介质反射镜的制作方法
【专利摘要】一种介质反射镜，包括具交替的高、低折射率层的涂层。所述高折射率层含有氧化铌和/或氧化钛，且所述低折射率层含有氧化硅。所述在示例性实施例中，反射镜涂层没有铝或银的金属反射层，以及在示例性实施例中可具有约50?90％的薄膜侧和/或玻璃侧可见光反射率(更优选是约60?80％，且最优选是约65％?75％)，以及约10?50％的可见光透射率(更优选是约10?40％或20?40％)。所述层的厚度及相关厚度与其折射率一样被特定。所述玻璃基片侧和薄膜侧之间的非对称反射被实现。
【专利说明】介质反射镜
[0001 ]本申请是2013年2月13日提交的美国申请No. 13/766,025的部分续申请案(CIP)， 其全部内容被纳入此处作为参考。
[0002] 本发明的示例性实施例设及一种介质反射镜和/或制备其的方法。示例性实施例 设及一种介质反射镜，其可实现约50-90%的薄膜侧和/或玻璃侧可见光反射率(更优选是 约60-80 %，最优选是约65 % -75 % )，W及约10-50 %的可见光透射率(更优选是约10-40 %， 甚至更优选是约20-40%，最优选是约25-35% )。
[0003] 发明的背景及示例性实施例概述
[0004] 反射镜已存在多年并已在许多应用中被使用。反射镜通常具有W下特征：（a)第一 表面反射镜，其中反射镜涂层被配置在观察器和支撑玻璃基片之间，或(b)第二表面反射 镜，其中支撑玻璃基片被插在观察器和反射镜涂层之间。例如，参照美国专利Nos . 7，276， 289和 7,678,459;美国公开 Nos. 2006/0077580; 2007/0178316; 2008/0073203; 2008/ 0164173; 2010/0229853; 2011/0176212;和 2011/0176236。上述各专利文件中的全部内容被 纳入此处作为参考。
[0005] 反射镜通常需要使用金属(侣或银)反射层。然而，如果在配置反射镜时无需侣或 银的金属反射层将会更理想。
[0006] 本发明的示例性实施例设及一种介质反射镜和/或制备其的方法。特别是，示例性 实施例设及一种无金属反射层(例如，没有银层和没有侣层）的介质反射镜，且仍然可W实 现约50-90%的薄膜侧和/或玻璃侧可见光反射率（最优选是约60-80%，且最优选是约 65%-75% )和10-50%的可见光透射率(更优选是约10-40%，且更优选是约20-40%，最优 选是约25-35%)。在示例性实施例中，含有NiCr或类似的层，可被轻微或明显地氧化，并在 一些示例性情况下被提供。在示例性实施例中，介质反射镜可W是第一或第二表面反射镜， 鉴于玻璃侧反射和薄膜侧反射两者具有良好性能。在示例性实施例中，该反射镜可W或也 可W不被热处理(例如，热回火和/或热弯曲）。在一些实例中，该介质反射镜可用于类似相 框，浴室反射镜，电视，和/或电子设备的消费市场，商业、和/或数字标牌应用中。
[0007] 在本发明的示例性实施例，提供一种含有用于支撑涂层的玻璃基片的介质反射 镜，所述涂层从所述玻璃基片向上依次包含:第一透明介质高折射率层，含有氧化妮和/或 氧化铁，所述第一透明介质高折射率层的厚度为70-140nm;第二透明介质低折射率层，含有 氧化娃，所述第二透明介质低折射率层的厚度为30-140nm;第Ξ透明介质高折射率层，含有 氧化妮和/或氧化铁;第四透明介质低折射率层，含有氧化娃;第五透明介质高折射率层，含 有氧化妮和/或氧化铁，其中，所述含有氧化妮和/或氧化铁的第一透明介质高折射率层，其 与(a)所述含有氧化妮和/或氧化铁的第Ξ透明介质高折射率层，和/或(a)所述含有氧化妮 和/或氧化铁的第五透明介质高折射率层中的一个或两个相比，至少厚lOnm;其中，所述涂 层不包括任何基于侣或银的金属反射层，且其中，所述介质反射镜具有W下特征：（i)薄膜 侧可见光反射率或玻璃侧可见光反射率约为50-90%，W及（ii)可见光透射率为约10- 40%，且其中，所述反射镜的所述玻璃侧可见光反射率与所述反射镜的薄膜侧可见光反射 率相比，至少高30%或至少低30%。该反射镜可进一步包括:对称调整层，位于所述第Ξ透 明介质高折射率层和所述第五透明介质高折射率层之间。该对称调整层可含有儀铭或类似 等，并可至少部分被氧化。该对称调整层可位于所述第Ξ透明介质高折射率层和所述含有 氧化娃的第四透明介质低折射率层之间并与其接触，或者可位于所述第五透明介质高折射 率层和所述含有氧化娃的第四透明介质低折射率层之间并与其接触。反射镜的玻璃基片可 W是灰色的玻璃基片，而不是使用对称调整层，从而实现反射镜的薄膜侧和玻璃侧之间的 可见光反射非对称。
[0008] 在本发明的示例性实施例中，提供一种含有用于支撑涂层的基片的介质反射镜， 所述涂层从所述基片向上依次包含：第一介质层，厚度为70-140nm，且折射率(η)为2.15- 2.5;第二介质层，含有氧化娃;第Ξ介质层，折射率为2.15-2.5;第四介质层，含有氧化娃； 第五介质层，折射率为2.15-2.5，其中，所述第一介质层与所述第Ξ介质层和/或第五介质 层中的一个或两个相比，至少厚20nm，且其中，所述涂层不包含任何金属的反射层。
[0009] 在本发明的示例性实施例，提供一种含有用于支撑涂层的玻璃基片的介质反射 镜，所述涂层从所述玻璃基片向上依次包含:第一透明介质高折射率层，含有氧化妮，所述 第一透明介质高折射率层的厚度为70-140nm;第二透明介质低折射率层，含有氧化娃，所述 第二透明介质低折射率层的厚度为30-140nm;第Ξ透明介质高折射率层，含有氧化妮;第四 透明介质低折射率层，含有氧化娃;第五透明介质高折射率层，含有氧化妮，其中，所述含有 氧化妮的第一透明介质高折射率层，其与所述含有氧化妮的第Ξ透明介质高折射率层，和/ 或所述含有氧化妮的第五透明介质高折射率层中的一个或两个相比，至少厚lOnm，其中，所 述涂层不包括任何基于侣或银的金属反射层，且其中，所述介质反射镜，具有约50-90%的 薄膜侧可见光反射率和/或玻璃侧可见光反射率，W及约10-40%的可见光透射率。
[0010] 在本发明的示例性实施例，提供了一种含有用于支撑涂层的基片(例如玻璃基片） 的介质反射镜，所述涂层从所述基片向上依次包含:第一介质层，厚度为70-140nm，且折射 率(η)为2.15-2.5;第二介质层，含有氧化娃;第Ξ介质层，折射率为2.15-2.5;第四介质层， 含有氧化娃;第五介质层，折射率为2.15-2.5，其中，所述第一介质层与所述第Ξ介质层和/ 或第五介质层中的一个或两个相比，至少厚lOnm，其中，所述涂层不包含任何金属的反射 层，且其中，所述反射镜，具有约50-90%的薄膜侧可见光反射率和/或玻璃侧可见光反射 率，W及约20-40%的可见光透射率。
