度，由各自边缘向中间部分逐渐递增，使任意搭接位置处，黑矩阵02的厚度与相应位置处滤光图案厚度叠加后的总厚度，与滤光图案的不与黑矩阵02搭接处的厚度一致。
[0047]本发明实施例提供的彩膜基板的制备方法，通过采用渐变透过率掩模板将黑矩阵02的侧面形成为楔形形状，并通过渐变透过率掩模板使彩色滤光层03的第一基色滤光图案31、第二基色滤光图案32和第三基色滤光图案33分别与黑矩阵02搭接处的厚度由各自边缘向中间部分逐渐递增，使任意搭接位置处，黑矩阵02的厚度与相应位置处滤光图案厚度叠加后的总厚度，与滤光图案的不与黑矩阵02搭接处的厚度一致，可使第一基色滤光图案31、第二基色滤光图案32和第三基色滤光图案33的上表面平坦。基于此，相对现有技术，可无需采用厚度较厚的OC层来保证取向层涂布的均匀性，进而可减小液晶显示器的厚度，降低生产成本。
[0048]优选的，黑矩阵02和彩色滤光层03的材料可以为负性感光树脂材料。这样，每次构图工艺仅需要成膜、曝光、显影，便可形成黑矩阵02、第一基色滤光图案31、第二基色滤光图案32和第三基色滤光图案33。
[0049]基于此，如图7所示，形成黑矩阵02包括如下步骤:
[0050]S10、如图3(a)所示，在衬底01上形成黑矩阵薄膜21。
[0051]S11、如图3(b)所示，将第一渐变透过率掩模板10置于黑矩阵薄膜21—侧;其中，第一渐变透过率掩模板10包括完全透光部分10b、完全不透光部分10d、以及透过率渐变部分1a0
[0052]S12、如图3(b)所示，使完全透光部分1b和透过率渐变部分1a对应待形成的黑矩阵02，使完全不透光部分1d对应其他区域。
[0053]其中，完全透光部分1b与待形成黑矩阵的上表面02b在衬底01上的投影完全对应，透过率渐变部分1a与待形成黑矩阵的侧面02a在衬底01上的投影完全对应；以透过率渐变部分1a与完全透光部分1b接触的一侧为参考，透过率渐变部分1a的透过率逐渐降低。
[0054]S13、如图3(b)所示，对黑矩阵薄膜21进行曝光，显影后形成所述黑矩阵02。
[0055]需要说明的是，第一，如图3(b)所示，以透过率渐变部分1a与完全透光部分1b接触的一侧为参考，沿该侧到透过率渐变部分1a与完全不透光部分1d接触的一侧，透过率渐变部分1a的透过率逐渐降低。
[0056]第二，完全不透光部分1d对应的区域为不设置黑矩阵02的区域。
[0057]本发明实施例通过采用第一渐变透过率掩模板10，仅需一次构图工艺便可形成侧面为楔形面的黑矩阵02，而且在一次构图工艺中仅需要成膜、曝光、显影，使得工艺更为简化，因而可提高生产效率。
[0058]进一步优选的，如图3(b)所示，以任意透过率渐变部分1a与完全透光部分1b接触的一侧为参考，透过率渐变部分I Oa的透过率变化规律一致。
[0059]本发明实施例通过使第一渐变透过率掩模板10的透过率渐变部分1a的变化规律相同，使得形成的黑矩阵02的楔形侧面的大小相同，从而使得用于形成滤光图案的掩模板的透过率渐变部分1a也具有相同的变化规律，从而可以简化制造工艺，减小工艺误差。
[0060]在形成楔形侧面的所述黑矩阵02的基础上，如图8所示，形成第一基色滤光图案31具体包括如下步骤:
[0061 ] S20、如图4(a)所示，在形成有黑矩阵02的衬底01上形成第一基色滤光薄膜311。
[0062]S21、如图4(b)所示，将第二渐变透过率掩模板20置于黑矩阵02—侧。
[0063]其中，第二渐变透过率掩模板20也同样包括完全透光部分10b、完全不透光部分I Od、以及透过率渐变部分I Oa。
[0064]S22、如图4(b)所示，使完全透光部分1b和透过率渐变部分1a对应待形成的第一基色滤光图案31，使完全不透光部分1d对应其他区域。
