一种摩擦配向装置的制造方法

文档序号:10723556阅读:501来源:国知局
一种摩擦配向装置的制造方法
【专利摘要】本发明公开了一种摩擦配向装置,用于对待配向基板进行摩擦配向,包括承载平台以及相对位于所述承载平台上方的摩擦机构,所述摩擦机构连接到一支撑架上,其中,所述支撑架的第一端连接有第一吹气机构和第一吸气机构,所述第一吹气机构和第一吸气机构分别朝向所述承载平台延伸,所述第一吹气机构和第一吸气机构同时位于所述摩擦机构的同一侧面,所述第一吹气机构的底端设置有第一吹气孔,所述第一吸气机构的底端设置有第一吸气孔;在所述摩擦机构对放置于所述承载平台的基板进行摩擦配向时,所述第一吹气孔和第一吸气孔与所述基板之间具有第一间隙。该装置可以及时去除配向工艺中掉落的毛屑以及配向膜碎屑,避免造成配向膜摩擦不良。
【专利说明】
一种摩擦配向装置
技术领域
[0001]本发明涉及液晶显示器制造过程中的一种生产设备,尤其是一种对液晶显示器玻璃基板上的配向膜进行摩擦配向的摩擦配向装置。
【背景技术】
[0002]薄膜晶体管液晶显不器(TFT_LCD,ThinFilm Transistor-Liquid CrystalDisplay)工艺可分为三大流程,第一段为阵列基板及彩膜基板的工艺,第二段为配向、液晶填充与封合面板工艺;第三段则为偏光片、背光片与面板组装的液晶显示模块。而在面板组立工艺中配向膜的配向工艺扮演着重要且关键的角色。配向工艺除了扮演着控制液晶排列次序及方向的重大任务外,另外还维系着如视角、反应速度、对比及色彩表现等攸关高质量显示的特征。
[0003]配向膜的配向即为施予液晶分子方向,目的是给予LCD面板中的全体或局部液晶分子拥有统一且一致的方向性,或是定向排列。而在液晶显示器施予配向膜配向的目的,在于电场驱动液晶分子时,局部或者全体的液晶分子需要有同步且一贯性的动作,使得液晶显示能快速且一致,此时即需配向工艺来达成上述目的。
[0004]目前常用的配向膜配向方式多为使用摩擦布,对配向膜进行接触式的接触摩擦,使配向膜产生一规则的预倾角度,进而使配向膜上的液晶随之呈现一致预倾角。图1为目前对于玻璃基板表面配向膜的摩擦处理的示意图,如图1所示,该摩擦配向装置包括摩擦辊I,摩擦辊I圆柱面上经胶体粘着的摩擦布2,摩擦布2上还设有毛系。工作时,将玻璃基板3平行放置在可动基台4上,基台4载着玻璃基板3平行行进的同时,摩擦辊I可与基台4成一定角度并按一定的速度旋转,通过控制摩擦辊I上摩擦布2的毛系压入玻璃基板3上配向膜的深度、强度等工艺参数,使得配向膜原本随机形成的表面状态,因为织物的摩擦作用,而造成具有一定角度并均匀排列的预倾角。摩擦配向的过程中会产生一定的配向膜碎肩,并且摩擦布2随着摩擦辊I高速旋转也会掉落一些毛肩,掉落的毛肩或配向膜碎肩遗留在玻璃表面会造成摩擦不良,形成锯齿状或平行等间距的不均配向条块(Rubbing Mura),最终生产出来的产品就会有明显斜纹和条状刮痕降为次品或失败品。因此,如何在摩擦配向中及时去除掉落的毛肩或配向膜碎肩是目前亟需解决的课题。

【发明内容】

[0005]鉴于现有技术存在的不足,本发明提供了一种摩擦配向装置,该装置可以及时去除配向工艺中掉落的毛肩以及配向膜碎肩,避免造成配向膜摩擦不良。
[0006]为了达到上述的目的,本发明采用了如下的技术方案:
[0007]—种摩擦配向装置,用于对待配向基板进行摩擦配向,包括承载平台以及相对位于所述承载平台上方的摩擦机构,所述摩擦机构连接到一支撑架上,所述摩擦机构包括摩擦辊以及包覆在所述摩擦辊外侧的摩擦布,其中,所述支撑架的第一端连接有第一吹气机构和第一吸气机构,所述第一吹气机构和第一吸气机构分别朝向所述承载平台延伸,所述第一吹气机构和第一吸气机构同时位于所述摩擦机构的同一侧面,所述第一吹气机构的底端设置有第一吹气孔,所述第一吸气机构的底端设置有第一吸气孔;在所述摩擦机构对放置于所述承载平台的基板进行摩擦配向时,所述第一吹气孔和第一吸气孔与所述基板之间具有第一间隙。