[0011] 附图简要说明
[0012] 图1是示出根据本发明的示例性实施例的介质反射镜的横截面示图。
[0013] 图2是示出根据图1实施例的示例性介质反射镜的光学特性的图表，其中调制波长 (nm)与可见光透射(Ts)、薄膜侧反射(BRs)、玻璃侧反射(Ra)相比较。
[0014] 图3是示出根据图1实施例的示例性介质反射镜的反射颜色的角分布图表，其中调 制角度(度数)与玻璃侧反射a*和b*颜色值相比较。
[0015] 图4是示出根据本发明的示例性实施例的介质反射镜的横截面示图。
[0016] 图5(a)和5(b)是示出根据本发明的示例性实施例的介质反射镜的横截面示图。 [0017]本发明示例性实施例的具体说明
[0018] W下参照附图进行详细说明，其中多个附图中的相同的参照符号表示相同的部 件/材料。
[0019] 图1是示出根据本发明的示例性实施例的介质反射镜100的横截面示图。反射镜包 括:位于玻璃基片1上的介质涂层150。在本发明的示例性实施例中，玻璃基片1可w是基于 钢巧娃的玻璃或任何其他合适的类型的玻璃，且厚度可约为1-10毫米，更优选是厚度约为 2-6毫米。另外，基片1可W是石英，娃，或类似等。反射镜涂层150包括:含有氧化妮（例如， 抓2〇5,师化和/或师0)的高折射率透明介质层2、4、6,和含有氧化娃(例如Si〇2,可W或也可 W不渗杂侣和/或氮)的低折射率透明介质层3和5。在示例性实施例中，氧化娃层3和/或5中 的一个或两个可渗杂其他材料，例如约1 -8 %的侣和/或约1 -10 %的氮。在示例性的例子中， 层2、4和6中的一个或多个也可渗杂其他材料。在图1的实施例中，层6是涂层150的最外层， 可暴露于空气中。由于层2-7中每一个是独立的，对于可见光为基本透明（例如，至少约50% 透明，对于可见光更优选是至少约60%或70%透明），因此，层2-7中每一个可被认为是"透 邸'的。
[0020] 含有氧化妮的高折射率透明介质层2、4和6可具有约2.15-2.5的折射率(η)，更优 选是约2.2-2.4，且最优选是约2.25-2.35(在550皿处）。在另一实施例中，高折射率层2、4、 和/或6中的一个或多个中，氧化妮可替换成氧化铁(如Ti化）、氧化错、氧化给(例如，Hf〇2)、 氧化姉(如Ce化）、硫化锋、或氧化祕(如Bi2〇3)。因此，在该示例，层6可含有氧化铁，而层2和4 可含有氧化妮，且层3和5可含有氧化娃。含有氧化娃的低折射率透明介质层3和5可具有约 1.4-1.7的折射率(η)，更优选是约1.4-1.6，且最优选是约1.45-1.55(在此，所有的折射率η 值在550nm处被测量）。
[0021] 在本发明的示例性实施例中，透明介质层2-6优选是经瓣射被沉积。例如，含有氧 化妮的透明介质层2、4和6可通过在含有氣气和活性氧气体混合物的大气中瓣射至少一个 含有Nb的瓣射对象被瓣射沉积。例如，含有氧化娃的透明介质层3和5或可通过在含有氣气 和活性氧气体混合物的大气中瓣射至少一个含有Si或SiAl的瓣射对象被瓣射沉积。可是用 旋转C-Mag瓣射对象、或其他类型的对象。在瓣射操作中，可使用足够的活性氧气体来实现 在此所述的折射率值。另外可使用陶瓷对象来瓣射沉积一个或多个层。虽然层2-6优选是通 过瓣射被沉积，但在本发明的其他实施例中还可通过其他技术被沉积。虽然图1实施例中示 出反射镜涂层150由五层组成，在其他实施例中，还可提供附加的层。
[0022] 在图1实施例中和其他实施例中，虽然介质反射镜100不包含金属反射层(例如，没 有银层和侣层），但仍然能够实现约50-90%的薄膜侧和/或玻璃侧可见光反射率(更优选是 约60-80%，且最优选是约65%-75% )，W及约10-50 %的可见光透射率（更优选是约10- 40 %，甚至更优选是约20-40 %，最优选是约25-35 % )。虽然没有金属反射层，但通过将涂层 150中相邻层之间较大的折射率差异与在此所述的层厚度值相结合，可实现高反射值。在示 例性实施例中，玻璃侧反射(从反射镜的玻璃1侧被测量的反射）W及薄膜侧反射(从反射镜 的薄膜150侧被测量的反射)可能基本对称(例如，反射镜的玻璃侧反射率和薄膜侧反射率 的差异可约为10% W下）。在此所述折射率和厚度值也可W被定制，W允许透射和反射的颜 色值(例如，a*和/或b*颜色值)是基本上中性的。在示例性实施例中，介质反射镜100可W是 第一或第二表面反射镜。例如介质反射镜100可作为分束器被使用。在示例性实施例中，反 射镜100可被热处理或也可W不被热处理(例如，热回火和/或热弯曲）。在示例性的例子中， 该介质反射镜100可用于类似相框，浴室反射镜，电视，和/或电子设备的消费市场，商业、 和/或数字标牌应用中。该反射镜可在消费市场、保安、商业和/或数字标牌的应用中用于电 子反射镜或隐蔽电视。在电子应用中，当显示器被打开，通过玻璃1可W看到屏幕上的图像， 当显示被关闭，反射镜100具有反射镜的外观，提供在此所述的反射和可见光透射值。
[0023] 图4是根据本发明的另一个示例性实施例的介质反射镜的横截面示图。除了透明 介质阻挡层7被配置在玻璃基片1和高折射率层2之间W外。图4的实施例与图1的实施例相 同。在本发明的示例性实施例中，阻挡层7含有氮化娃(如Si3N4)。在示例性实施例中，基于氮 化娃的阻挡层7可渗杂其他材料，例如约1-8%的侣和/或约1-10%的氧。图4的实施例在热 处理(例如，热回火)的实施例中特别有用，其中，阻挡层7有助于防止或减少元素(例如，钢） 在高溫热处理过程中从玻璃基片上迁移。该热处理（例如，热回火）可包括：例如在至少约 580摄氏度的加热炉中加热涂层制品，更优选是至少约600摄氏度。在本发明的示例性实施 例中，如图4实施例中的反射镜可W或也可W不热处理(例如，热回火）。
[0024] 在本发明的示例性实施例中，含氧化妮的透明介质层2的厚度可约为70-140nm，更 优选是厚度约为80130nm，更优选是厚度约为90-120nm，用一个例子厚度约105nm。在本发明 的示例性实施例中，含氧化妮的透明介质层4的厚度可约为20-Wnm，更优选是厚度约为30 ~80nm，更优选是厚度约为40-65nm，示例性的厚度约为52nm。同样，在本发明的示例性实施 例中，含氧化妮的透明介质层6的厚度可约为20-90nm，更优选是厚度约为30~80nm，更优选 是厚度约为40-70nm，示例性厚度约为54nm。为了实现所需的反射率和透射率，在此，基于氧 化妮的层2优选是比基于氧化妮的层4和6中的每一个厚。例如，在示例性实施例中，基于氧 化妮的层2与基于氧化妮的层4和/或6中一个或两个相比，至少厚约lOnm(更优选是至少厚 约25nm，且最优选是至少厚约40nm)。