[0065]其中，完全透光部分1b对应待形成第一基色滤光图案31不与黑矩阵02接触的部分，透过率渐变部分1a对应待形成第一基色滤光图案31与黑矩阵02接触的部分；以透过率渐变部分1a与完全透光部分1b接触的一侧为参考，透过率渐变部分1a的透过率逐渐降低。
[0066]S23、如图4(b)所示，对第一基色滤光薄膜311进行曝光，显影后形成第一基色滤光图案31。
[0067]需要说明的是，第一，如图4(b)所示，以透过率渐变部分1a与完全透光部分1b接触的一侧为参考，沿该侧到透过率渐变部分1a与完全不透光部分1d接触的一侧，透过率渐变部分1a的透过率逐渐降低。
[0068]其中，待形成第一基色滤光图案31与黑矩阵02接触的区域可分为两个接触区域，第一接触区域与黑矩阵02的上表面02b接触，第二接触区域与黑矩阵02的侧面02a接触。为了使彩色滤光层03的上表面保持平坦，第一接触区域内第一基色滤光图案31的厚度应保持不变且厚度小于第二接触区域内第一基色滤光图案31的厚度，S卩，与第一接触区域对应的透过率渐变部分1a的透过率应保持一致，且透过率小于与第二接触区域对应的透过率渐变部分I Oa的透过率。
[0069]第二，完全不透光部分1d对应的区域为不设置第一基色滤光图案31的区域。
[0070]本发明实施例通过采用第二渐变透过率掩模板20，仅需一次构图工艺便可形成上表面平坦的第一基色滤光图案31，而且在一次构图工艺中仅需要成膜、曝光、显影，使得工艺更为简化，因而可提高生产效率。
[0071]进一步优选的，如图9所示，形成第二基色滤光图案32具体包括如下步骤:
[0072]S30、如图5(a)所示，在形成有黑矩阵02的衬底01上形成第二基色滤光薄膜322。
[0073]S31、如图5(b)所示，将第三渐变透过率掩模板30置于黑矩阵02—侧。
[0074]其中，第三渐变透过率掩模板30也同样包括完全透光部分10b、完全不透光部分I Od、以及透过率渐变部分I Oa。
[0075]S32、如图5(b)所示，使完全透光部分1b和透过率渐变部分1a对应待形成的第二基色滤光图案32，使完全不透光部分1d对应其他区域。
[0076]其中，完全透光部分1b对应待形成第二基色滤光图案32不与黑矩阵02接触的部分，透过率渐变部分1a对应待形成第二基色滤光图案32与黑矩阵02接触的部分；以透过率渐变部分1a与完全透光部分1b接触的一侧为参考，透过率渐变部分1a的透过率逐渐降低。
[0077]S33、如图5(b)所示，对第二基色滤光薄膜322进行曝光，显影后形成第二基色滤光图案32。
[0078]此处，形成第二基色滤光图案32的原理与形成第一基色滤光图案31的原理相同，在此不再赘述。
[0079]本发明实施例通过采用第三渐变透过率掩模板30，仅需一次构图工艺便可形成上表面平坦的第二基色滤光图案32，而且在一次构图工艺中仅需要成膜、曝光、显影，使得工艺更为简化，因而可提高生产效率。
[0080]进一步优选的，如图10所示，形成第三基色滤光图案33具体包括如下步骤:[0081 ] S40、如图6(a)所示，在形成有黑矩阵02的衬底01上形成第三基色滤光薄膜333。
[0082]S41、如图6(b)所示，将第四渐变透过率掩模板40置于黑矩阵02—侧。
[0083]其中，第四渐变透过率掩模板40也同样包括完全透光部分10b、完全不透光部分I Od、以及透过率渐变部分I Oa。
[0084]S42、如图6(b)所示，使完全透光部分1b和透过率渐变部分1a对应待形成的第三基色滤光图案33，使完全不透光部分1d对应其他区域。
[0085]其中，完全透光部分1b对应待形成第三基色滤光图案33不与黑矩阵02接触的部分，透过率渐变部分1a对应待形成第三基色滤光图案33与黑矩阵02接触的部分；以透过率渐变部分1a与完全透光部分1b接触的一侧为参考，透过率渐变部分1a的透过率逐渐降低。