[0008]其中,所述第一间隙的高度为1.5±lmm。
[0009]其中,所述第一吹气机构和第一吸气机构沿所述摩擦机构的长度方向上的长度,与所述摩擦机构的长度相等或近于相等。
[0010]其中,所述第一吹气机构相比于所述第一吸气机构更接近于所述摩擦机构。
[0011]其中,所述第一吹气孔的开口方向朝向所述第一吸气机构倾斜,所述第一吸气孔的开口方向朝向所述第一吹气机构倾斜。
[0012]进一步地,所述支撑架的第二端连接有第二吹气机构和第二吸气机构,所述第二吹气机构和第二吸气机构分别朝向所述承载平台延伸,所述第二吹气机构和第二吸气机构同时位于所述摩擦机构的同一侧面并且与所述第一吹气机构和第一吸气机构位于相对侧,所述第二吹气机构的底端设置有第二吹气孔,所述第二吸气机构的底端设置有第二吸气孔;在所述摩擦机构对放置于所述承载平台的基板进行摩擦配向时,所述第二吹气孔和第二吸气孔与所述基板之间具有第二间隙。
[0013]其中,所述第二间隙的高度为1.5±lmm。
[0014]其中,所述第二吹气机构和第二吸气机构沿所述摩擦机构的长度方向上的长度,与所述摩擦机构的长度相等或近于相等。
[0015]其中,所述第二吹气机构相比于所述第二吸气机构更接近于所述摩擦机构。
[0016]其中,所述第二吹气孔的开口方向朝向所述第二吸气机构倾斜,所述第二吸气孔的开口方向朝向所述第二吹气机构倾斜。
[0017]有益效果:本发明实施例提供的摩擦配向装置,至少在摩擦机构的同一侧同时设置有吹气机构和吸气机构,通过吹气-吸气的处理动作,可以及时地去除配向工艺中掉落的毛肩以及配向膜碎肩,避免造成配向膜摩擦不良。
【附图说明】
[0018]图1现有的摩擦配向装置的结构示意图;
[0019]图2是本发明实施例提供的摩擦配向装置的正视图;
[0020]图3是本发明实施例提供的摩擦配向装置的左视图。
【具体实施方式】
[0021]为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面结合附图对本发明的【具体实施方式】进行详细说明。这些优选实施方式的示例在附图中进行了例示。附图中所示和根据附图描述的本发明的实施方式仅仅是示例性的,并且本发明并不限于这些实施方式。
[0022]在此,还需要说明的是,为了避免因不必要的细节而模糊了本发明,在附图中仅仅示出了与根据本发明的方案密切相关的结构和/或处理步骤,而省略了与本发明关系不大的其他细节。
[0023]参阅图2和图3,本实施例提供了一种摩擦配向装置,用于对待配向基板进行摩擦配向,其中,图2是所述摩擦配向装置的正视图,图3是所述摩擦配向装置的左视图。如图2和图3所示,所述摩擦配向装置包括承载平台10以及相对位于所述承载平台10上方的摩擦机构20,所述摩擦机构20连接到一支撑架30上,所述摩擦机构20包括摩擦辊21以及包覆在所述摩擦辊21外侧的摩擦布22。其中,所述支撑架30的第一端31连接有第一吹气机构40a和第一吸气机构50a,所述第一吹气机构40a和第一吸气机构50a分别朝向所述承载平台10延伸,所述第一吹气机构40a和第一吸气机构50a同时位于所述摩擦机构20的同一侧面,所述第一吹气机构40a的底端设置有第一吹气孔401,所述第一吸气机构50a的底端设置有第一吸气孔501;在所述摩擦机构20对放置于所述承载平台10上的基板60进行摩擦配向时,所述第一吹气孔401和第一吸气孔501与所述基板60之间具有第一间隙hi。