[0025] 在本发明的示例性实施例中，含有氧化娃的透明介质层3的厚度约为30-140nm，更 优选约40120nm厚，更优选是厚度约为60-120nm，更优选是厚度约为75-lOOnm，示例性厚度 约为88nm。同样，在本发明的示例性实施例，含有氧化娃的透明介质层5的厚度可约为30- 140nm，更优选是厚度约为40-120nm，更优选是厚度约为60-120nm，甚至更优选是厚度约为 75-lOOnm，示例性厚度约为88nm。因此，在示例性实施例中，基于氧化娃的层3和5可基本上 具有相同的厚度（即，在示例性实施例中，基于氧化娃层3和5的厚度差异不超过20nm，更优 选是不超过lOnm)。在示例性实施例中，基于氧化娃的层3和/或5中的一个或两个与基于氧 化妮的层2相比，至少薄约lOnm(更优选是至少薄约15nm)，并且与基于氧化妮的层4和/或6 相比，至少厚约lOnm(更优选是至少厚约20nm)。
[0026] 在示例性实施例中，透明介质阻挡层7(其可被瓣射沉积)厚度可约为10-150nm，更 优选是厚度约为10-40nm，更优选是厚度约为10-30nm，示例性厚度约为20nm。在示例性实施 例中，阻挡层7可具有约1.95-2.10的折射率，更优选是约2-2.05。
[0027] 示例 1
[0028] 根据本发明实施例的一个示例性介质反射镜100,其通过W下结构被制备：
[0029] 透明玻璃基板1
[0030] 氧化妮层2:105nm厚 [00川氧化娃层3:88nm厚
[0032] 氧化妮层4:53nm厚
[0033] 氧化娃层5:88nm厚
[0034] 氧化妮层6:53nm厚
[0035] 本示例性反射镜的光学性质如图2-3所示。使用透明的玻璃基片。图2是示出示例 性介质反射镜的光学特性的图表，其中调制波长（nm)与可见光透射（Ts)、薄膜侧反射 (BRs)、玻璃侧反射(Ra)相比较；图3是示出示例性介质反射镜的反射颜色的角分布图表，其 中调制角度(度数)与玻璃侧反射a*和b*颜色值相比较。W下可见光值化*、可见光透射率值 (TY或化Y)，可见光反射率值(薄膜侧RfY或BRa，玻璃侧R巧或Ra)，可见光透射/反射颜色值 a*和b*)被测定：
[0036] 表1
[0037]
[0038] 因此，从上述表1中示出，介质反射镜具有30%的可见光透射率，70%的玻璃侧可 见光反射率，和68 %的薄膜侧可见光反射率(玻璃侧和薄膜侧反射率基本相同）。此外，还可 W看到，反射镜具有中性的（-2至+ 2)玻璃侧和薄膜侧反射颜色值a*和b*。上述都按照 111. C，2degree被测量。在图3中可W看出，反射a*和b*颜色值的角分布没有大的波动，角度 约为0-30度。
[0039] 如图2所示，反射镜的优点在于385nm处的紫外线(UV)透射率至少约为70% W上， 更优选是至少约为75%，且更优选是至少约为80%或85% (图2中385nm处的Ts曲线），此外， 如图2所示，可见光透射率约为40% W下，更优选是约为35% W下。该较高的紫外线透射，与 较低的可见光透射和高反射率值相禪合，使反射镜特别适合于高紫外线的一些应用中。
[0040] 示例2
[0041] 根据本发明实施例的另一个示例性介质反射镜100,其通过W下结构被制备：
[0042] 透明玻璃基板1
[0043] 氧化妮层2:108nm厚
[0044] 氧化娃层3:88nm厚
[0045] 氧化妮层4:55nm厚
[0046] 氧化娃层5:90nm厚
[0047] 氧化妮层6:53nm厚
[004引 W下示出有关示例2反射镜的可见光透射(Ts或TY)、可见光反射(薄膜侧RfY和玻 璃侧R巧可见光反射及颜色值a*、b*的光学特性：
[0049]表 2
[(K)加 ]
[0051]因此，从上述表2中可W看出，本示例性介质反射镜具有约29%的可见光透射率， 约70%的玻璃侧可见光反射率，W及约71 %的薄膜侧可见光反射率(玻璃侧和薄膜侧可见 光反射率基本相同）。此外，还可W看到，反射镜具有中性的（-2至+2)玻璃侧和薄膜侧反射 颜色值a*和b*。上述都按照111. C, 2degree被测量。
[0化2] 示例3
[0053]根据本发明实施例的另一个示例性介质反射镜100,其通过W下结构被制备：
[0化4]透明玻璃基板1 [0055] 氮化娃层7:20nm厚 [0化6] 氧化妮层2:98nm厚 [0化7] 氧化娃层3:88nm厚 [0化引氧化妮层4:55nm厚 [0化9] 氧化娃层5:90nm厚
[0060] 氧化妮层6:53nm厚
[0061] W下示出有关本示例3反射镜的可见光透射(Ts或TY)，可见光反射(薄膜侧RfY和 玻璃侧R巧可见光反射）W及颜色值a*、b*的光学特性：
[0062] 表 3
[0063]
[0064] 因此，从上述表3中可W看出，本示例性介质反射镜（例如参照图4)具有约29%的 可见光透射率，约69%的玻璃侧可见光反射率，W及约71 %的薄膜侧可见光反射率(玻璃侧 和薄膜侧可见光反射率基本相同）。此外，还可W看到，反射镜具有中性的（-2至+2)玻璃侧 和薄膜侧反射颜色值a*和b*。上述都按照111. C，2degree被测量。
[00化]示例4
[0066] 根据本发明实施例的另一个示例性介质反射镜100,其通过W下结构被制备：
[0067] 透明玻璃基板1
[0068] 氧化妮层2:124nm厚
[0069] 氧化娃层3:45nm厚
[0070] 氧化妮层4:72nm厚
[0071] 氧化娃层5:68nm厚
[0072] 氧化妮层6:71nm厚
[0073] W下示出有关本示例4反射镜的可见光透射(Ts或TY)，可见光反射(薄膜侧RfY和 玻璃侧R巧可见光反射及颜色值a*、b*的光学特性：
[0074] 表 4
[0075]
[0076]
[0077] 因此，从上述表4中可W看出，本示例性介质反射镜具有约39%的可见光透射率， 约58%的玻璃侧可见光反射率，W及约60%的薄膜侧可见光反射率(玻璃侧和薄膜侧可见 光反射率基本相同）。此外，还可W看到，反射镜具有中性的（-3.0至+3.0)玻璃侧和薄膜侧 反射颜色值a*和b*。上述都按照111. C，2degree被测量。
[0078] 示例5
[0079] 根据本发明实施例的另一个示例性介质反射镜100,其通过W下结构被制备：
[0080] 透明玻璃基板1
[0081 ] 氮化娃层7:21.4nm厚
[0082] 氧化妮层2:106.6nm厚
[0083] 氧化娃层3:43.3nm厚