[0086]S43、如图6 (b)所示，对第三基色滤光薄膜333进行曝光，显影后形成第三基色滤光图案33。
[0087]此处，形成第三基色滤光图案33的原理与形成第一基色滤光图案31的远离相同，在此不再赘述。
[0088]本发明实施例通过采用第四渐变透过率掩模板40，仅需一次构图工艺便可形成上表面平坦的第三基色滤光图案33，而且在一次构图工艺中仅需要成膜、曝光、显影，使得工艺更为简化，因而可提高生产效率。
[0089]进一步优选的，上述第二渐变透过率掩模板20、第三渐变透过率掩模板30和第四渐变透过率掩模板40可以为同一个掩模板，在形成不同基色的滤光图案时，只需平行移动掩模板即可。
[0090]优选的，如图11所示，所述制备方法还包括:在彩色滤光层03上方形成OC层50，OC层50的厚度为0.5±0.16111110
[0091]其中，在本发明所有实施例中，在衬底01上形成黑矩阵薄膜21、第一基色滤光薄膜311、第二基色滤光薄膜322、第三基色滤光薄膜333以及在彩色滤光层03上方形成OC层50等描述中，所指的形成可以为沉积、涂覆等，在此不做限定。
[0092]本发明实施例通过在彩色滤光层03的表面形成一层较薄的OC层50，可以避免因制作误差使第一基色滤光图案31、第二基色滤光图案32、第三基色滤光图案33之间存在间隙时，影响取向层涂布的均匀性。
[0093]本发明实施例还提供一种显示面板的制备方法，所述显示面板包括彩膜基板，该彩膜基板通过上述制备方法制备得到。
[0094]本发明实施例提供的显示面板的制备方法，在制备显示面板中的彩膜基板时，通过采用渐变透过率掩模板将黑矩阵02的侧面形成为楔形形状，并通过渐变透过率掩模板使彩色滤光层03的第一基色滤光图案31、第二基色滤光图案32和第三基色滤光图案33分别与黑矩阵02搭接处的厚度由各自边缘向中间部分逐渐递增，使任意搭接位置处，黑矩阵02的厚度与相应位置处滤光图案厚度叠加后的总厚度，与滤光图案的不与黑矩阵02搭接处的厚度一致，可使第一基色滤光图案31、第二基色滤光图案32和第三基色滤光图案33的上表面平坦。基于此，相对现有技术，可无需采用厚度较厚的OC层来保证取向层涂布的均匀性，进而可减小液晶显示器的厚度，降低生产成本。
[0095]本发明实施例提供一种彩膜基板，如图2所示，包括:衬底01、设置在衬底上的黑矩阵02、以及设置在黑矩阵02上方的彩色滤光层03，彩色滤光层03包括第一基色滤光图案31、第二基色滤光图案32和第三基色滤光图案33。
[0096]其中，黑矩阵02的侧面为楔形面，且黑矩阵02的靠近衬底01的下表面的面积大于上表面的面积;第一基色滤光图案31、第二基色滤光图案32和第三基色滤光图案33的上表面平坦。
[0097]其中，如图2所示，黑矩阵02的侧面为楔形面，相邻两个黑矩阵02之间形成有基色滤光图案，以第一基色滤光图案31为例，第一基色滤光图案31与相邻两个黑矩阵02分别搭接，其上表面为平面。
[0098]本发明实施例提供的彩膜基板，通过采用渐变透过率掩模板将黑矩阵02的侧面设置为楔形形状，并通过渐变透过率掩模板使彩色滤光层03的第一基色滤光图案31、第二基色滤光图案32和第三基色滤光图案33分别与黑矩阵02搭接处的厚度由各自边缘向中间部分逐渐递增，使任意搭接位置处，黑矩阵02的厚度与相应位置处滤光图案厚度叠加后的总厚度，与滤光图案的不与黑矩阵02搭接处的厚度一致，可使第一基色滤光图案31、第二基色滤光图案32和第三基色滤光图案33的上表面平坦。基于此，相对现有技术，可无需采用厚度较厚的OC层来保证取向层涂布的均匀性，进而可减小液晶显示器的厚度，降低生产成本。
[0099]优选的，如图2所示，黑矩阵02的相对侧面的倾斜角度相同。
[0100]本发明实施例通过使黑矩阵02的相对侧面的倾斜角度相同，使得彩色滤光层03与黑矩阵02侧面接触的面的倾斜角度也相同，从而可以简化制造工艺，减小工艺误差。