[0024]进一步地,在本实施例中,如图2和图3所示,所述摩擦配向装置中,所述支撑架30的第二端32连接有第二吹气机构40b和第二吸气机构50b,所述第二吹气机构40b和第二吸气机构50b分别朝向所述承载平台10延伸,所述第二吹气机构40b和第二吸气机构50b同时位于所述摩擦机构20的同一侧面并且与所述第一吹气机构40a和第一吸气机构50b位于相对侧,所述第二吹气机构40b的底端设置有第二吹气孔402,所述第二吸气机构50b的底端设置有第二吸气孔502;在所述摩擦机构20对放置于所述承载平台10上的基板60进行摩擦配向时,所述第二吹气孔402和第二吸气孔502与所述基板60之间具有第二间隙h2。
[0025]通过在摩擦机构的两侧分别同时设置有吹气机构和吸气机构,通过吹气-吸气的处理动作(如图2中黑色箭头示出的吹气-吸气的方向),在摩擦机构进行摩擦配向时,可以及时地迅速地去除配向工艺中掉落的毛肩以及配向膜碎肩,避免造成配向膜摩擦不良。其中,第一吹气机构40a和第一吸气机构50a以及第二吹气机构40b和第二吸气机构50b可以分别控制,第一吸气机构50a和第二吸气机构50b可以是连接到抽真空平台,通过抽真空实现吸气,以吸除掉落的毛肩以及配向膜碎肩。需要说明的是,在另外的一些实施例中,也可以仅设置有一个吹气机构和一个吸气机构,例如仅设置第一吹气机构40a和第一吸气机构50a,或者是仅设置第二吹气机构40b和第二吸气机构50b,但是仅设置的一个吹气机构和一个吸气机构应当设置在摩擦机构20,这样才可实现及时地迅速地去除配向工艺中掉落的毛肩以及配向膜碎肩。
[0026]其中,所述第一间隙hi的高度为1.5± 1mm,同样地,所述第二间隙h2的高度也是I.5± Imm0
[0027]在本实施例中,所述第一吹气机构40a和第一吸气机构50a沿所述摩擦机构20的长度方向上的长度,与所述摩擦机构20的长度相等或近于相等。同样地,所述第二吹气机构40b和第二吸气机构50b沿所述摩擦机构20的长度方向上的长度,与所述摩擦机构20的长度相等或近于相等。
[0028]在本实施例中,所述第一吹气机构40a相比于所述第一吸气机构50a更接近于所述摩擦机构20。同样地,所述第二吹气机构40b相比于所述第二吸气机构50b更接近于所述摩擦机构20。将第一吹气机构40a和第二吹气机构40b设置为更加靠近所述摩擦机构20,可以在第一时间吹起由于摩擦产生的毛肩和碎肩,更加及时地去除这些杂物。
[0029]在本实施例中,所述第一吹气孔401的开口方向朝向所述第一吸气机构50a倾斜,所述第一吸气孔501的开口方向朝向所述第一吹气机构40a倾斜。同样地,所述第二吹气孔402的开口方向朝向所述第二吸气机构50b倾斜,所述第二吸气孔502的开口方向朝向所述第二吹气机构40b倾斜。这样可以使得毛肩和碎肩等杂物更加容易被吹起并抽除。
[0030]综上所述,本发明实施例提供的摩擦配向装置,至少在摩擦机构的同一侧同时设置有吹气机构和吸气机构,通过吹气-吸气的处理动作,可以及时地去除配向工艺中掉落的毛肩以及配向膜碎肩,避免造成配向膜摩擦不良。
[0031]需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
[0032]以上所述仅是本申请的【具体实施方式】,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。
【主权项】