[0084] 氧化妮层4:59.4nm厚
[0085] 氧化娃层5:80.1 nm厚
[0086] 氧化妮层6:67.3nm厚
[0087] W下示出有关本示例5反射镜的可见光透射(Ts或TY)，可见光反射(薄膜侧RfY和 玻璃侧R巧可见光反射）W及颜色值a*、b*的光学特性：
[0088] 表 5
[0089]
[0090] 因此，从上述表5中可W看出，本示例性介质反射镜具有约39%的可见光透射率， 约58%的玻璃侧可见光反射率，W及约60%的薄膜侧可见光反射率(玻璃侧和薄膜侧可见 光反射率基本相同）。此外，还可W看到，反射镜具有中性的（-2至+2)玻璃侧和薄膜侧反射 颜色值a*和b*。上述都按照111. C, 2degree被测量。
[0091] 示例 6
[0092] 根据本发明实施例的另一个示例性介质反射镜100,其通过W下结构被制备：
[0093] 透明玻璃基板1
[0094] 氧化妮层2:19.5nm厚
[0095] 氧化娃层3:27nm厚
[0096] 氧化妮层4:59. Inm厚
[0097] 氧化娃层5:91.8nm厚 [009引氧化妮层6:57.6nm厚
[0099] W下示出有关本示例6反射镜的可见光透射(Ts或TY)，可见光反射(薄膜侧RfY和 玻璃侧R巧可见光反射）W及颜色值a*、b*的光学特性：
[0100] 表6
[0101]
[0102] 因此，从上述表6中可W看出，本示例性介质反射镜具有约48%的可见光透射率， 约50%的玻璃侧可见光反射率，约51 %的薄膜侧可见光反射率(玻璃侧和薄膜侧可见光反 射率基本相同）。此外反射镜具有中性的(-2至+2)玻璃侧和薄膜侧反射颜色值a*和b*。上述 都按照111. C，2degree被测量。
[0103] 示例 7
[0104] 根据本发明实施例的另一个示例性介质反射镜100,其通过W下结构被制备：
[0105] 透明玻璃基板1
[0106] 氮化娃层7:20nm厚
[0107] 氧化妮层2:8.4nm厚 [010引氧化娃层3:20nm厚
[0109] 氧化妮层4:55.6nm厚
[0110] 氧化娃层5:89.4nm厚
[0111] 氧化妮层6:56.3nm厚
[0112] W下示出有关本示例7反射镜的可见光透射(Ts或TY)，可见光反射(薄膜侧RfY和 玻璃侧R巧可见光反射）W及颜色值a*、b*的光学特性：
[0113] 表7
[0114]
[0115] 因此，从上述表7中可W看出，本示例性介质反射镜具有约48%的可见光透射率， 约50%的玻璃侧可见光反射率，W及约51 %的薄膜侧可见光反射率(玻璃侧和薄膜侧可见 光反射率基本相同）。此外，还可W看到，反射镜具有中性的（-2至+2)玻璃侧和薄膜侧反射 颜色值a*和b*。上述都按照111. C, 2degree被测量。
[0116] 示例 8
[0117] 根据本发明实施例的另一个示例性介质反射镜100,其通过W下结构被制备：
[011引透明玻璃基板1
[0119] 氧化妮层2:9nm厚
[0120] 氧化娃层3:20nm厚
[0121] 氧化妮层4:85nm厚
[0122] 氧化娃层5:103nm厚
[0123] 氧化妮层6:30nm厚
[0124] W下示出有关本示例8反射镜的可见光透射(Ts或TY)，可见光反射(薄膜侧RfY和 玻璃侧R巧可见光反射）W及颜色值a*、b*的光学特性：
[01巧]表8
[0126]
[0127]因此，从上述表8中可W看出，本示例性介质反射镜具有约58%的可见光透射率， 约40%的玻璃侧可见光反射率，W及约41 %的薄膜侧可见光反射率(玻璃侧和薄膜侧可见 光反射率基本相同）。此外，还可W看到，反射镜具有中性的（-2至+2)玻璃侧和薄膜侧反射 颜色值a*和b*。上述都按照111. C，2degree被测量。
[012引 示例9
[0129] 根据本发明实施例的另一个示例性介质反射镜100,其通过W下结构被制备：
[0130] 透明玻璃基板1
[0131] 氮化娃层7:20nm厚
[0132] 氧化妮层2:8.4nm厚
[0133] 氧化娃层3:28.8nm厚
[0134] 氧化妮层4:60.3nm厚 [01巧]氧化娃层5:49nm厚
[0136] 氧化妮层6:80.1 nm厚
[0137] W下示出有关本示例9反射镜的可见光透射(Ts或TY)，可见光反射(薄膜侧RfY和 玻璃侧R巧可见光反射及颜色值a*、b*的光学特性：
[013引表9
[0139]
[0140] 因此，从上述表9中可W看出，本示例性介质反射镜具有约59%的可见光透射率， 约38%的玻璃侧可见光反射率，W及约40%的薄膜侧可见光反射率(玻璃侧和薄膜侧可见 光反射率基本相同）。此外，还可W看到，反射镜具有中性的（-2至+2)玻璃侧和薄膜侧反射 颜色值a*和b*。上述都按照111. C，2degree被测量。
[0141] 如上所述，根据本发明的示例1-9,使用透明玻璃基片1、导致在每一种情况下反射 镜的玻璃侧可见光反射率与反射镜的薄膜侧可见光反射率基本上相同。然而，在本发明的 另一个实施例中，对称的玻璃侧和薄膜侧可见光反射率并不总是可取的。在一些情况下，反 射镜可能需要非对称的玻璃侧和薄膜侧可见光反射率。本发明的示例性实施例中已经提供 了几种方法。第一种方法(例如，参见下面的示例10)是使用灰色玻璃基片1而不是图1-4中 所述的透明玻璃基片，在此发现可实现非对称的玻璃侧与薄膜侧可见光反射率。第二种方 法是提供对称调整层(例如含有儀铭、氧化儀铭或类似等)被配置在堆找中，位于被设计用 来调整玻璃侧与薄膜侧之间可见光反射对称性的位置，从而来使其不对称。通过运两种方 法，反射镜的玻璃侧可见光反射率与反射镜薄膜侧可见光反射率至少约30%不同，更优选 是至少约40%不同。示例10是第一种方法的例子，其中玻璃基片被调整W提供非对称性。
[0142] 示例 10
[0143] 根据本发明实施例的另一个示例性介质反射镜100,其通过W下结构被制备：
[0144] 灰色玻璃基板1
[0145] 氧化妮层2:105nm厚
[0146] 氧化娃层3:110nm厚
[0147] 氧化妮层4:40nm厚
[0148] 氧化娃层5:110nm厚
[0149] 氧化妮层6:45nm厚
[0150] W下示出有关本示例10反射镜零度视角处的可见光透射(Ts或TY)，可见光反射 (薄膜侧RfY和玻璃侧R巧可见光反射）W及颜色值a*、b*的光学特性：
[0151] 表10
[0152]