[0101]优选的，如图11所示，彩膜基板还包括设置在彩色滤光层03上方形成OC层50，0C层50 的厚度为 0.5±0.16umo
[0102]本发明实施例通过在彩色滤光层03的表面设置一层较薄的OC层50，可以避免因制作误差使第一基色滤光图案31、第二基色滤光图案32、第三基色滤光图案33之间存在间隙时，影响取向层涂布的均匀性。
[0103]本发明实施例还提供一种显示面板，包括上述的彩膜基板。
[0104]本发明实施例提供的显示面板，在制备显示面板中的彩膜基板时，通过采用渐变透过率掩模板将黑矩阵02的侧面设置为楔形形状，并通过渐变透过率掩模板使彩色滤光层03的第一基色滤光图案31、第二基色滤光图案32和第三基色滤光图案33分别与黑矩阵02搭接处的厚度由各自边缘向中间部分逐渐递增，使任意搭接位置处，黑矩阵02的厚度与相应位置处滤光图案厚度叠加后的总厚度，与滤光图案的不与黑矩阵02搭接处的厚度一致，可使第一基色滤光图案31、第二基色滤光图案32和第三基色滤光图案33的上表面平坦。基于此，相对现有技术，可无需采用厚度较厚的OC层来保证取向层涂布的均匀性，进而可减小液晶显示器的厚度，降低生产成本。
[0105]以上所述，仅为本发明的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
【主权项】
1.一种彩膜基板的制备方法，包括在衬底上依次形成黑矩阵和彩色滤光层，所述彩色滤光层包括第一基色滤光图案、第二基色滤光图案和第三基色滤光图案;其特征在于， 形成所述黑矩阵包括:采用第一渐变透过率掩模板形成侧面为楔形面的黑矩阵;其中，所述第一渐变透过率掩模板的透过率渐变部分与待形成的所述黑矩阵的侧面对应； 形成所述彩色滤光层包括:采用第二渐变透过率掩模板形成所述第一基色滤光图案，其中，所述第二渐变透过率掩模板的透过率渐变部分与待形成所述第一基色滤光图案的与所述黑矩阵搭接的部分对应； 采用第三渐变透过率掩模板形成所述第二基色滤光图案，其中，所述第三渐变透过率掩模板的透过率渐变部分与待形成所述第二基色滤光图案的与所述黑矩阵搭接的部分对应； 采用第四渐变透过率掩模板形成所述第三基色滤光图案，其中，所述第四渐变透过率掩模板的透过率渐变部分与待形成所述第三基色滤光图案的与所述黑矩阵搭接的部分对应。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，形成所述黑矩阵，具体包括: 在衬底上形成黑矩阵薄膜； 将第一渐变透过率掩模板置于所述黑矩阵薄膜一侧；其中，所述第一渐变透过率掩模板包括完全透光部分、完全不透光部分、以及透过率渐变部分； 使所述完全透光部分和所述透过率渐变部分对应待形成的所述黑矩阵，使所述完全不透光部分对应其他区域;其中，所述完全透光部分与待形成黑矩阵的上表面在所述衬底上的投影完全对应，所述透过率渐变部分与待形成黑矩阵的侧面在所述衬底上的投影完全对应；以所述透过率渐变部分与所述完全透光部分接触的一侧为参考，所述透过率渐变部分的透过率逐渐降低； 对所述黑矩阵薄膜进行曝光，显影后形成所述黑矩阵。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，以任意所述透过率渐变部分与所述完全透光部分接触的一侧为参考，所述透过率渐变部分的透过率变化规律一致。4.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于，形成所述第一基色滤光图案，包括: 在形成有所述黑矩阵的衬底上形成第一基色滤光薄膜； 将第二渐变透过率掩模板置于所述黑矩阵一侧，所述第二渐变透过率掩模板包括完全透光部分、完全不透光部分、以及透过率渐变部分； 使所述完全透光部分和所述透过率渐变部分对应待形成的所述第一基色滤光图案，使所述完全不透光部分对应其他区域;其中，所述完全透光部分对应待形成第一基色滤光图案不与所述黑矩阵接触的部分，所述透过率渐变部分对应待形成第一基色滤光图案与所述黑矩阵接触的部分；以所述透过率渐变部分与所述完全透光部分接触的一侧为参考，所述透过率渐变部分的透过率逐渐降低； 对所述第一基色滤光薄膜进行曝光，显影后形成所述第一基色滤光图案。