1.一种摩擦配向装置,用于对待配向基板进行摩擦配向,包括承载平台(10)以及相对位于所述承载平台(10)上方的摩擦机构(20),所述摩擦机构(20)连接到一支撑架(30)上,所述摩擦机构(20)包括摩擦辊(21)以及包覆在所述摩擦辊(21)外侧的摩擦布(22),其特征在于,所述支撑架(30)的第一端(31)连接有第一吹气机构(40a)和第一吸气机构(50a),所述第一吹气机构(40a)和第一吸气机构(50a)分别朝向所述承载平台(10)延伸,所述第一吹气机构(40a)和第一吸气机构(50a)同时位于所述摩擦机构(20)的同一侧面,所述第一吹气机构(40a)的底端设置有第一吹气孔(401),所述第一吸气机构(50a)的底端设置有第一吸气孔(501);在所述摩擦机构(20)对放置于所述承载平台(10)上的基板(60)进行摩擦配向时,所述第一吹气孔(401)和第一吸气孔(501)与所述基板(60)之间具有第一间隙。2.根据权利要求1所述的摩擦配向装置,其特征在于,所述第一间隙的高度为1.5±Imm03.根据权利要求1所述的摩擦配向装置,其特征在于,所述第一吹气机构(40a)和第一吸气机构(50a)沿所述摩擦机构(20)的长度方向上的长度,与所述摩擦机构(20)的长度相等或近于相等。4.根据权利要求1所述的摩擦配向装置,其特征在于,所述第一吹气机构(40a)相比于所述第一吸气机构(50a)更接近于所述摩擦机构(20)。5.根据权利要求4所述的摩擦配向装置,其特征在于,所述第一吹气孔(401)的开口方向朝向所述第一吸气机构(50a)倾斜,所述第一吸气孔(501)的开口方向朝向所述第一吹气机构(40a)倾斜。6.根据权利要求1-5任一所述的摩擦配向装置,其特征在于,所述支撑架(30)的第二端(32)连接有第二吹气机构(40b)和第二吸气机构(50b),所述第二吹气机构(40b)和第二吸气机构(50b)分别朝向所述承载平台(10)延伸,所述第二吹气机构(40b)和第二吸气机构(50b)同时位于所述摩擦机构(20)的同一侧面并且与所述第一吹气机构(40a)和第一吸气机构(50a)位于相对侧,所述第二吹气机构(40b)的底端设置有第二吹气孔(402),所述第二吸气机构(50b)的底端设置有第二吸气孔(502);在所述摩擦机构(20)对放置于所述承载平台(10)上的基板(60)进行摩擦配向时,所述第二吹气孔(402)和第二吸气孔(502)与所述基板(60)之间具有第二间隙。7.根据权利要求6所述的摩擦配向装置,其特征在于,所述第二间隙的高度为1.5±Imnin8.根据权利要求6所述的摩擦配向装置,其特征在于,所述第二吹气机构(40b)和第二吸气机构(50b)沿所述摩擦机构(20)的长度方向上的长度,与所述摩擦机构(20)的长度相等或近于相等。9.根据权利要求6所述的摩擦配向装置,其特征在于,所述第二吹气机构(40b)相比于所述第二吸气机构(50b)更接近于所述摩擦机构(20)。10.根据权利要求9所述的摩擦配向装置,其特征在于,所述第二吹气孔(402)的开口方向朝向所述第二吸气机构(50b)倾斜,所述第二吸气孔(502)的开口方向朝向所述第二吹气机构(40b)倾斜。
【文档编号】G02F1/1337GK106094352SQ201610698754
【公开日】2016年11月9日
【申请日】2016年8月22日 公开号201610698754.8, CN 106094352 A, CN 106094352A, CN 201610698754, CN-A-106094352, CN106094352 A, CN106094352A, CN201610698754, CN201610698754.8
【发明人】马小弟, 孙世英
【申请人】深圳市华星光电技术有限公司
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