[0153] 因此，从上述表10中可W看出，本示例性介质反射镜具有约14%的可见光透射率， 约69%的玻璃侧可见光反射率，W及约18%的薄膜侧可见光反射率(玻璃侧和薄膜侧可见 光反射率基本相同）。此外，还可W看到，反射镜具有中性的（-2至+2)玻璃侧和薄膜侧反射 颜色值a*和b*。上述都按照Ill.C，2degree被测量。此外，在示例10中提供了灰色(灰白）玻 璃基片，提供非对称可见光反射值，且在一些情况下具有优势。因此，在本发明的示例性实 施例中，反射镜的玻璃侧可见光反射率与薄膜侧可见光反射率至少约30%不同，更优选是 至少约40 %不同。
[0154] 示例11和12为第二方法的实例，对称调整层(例如，含有Μ化、NiCrOx，或类似)被 配置在反射镜堆找中，位于被设计用来调整玻璃侧与薄膜侧之间可见光反射对称性的位 置，从而来使其不对称。示例11反射镜在图5(a)中被示出且示例12反射镜在图5(b)中被示 出。除了附加的对称调整层8被配置在堆找中W外，图5(a)和5(b)实施例与上述图1-4实施 例相同。当然，如果需要的话，还可W在图5(a)-(b)实施例中选择性地配置含有氮化娃的层 7。
[0155] 示例 11
[0156] 根据本发明实施例的一个示例性介质反射镜100,其通过W下结构被制备：
[0157] 透明玻璃基板1
[0158] 氧化妮层2:130nm厚
[0159] 氧化娃层3:41nm厚
[0160] 氧化妮层4:67nm厚
[0161] 氧化娃层5:93nm厚
[0162] Ni化对称调整层8:20nm厚
[0163] 氧化妮层6:35.5nm厚
[0164] 示例 12
[0165] 根据本发明实施例的一个示例性介质反射镜100,其通过W下结构被制备：
[0166] 透明玻璃基板1
[0167] 氧化妮层2:102nm厚
[0168] 氧化娃层3:95nm厚
[0169] 氧化妮层4:52nm厚
[0170] NiCr对称调整层8:10nm厚
[0171] 氧化娃层5:49nm厚
[0172] 氧化妮层6:65nm厚
[0173] 与上述说明的示例10相似，提供含有儀铭的对称调整层8可使薄膜侧和玻璃侧的 可见光反射非对称。然而，在图5(a)和5(b)所示的定位之间转换对称调整层8(其可被 轻微或明显氧化）的位置时被发现可反转不对称。换句话说，通过使用层8位置中的一个可 实现较高的玻璃侧可见光反射率和较低的薄膜侧可见光反射率，反之通过使用层8位置中 的另一个可实现较低的玻璃侧可见光反射率和较高的薄膜侧可见光反射率。在该两个示例 11-12中，反射镜的可见光透射率约为18-20%。但是，在该两个示例的一个中，玻璃侧可见 光反射率为66%，且薄膜侧可见光反射率为10%，而在该两个示例的另一个中，玻璃侧可见 光反射率为30%，且薄膜侧可见光反射率为73%。因此，基于儀铭的层8不是产生反射的层 (相反，基于儀铭的层8降低基于其所在位置中的一侧的反射），但是在一定情况下，其可使 可见光反射在玻璃侧和薄膜侧之间不对称。在本发明的示例性实施例，对称调整层8(例如 含有儀铭，可W或也可W不氧化）的厚度约为3-50nm，更优选是厚度约为5-45nm，甚至更优 选是厚度约为5-30nm，且最优选是厚度约为10-20nm。
[0174] 应注意，在此被测量的类似可见光透射、a*和b*值、玻璃侧可见光反射，和薄膜侧 可见光反射的光学特性，无须考虑任何选择性漆层或物理底板来应用于或容纳反射镜。
[017引虽然层、系统层、涂层，或类似等，被说明位于基片、层、层系统，涂层等"上"或"由 其支撑"，但也可在其之间配置其他的层。因此，就算其他层在配置在其之间，上述的涂层或 层也可被认为是位于基片和/或其他涂层或层"上"W及"由其支撑"。
[0176]在本发明的示例性实施例中，提供一种含有用于支撑涂层的玻璃基片1的介质反 射镜，所述涂层从所述玻璃基片向上依次包含:第一透明介质高折射率层2,含有氧化妮和/ 或氧化铁，所述第一透明介质高折射率层的厚度为70-140nm;第二透明介质低折射率层3， 含有氧化娃，所述第二透明介质低折射率层的厚度为30-140nm;第Ξ透明介质高折射率层 4,含有氧化妮和/或氧化铁;第四透明介质低折射率层5,含有氧化娃;第五透明介质高折射 率层6，含有氧化妮和/或氧化铁，其中，所述含有氧化妮和/或氧化铁的第一透明介质高折 射率层，其与(a)所述含有氧化妮和/或氧化铁的第Ξ透明介质高折射率层，和/或(b)所述 含有氧化妮和/或氧化铁的第五透明介质高折射率层中的一个或两个相比，至少厚lOnm;其 中，所述涂层不包括任何基于侣或银的金属反射层，且其中，所述介质反射镜具有W下特 征：（i)薄膜侧可见光反射率或玻璃侧可见光反射率为50-90 %，W及（i i)可见光透射率为 10-40%，且其中，所述反射镜的所述玻璃侧可见光反射率与所述反射镜的薄膜侧可见光反 射率相比，至少高30%或至少低30%。
[0177] 根据前段落中的反射镜，其中，所述含有氧化妮和/或氧化铁的第一透明介质高折 射率层，与所述第Ξ透明介质高折射率层和所述第五透明介质高折射率层中的两个相比， 可至少厚lOnm。
[0178] 根据前两个段落中任何一个的反射镜，其中，所述含有氧化妮和/或氧化铁的第一 透明介质高折射率层，与所述第Ξ透明介质高折射率层和/或所述第五透明介质高折射率 层相比，可至少厚25nm。
[0179] 根据前Ξ个段落中任何一个的反射镜，其中，所述含有氧化妮和/或氧化铁的第一 透明介质高折射率层，与所述第Ξ透明介质高折射率层和所述第五透明介质高折射率层相 tt，可至少厚25nm。
[0180] 根据前四个段落中任何一个的反射镜，可进一步包括:对称调整层8,位于所述第 Ξ透明介质高折射率层和所述第五透明介质高折射率层之间。所述对称调整层可含有儀铭 或类似等，并可至少部分被氧化。所述对称调整层8可位于所述第Ξ透明介质高折射率层和 所述含有氧化娃的第四透明介质低折射率层之间并与其接触，或是可位于所述第五透明介 质高折射率层和所述含有氧化娃的第四透明介质低折射率层之间并与其接触。选择性地， 前四个段落中任何一个的反射镜的玻璃基片可W是灰色玻璃基片。
[0181] 根据前五个段落中任何一个的反射镜，其中，所述第一透明介质高折射率层可含 有氧化妮或实质上由氧化妮构成。
[0182] 根据前六个段落中任何一个的反射镜，其中，所述第Ξ透明介质高折射率层可含 有氧化妮或实质上由氧化妮构成。
[0183] 根据前屯个段落中任何一个的反射镜，其中，所述第五透明介质高折射率层可含 有氧化妮或实质上由氧化妮构成。
[0184] 根据前八个段落中任何一个的反射镜，其中，所述第Ξ透明介质高折射率层的厚 度可为30~80nm。
[0185] 根据前九个段落中任何一个的反射镜，其中，所述含有氧化娃的第四透明介质低 折射率层的厚度可为40-120nm。