5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，形成所述第二基色滤光图案，包括: 在形成有所述黑矩阵的衬底上形成第二基色滤光薄膜； 将第三渐变透过率掩模板置于所述黑矩阵一侧，所述第三渐变透过率掩模板包括完全透光部分、完全不透光部分、以及透过率渐变部分； 使所述完全透光部分和所述透过率渐变部分对应待形成的所述第二基色滤光图案，使所述完全不透光部分对应其他区域;其中，所述完全透光部分对应待形成第二基色滤光图案不与所述黑矩阵接触的部分，所述透过率渐变部分对应待形成第二基色滤光图案与所述黑矩阵接触的部分；以所述透过率渐变部分与所述完全透光部分接触的一侧为参考，所述透过率渐变部分的透过率逐渐降低； 对所述第二基色滤光薄膜进行曝光，显影后形成所述第二基色滤光图案。6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，形成所述第三基色滤光图案，包括: 在形成有所述黑矩阵的衬底上形成第三基色滤光薄膜； 将第四渐变透过率掩模板置于所述黑矩阵一侧，所述第四渐变透过率掩模板包括完全透光部分、完全不透光部分、以及透过率渐变部分； 使所述完全透光部分和所述透过率渐变部分对应待形成的所述第三基色滤光图案，使所述完全不透光部分对应其他区域;其中，所述完全透光部分对应待形成第三基色滤光图案不与所述黑矩阵接触的部分，所述透过率渐变部分对应待形成第三基色滤光图案与所述黑矩阵接触的部分；以所述透过率渐变部分与所述完全透光部分接触的一侧为参考，所述透过率渐变部分的透过率逐渐降低； 对所述第三基色滤光薄膜进行曝光，显影后形成所述第三基色滤光图案。7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，还包括在彩色滤光层上方形成OC层，所述OC层的厚度为0.5 ±0.16um。8.一种显示面板的制备方法，所述显示面板包括彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板通过权利要求1-7任一项所述的方法制备得到。9.一种彩膜基板，包括:衬底、设置在所述衬底上的黑矩阵、以及设置在所述黑矩阵上方的彩色滤光层，所述彩色滤光层包括第一基色滤光图案、第二基色滤光图案和第三基色滤光图案;其特征在于， 所述黑矩阵的侧面为楔形面，且所述黑矩阵的靠近所述衬底的下表面的面积大于上表面的面积； 所述第一基色滤光图案、所述第二基色滤光图案和所述第三基色滤光图案的上表面平坦。10.根据权利要求9所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵的相对侧面的倾斜角度相同。11.根据权利要求9或10所述的彩膜基板，其特征在于，还包括设置在所述彩色滤光层上方形成OC层，所述OC层的厚度为0.5 ±0.16um。12.—种显示面板，包括彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板为权利要求9-11任一项所述的彩膜基板。
【文档编号】G02F1/1335GK106054443SQ201610688673
【公开日】2016年10月26日
【申请日】2016年8月18日
【发明人】李晓光, 肖宇, 汪栋, 姜晶晶
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方显示技术有限公司