[0186] 根据前十个段落中任何一个的反射镜，其中，所述第五透明介质高折射率层的厚 度可为30~80nm。
[0187] 根据前十一个段落中任何一个的反射镜，其中，所述第一透明介质高折射率层可 直接接触所述玻璃基片，或是选择性地，含有氮化娃的层7，可位于所述玻璃基片1和所述第 一透明介质高折射率层2之间并与其接触。
[0188] 根据前十二个段落中任何一个的反射镜，其中，所述含有氧化娃的第二透明介质 低折射率层，可位于所述第一和第Ξ透明介质高折射率层之间并与其直接接触。
[0189] 根据前十Ξ个段落中任何一个的反射镜，其中，所述第一、第二、第Ξ、第四、和第 五层可为瓣射沉积层。
[0190] 根据前十四个段落中任何一个的反射镜，其中，所述含有氧化娃的第二和第四透 明介质低折射率层中的每一个可渗杂侣。
[0191] 根据前十五个段落中任何一个的反射镜，其中，所述第一、第Ξ、和第五透明介质 高折射率层分别具有2.15-2.5的折射率。
[0192] 根据前十六个段落中任何一个的反射镜，其中，所述含有氧化娃的第二、和第四透 明介质低折射率层可分别具有1.4-1.7的折射率。
[0193] 根据前十屯个段落中任何一个的反射镜，其中，所述含有氧化娃的第二和第四透 明介质低折射率层分别具有W下特征：（i)比所述第一透明介质高折射率层薄（ii)比所述 第Ξ和第五透明介质高折射率层中的至少一个厚。
[0194] 根据前十八个段落中任何一个的反射镜，其中，所述反射镜可被热回火。
[0195] 根据前十九个段落中任何一个的反射镜，其中，所述反射镜可具有中性玻璃侧反 射颜色值a*和b*，所述玻璃侧反射a*和b*值分别为-2至+2。
[0196] 根据前二十个段落中任何一个的反射镜，其中，所述反射镜可具有中性薄膜侧反 射颜色值a*和b*，所述薄膜侧反射a*和b*值分别为-2至+2。
[0197] 在本发明的示例性实施例中，提供一种含有用于支撑涂层的基片的介质反射镜， 所述涂层从所述基片向上依次包含:第一介质层2，折射率η为2.15-2.5;第二介质层3，含有 氧化娃;第Ξ介质层4,折射率为2.15-2.5;第四介质层5,含有氧化娃;第五介质层6,折射率 为2.15-2.5,其中，所述第一介质层与所述第Ξ介质层和/或第五介质层中的一个或两个相 比，至少厚20nm，且其中，所述涂层不包含任何金属的反射层。
[0198] 根据前段落中的反射镜，其中，所述反射镜可具有40-90%的薄膜侧可见光反射率 和/或玻璃侧可见光反射率，W及20-60%的可见光透射率。
[0199] 根据前两个段落中任何一个的反射镜，其中，所述第一、第Ξ、和第五介质层中的 至少一个可含有氧化妮。
[0200] 根据前Ξ个段落中任何一个的反射镜，其中，所述第一、第Ξ、和第五介质层中的 至少一个可含有氧化铁。
[0201] 根据前四个段落中任何一个的反射镜，其中，所述第一介质层与所述第Ξ和第五 介质层中的两个相比，可至少薄20nm。
[0202] 根据前五个段落中任何一个的反射镜，其中，所述含有氧化娃的第二介质层：（i) 比所述第一介质层厚，W及(ii)比所述第Ξ和第五介质层中的每一个薄。
[0203] 根据前六个段落中任何一个的反射镜，其中，所述反射镜的玻璃侧和薄膜侧可见 光反射率可基本相同。
[0204] 根据前屯个段落中任何一个的反射镜，其中，所述反射镜具有中性玻璃侧和/或薄 膜侦版射颜色值a*和b*，所述玻璃侧和/或薄膜侦版射a*和b*值分别为-2至+2。
[0205] 根据前八个段落中任何一个的反射镜，其中，所述反射镜可进一步包括:含有氮化 娃的层，位于所述基片和第一介质层之间。
[0206] 根据前九个段落中任何一个的反射镜，其中，所述第一介质层与所述第Ξ介质层 和第五介质层中的两个相比，可至少薄40nm。
[0207] 在本发明的示例性实施例中，提供一种含有用于支撑涂层的玻璃基片的介质反射 镜，所述涂层从所述玻璃基片向上依次包含:第一透明介质高折射率层，含有氧化妮，所述 第一透明介质高折射率层的厚度为70-140nm;第二透明介质低折射率层，含有氧化娃，所述 第二透明介质低折射率层的厚度为30-140nm;第Ξ透明介质高折射率层，含有氧化妮;第四 透明介质低折射率层，含有氧化娃;第五透明介质高折射率层，含有氧化妮，其中，所述含有 氧化妮的第一透明介质高折射率层，其与所述含有氧化妮的第Ξ透明介质高折射率层和/ 或所述含有氧化妮的第五透明介质高折射率层中的一个或两个相比，至少厚lOnm;其中，所 述涂层不包括任何基于侣或银的金属反射层，且其中，所述介质反射镜的薄膜侧可见光反 射率和/或玻璃侧可见光反射率约为50-90%，W及可见光透射率约为10-40%。
[0208] 根据前段落中的反射镜，其中，所述含有氧化妮的第一透明介质高折射率层，与所 述含有氧化妮的第Ξ透明介质高折射率层和所述氧化妮的第五透明介质高折射率层中的 两个相比，可至少厚lOnm。
[0209] 根据前两个段落中任何一个的反射镜，其中，所述含有氧化妮的第一透明介质高 折射率层，与所述氧化妮的第Ξ透明介质高折射率层和/或所述氧化妮的第五透明介质高 折射率层相比，可至少厚25nm。
[0210] 根据前Ξ个段落中任何一个的反射镜，其中，所述含有氧化妮的第一透明介质高 折射率层，与所述含有氧化妮的第Ξ透明介质高折射率层和所述含有氧化妮的第五透明介 质高折射率层相比，可至少厚25nm。
[0211] 根据前四个段落中任何一个的反射镜，其中，所述第一、第Ξ、和第五层中的一个、 两个、或Ξ个可由氧化妮构成。
[0212] 根据前五个段落中任何一个的反射镜，其中，所述介质反射镜可具有约60-80%的 薄膜侧可见光反射率和约60-80 %的玻璃侧可见光反射率。
[0213] 根据前六个段落中任何一个的反射镜，所述介质反射镜可具有约25-35%的可见 光透射率。
[0214] 根据前屯个段落中任何一个的反射镜，其中，所述含有氧化妮的第Ξ透明介质高 折射率层的厚度可为30~80nm。
[0215] 根据前八个段落中任何一个的反射镜，其中，所述含有氧化娃的第四透明介质低 折射率层的厚度可约为40-120nm。
[0216] 根据前九个段落中任何一个的反射镜，其中，所述含有氧化妮的第五透明介质高 折射率层的厚度可约为30~80nm。
[0217] 根据前十个段落中任何一个的反射镜，
[0218] 根据前十一个段落中任何一个的反射镜，所述含有氧化妮的第一透明介质高折射 率层可直接接触所述玻璃基片。
[0219] 根据前十二个段落中任何一个的反射镜，其中，所述含有氧化娃的第二透明介质 低折射率层，可位于所述含有氧化妮的第一透明介质高折射率层和所述含有氧化妮的第Ξ 透明介质高折射率层之间并与其直接接触。
[0220] 根据前十Ξ个段落中任何一个的反射镜，其中，所述含有氧化娃的第四透明介质 低折射率层，可位于所述含有氧化妮的第Ξ透明介质高折射率层和所述含有氧化妮的第五 透明介质高折射率层之间并与其直接接触。
[0221] 根据前十四个段落中任何一个的反射镜，其中，所述第一、第二、第Ξ、第四、和第 五层可为瓣射沉积层。
[0222] 根据前十五个段落中任何一个的反射镜，其中，所述含有氧化娃的第二和第四透 明介质低折射率层中的每一个被渗杂侣和/或氮。
[0223] 根据前十六个段落中任何一个的反射镜，其中，所述含有氧化妮的第一、第Ξ、和 第五透明介质高折射率层可具有约2.15-2.5的折射率，更优选是约2.2-2.4。
[0224] 根据前十屯个段落中任何一个的反射镜，其中，所述含有氧化娃的第二、和第四透 明介质低折射率层可具有约1.4-1.7的折射率，更优选是约1.4-1.6。
[0225] 根据前十八个段落中任何一个的反射镜，其中，所述含有氧化娃的第二和第四透 明介质低折射率层分别具有W下特征：（i)比所述氧化妮的第一透明介质高折射率层薄 (i i)比所述氧化妮的第Ξ和第五透明介质高折射率层中的至少一个厚。
[0226] 根据前十九个段落中任何一个的反射镜，其中，所述反射镜在385nm处可具有至少 约75%的紫外线(UV)透射率。
[0227] 根据前两十个段落中任何一个的反射镜，其中，所述反射镜可被热处理(例如，热 回火）。
[0228] 根据前两十一个段落中任何一个的反射镜，其中，所述第五层可W是涂层的最外 层
[0229] 根据前两十二个段落中任何一个的反射镜，其中，所述反射镜具有中性玻璃侧和/ 或薄膜侧反射颜色值a*和b*，所述玻璃侧和/薄膜侧反射a*和b*值分别为-2至+2。
[0230] 根据前两十Ξ个段落中任何一个的反射镜，可进一步包括含有儀铭的层，位于至 少所述第Ξ介质层和第五介质层之间。所述含有儀铭的层可W或也可W不包含一些氧气， 并也可W是位于所述第Ξ和第四介质层之间与其接触，或是位于所述第四和第五介质层之 间并与其接触。
[0231] 在本发明的示例性实施例中，提供一种含有用于支撑涂层的基片的介质反射镜， 所述涂层从所述基片向上依次包含：第一介质层，厚度为70-140nm，且折射率(η)为2.15- 2.5;第二介质层，含有氧化娃;第Ξ介质层，折射率为2.15-2.5;第四介质层，含有氧化娃； 第五介质层，折射率为2.15-2.5;其中，所述第一介质层与所述第Ξ介质层和/或第五介质 层中的一个或两个相比，至少厚lOnm，其中，所述涂层不包含任何金属的反射层，且其中，所 述反射镜具有50-90 %的薄膜侧可见光反射率和/或玻璃侧可见光反射率，W及20-40%的 可见光透射率。
[0232] 根据前段落中的反射镜，其中，（i)所述第一、第Ξ和第五介质层中的至少一个可 含有氧化妮或实质上由氧化妮构成，和/或（ii)所述第一、第Ξ和第五介质层中的至少一个 含有氧化铁。
[0233] 根据前两个段落中任何一个的反射镜，其中，所述第一介质层与所述第Ξ和第五 介质层中的两个相比，可至少厚lOnm。
[0234] 根据前Ξ个段落中任何一个的反射镜，其中，所述涂层可主要由所述第一、第二、 第Ξ、第四、和第五层组成。
[0235] 根据前四个段落中任何一个的反射镜，所述含有氧化娃的第二和第四介质层分别 具有W下特征：（i)比所述第一介质层薄，且(ii)比所述第Ξ和第五介质层中的两个厚。
[0236] 根据前五个段落中任何一个的反射镜，其中，所述反射镜在385nm处可具有至少约 75%的紫外线(UV)透射率，更优选是至少约80%或85%。
[0237] 虽然参照最实用和优选的实施例对本发明进行了说明，但是应理解，本发明并不 局限于所述实施例，相反可进行各种修改和等效的配置，修改将由后附的权利要求范围定 义。
【主权项】
1. 一种含有用于支撑涂层的玻璃基片的介质反射镜，所述涂层从所述玻璃基片向上依 次包含： 第一透明介质高折射率层，含有氧化铌和/或氧化钛，所述第一透明介质高折射率层的 厚度为70-140nm; 第二透明介质低折射率层，含有氧化硅，所述第二透明介质低折射率层的厚度为30-140nm； 第三透明介质高折射率层，含有氧化铌和/或氧化钛； 第四透明介质低折射率层，含有氧化硅； 第五透明介质高折射率层，含有氧化铌和/或氧化钛， 其中，所述含有氧化铌和/或氧化钛的第一透明介质高折射率层，其与(a)所述含有氧 化铌和/或氧化钛的第三透明介质高折射率层，和/或(b)所述含有氧化铌和/或氧化钛的第 五透明介质高折射率层中的一个或两个相比，至少厚l〇nm ; 其中，所述涂层不包括任何基于铝或银的金属反射层，且 其中，所述介质反射镜具有以下特征：（i)薄膜侧可见光反射率或玻璃侧可见光反射率 为50-90%，以及（ii)可见光透射率为10-40%，且 其中，所述反射镜的所述玻璃侧可见光反射率与所述反射镜的薄膜侧可见光反射率相 比，至少高30%或至少低30%。2. 根据权利要求1所述的反射镜，其中，所述含有氧化铌和/或氧化钛的第一透明介质 高折射率层，与所述第三透明介质高折射率层和所述第五透明介质高折射率层中的两个相 比，至少厚10nm〇3. 根据上述权利要求中任何一项所述的反射镜，其中，所述含有氧化铌和/或氧化钛的 第一透明介质高折射率层，与所述第三透明介质高折射率层和/或所述第五透明介质高折 射率层相比，至少厚25nm〇4. 根据上述权利要求中任何一项所述的反射镜，其中，所述含有氧化铌和/或氧化钛的 第一透明介质高折射率层，与所述第三透明介质高折射率层和所述第五透明介质高折射率 层相比，至少厚25nm〇5. 根据上述权利要求中任何一项所述的反射镜，进一步包括:对称调整层，位于所述第 三透明介质高折射率层和所述第五透明介质高折射率层之间。6. 根据权利要求5所述的反射镜，其中，所述对称调整层含有镍铬。7. 根据权利要求6所述的反射镜，其中，所述含有镍铬的对称调整层至少部分被氧化。8. 根据权利要求5-7中任何一项所述的反射镜，其中，所述对称调整层位于所述第三透 明介质高折射率层和所述含有氧化硅的第四透明介质低折射率层之间并与其接触。9. 根据权利要求5-7中任何一项所述的反射镜，其中，所述对称调整层位于所述第五透 明介质高折射率层和所述含有氧化硅的第四透明介质低折射率层之间并与其接触。10. 根据上述权利要求中任何一项所述的反射镜，其中，所述玻璃基片为灰色玻璃基 片。11. 根据上述权利要求中任何一项所述的反射镜，其中，所述第一透明介质高折射率层 含有氧化铌。12. 根据上述权利要求中任何一项所述的反射镜，其中，所述第三透明介质高折射率层 含有氧化铌。13. 根据上述权利要求中任何一项所述的反射镜，其中，所述第五透明介质高折射率层 含有氧化铌。14. 根据上述权利要求中任何一项所述的反射镜，其中，所述第三透明介质高折射率层 的厚度为30-80nm〇15. 根据上述权利要求中任何一项所述的反射镜，其中，所述含有氧化硅的第四透明介 质低折射率层的厚度为40-120nm〇16. 根据上述权利要求中任何一项所述的反射镜，其中，所述第五透明介质高折射率层 的厚度为30-80nm〇17. 根据上述权利要求中任何一项所述的反射镜，其中，所述第一透明介质高折射率层 直接接触所述玻璃基片。18. 根据权利要求1-16中任何一项所述的反射镜，进一步包括:含有氮化硅的层，位于 所述玻璃基片和所述第一透明介质高折射率层之间并与其接触。19. 根据上述权利要求中任何一项所述的反射镜，其中，所述含有氧化硅的第二透明介 质低折射率层，位于所述第一和第三透明介质高折射率层之间并与其直接接触。20. 根据上述权利要求中任何一项所述的反射镜，其中，所述第一、第二、第三、第四、和 第五层为溅射沉积层。21. 根据上述权利要求中任何一项所述的反射镜，其中，所述含有氧化硅的第二和第四 透明介质低折射率层中的每一个被掺杂铝。22. 根据上述权利要求中任何一项所述的反射镜，其中，所述第一、第三、和第五透明介 质高折射率层分别具有2.15-2.5的折射率。23. 根据上述权利要求中任何一项所述的反射镜，其中，所述含有氧化硅的第二、和第 四透明介质低折射率层分别具有1.4-1.7的折射率。24. 根据上述权利要求中任何一项所述的反射镜，其中，所述含有氧化硅的第二和第四 透明介质低折射率层分别具有以下特征：（i)比所述第一透明介质高折射率层薄（ii)比所 述第三和第五透明介质高折射率层中的至少一个厚。25. 根据上述权利要求中任何一项所述的反射镜，其中，所述反射镜被热回火。26. 根据上述权利要求中任何一项所述的反射镜，其中，所述反射镜具有中性玻璃侧反 射颜色值a*和b*，所述玻璃侧反射a*和b*值分别为-2至+2。27. 根据上述权利要求中任何一项所述的反射镜，其中，所述反射镜具有中性薄膜侧反 射颜色值a*和b*，所述薄膜侧反射a*和b*值分别为-2至+2。28. -种含有用于支撑涂层的基片的介质反射镜，所述涂层从所述基片向上依次包含： 第一介质层，厚度为70_140nm，且折射率η为2.15-2.5; 第二介质层，含有氧化硅； 第三介质层，折射率为2.15-2.5; 第四介质层，含有氧化硅； 第五介质层，折射率为2.15-2.5; 其中，所述第一介质层与所述第三介质层和/或第五介质层中的一个或两个相比，至少 厚10nm， 其中，所述涂层不包含任何金属的反射层，且 其中，所述反射镜，具有50-90 %的薄膜侧可见光反射率和/或玻璃侧可见光反射率，以 及10-50 %的可见光透射率。29. 根据权利要求28所述的反射镜，其中，所述第一、第三和第五介质层中的至少一个 含有氧化铌。30. 根据权利要求28所述的反射镜，其中，所述第一、第三和第五介质层中的至少一个 含有氧化钛。31. 根据权利要求28所述的反射镜，其中，所述第一介质层与所述第三和第五介质层中 的两个相比，至少厚l〇nm。32. 根据权利要求28所述的反射镜，所述涂层主要由所述第一、第二、第三、第四、和第 五层组成。33. 根据权利要求28所述的反射镜，所述含有氧化硅的第二和第四介质层分别具有以 下特征：（i)比所述第一介质层薄，以及(ii)比所述第三和第五介质层中的两个厚。34. 根据权利要求28所述的反射镜，其中，所述反射镜具有中性玻璃侧反射和薄膜侧反 射颜色值a*和b*，所述玻璃侧和薄膜侧反射a*和b*值分别为-2至+2。35. 根据权利要求28所述的反射镜，其中，所述反射镜进一步包括:含有氮化硅的层，位 于所述基片和所述第一介质层之间。36. -种含有用于支撑涂层的基片的介质反射镜，所述涂层从所述基片向上依次包含： 第一介质层，折射率η为2.15-2.5; 第二介质层，含有氧化硅； 第三介质层，折射率为2.15-2.5; 第四介质层，含有氧化硅； 第五介质层，折射率为2.15-2.5， 其中，所述第一介质层与所述第三介质层和/或第五介质层中的一个或两个相比，至少 厚20nm，且 其中，所述涂层不包含任何金属的反射层。37. 根据权利要求36所述的反射镜，其中，所述反射镜具有40-90 %的薄膜侧可见光反 射率和/或玻璃侧可见光反射率，以及20-60 %的可见光透射率。38. 根据权利要求36所述的反射镜，其中，所述第一、第三、和第五介质层中的至少一个 含有氧化铌。39. 根据权利要求36所述的反射镜，其中，所述第一、第三、和第五介质层中的至少一个 含有氧化钛。40. 根据权利要求36所述的反射镜，其中，所述第一介质层与所述第三和第五介质层中 的两个相比，至少薄20nm。41. 根据权利要求36所述的反射镜，其中，所述含有氧化硅的第二介质层：（i)比所述第 一介质层厚，以及(i i)比所述第三和第五介质层中的每一个薄。42. 根据权利要求36所述的反射镜，其中，所述反射镜的玻璃侧和薄膜侧可见光反射率 基本相同。43. 根据权利要求36所述的反射镜，其中，所述反射镜具有中性玻璃侧和/或薄膜侧反 射颜色值a*和b*，所述玻璃侧和/或薄膜侧反射a*和b*值分别为-2至+2。44. 根据权利要求36所述的反射镜，其中，所述反射镜进一步包括:含有氮化硅的层，位 于所述基片和第一介质层之间。45. 根据权利要求36所述的反射镜，其中，所述第一介质层与所述第三介质层和第五介 质层中的两个相比，至少薄40nm〇
【文档编号】G02B5/08GK106068467SQ201480062896
【公开日】2016年11月2日
【申请日】2014年9月17日 公开号201480062896.4, CN 106068467 A, CN 106068467A, CN 201480062896, CN-A-106068467, CN106068467 A, CN106068467A, CN201480062896, CN201480062896.4, PCT/2014/56105, PCT/US/14/056105, PCT/US/14/56105, PCT/US/2014/056105, PCT/US/2014/56105, PCT/US14/056105, PCT/US14/56105, PCT/US14056105, PCT/US1456105, PCT/US2014/056105, PCT/US2014/56105, PCT/US2014056105, PCT/US201456105
【发明人】G·华安泰
【申请人】玻璃与陶瓷研究有限公司卢森堡中心