光掩膜版用涂胶卡盘的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及集成电路领域，特别地，涉及一种光掩膜版用涂胶卡盘。
【背景技术】
[0002]光掩膜版是集成电路制造工艺中的重要部件，一块光掩膜版就是一块普通玻璃或石英玻璃，玻璃的一面印有以金属铬为图层的几何图形，光掩膜版同时包含了设计者的版图信息和必要的硅片代工厂工艺修正信息，工厂通过光刻工艺将这些掩膜版的图形投影到硅片上，以便在硅片上进行选择性掺杂，互连，从而制成半导体器件和集成电路。
[0003]这个过程就与现代印刷工业类似，光掩膜版相当于印刷母板。有别于传统的矩形光掩膜版，环形光掩膜版可用于环形集成电路等领域。卡盘(chuck)作为光掩膜版涂覆光刻胶的载体，其形状能影响高速旋转的产品片周围的流场，对光掩膜版光刻胶膜层均匀性、无缺陷性具有重要作用。
[0004]矩形光掩膜版在高速旋转时，由于是放置于卡盘矩形凹槽内，光掩膜版与卡盘之间不会产生轴向相对位移，而环形光掩膜版由于是放入卡盘环形凹槽内，在卡盘较大的速度和加速度下，光掩膜版与卡盘之间易产生轴向相对位移，从而影响环形光掩膜版涂覆光刻胶的均匀性；且由于环形光掩膜版涂胶区域窄，故在涂覆光刻胶过程中极易出现内外边缘变色(因胶厚不均匀导致胶面颜色不一致的现象)、胶面紊乱等问题。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型提供了一种光掩膜版用涂胶卡盘，以解决现有的卡盘由于光掩膜版与卡盘之间易产生轴向相对位移，从而影响光掩膜版涂覆光刻胶的均匀性的技术问题。
[0006]本实用新型采用的技术方案如下:
[0007]—种光掩膜版用涂胶卡盘，包括卡盘本体，卡盘本体上设有用于卡持待涂胶的光掩膜版的第一凹槽，第一凹槽呈与光掩膜版相适应的环形，第一凹槽的底部设有用于与装设于第一凹槽内的光掩膜版的底部抵触以提供静摩擦力的摩擦件。
[0008]进一步地，第一凹槽的底部设有用于安装摩擦件的第二凹槽，摩擦件卡紧于第二凹槽内且延伸出第二凹槽外0.5mm?Imm0
[0009]进一步地，第二凹槽呈环形且与第一凹槽同轴，摩擦件呈与第二凹槽相匹配的环形。
[0010]进一步地，摩擦件为环形橡胶密封圈。
[0011]进一步地，卡盘本体呈圆盘状，其上表面上具有用于与光掩膜版的内环相配合的第一圆台，第一圆台位于卡盘本体的中心；卡盘本体的上表面还设有第一凹槽，第一凹槽围设于第一圆台外。
[0012]进一步地，第一圆台的直径比光掩膜版的内环的内径小Imm?2mm。
[0013]进一步地，第一凹槽的深度等于或小于光掩膜版的厚度。
[0014]进一步地，第一凹槽的深度为4mm?6_ ;第一凹槽的宽度为20_?30_。
[0015]进一步地，卡盘本体为铝合金卡盘本体。
[0016]进一步地，卡盘本体的上表面上加工有多条第三凹槽，第三凹槽的两端分别与第一凹槽和卡盘本体的外周缘连通。
[0017]本实用新型具有以下有益效果:
[0018]采用本实用新型的光掩膜版用涂胶卡盘时，由于第一凹槽的底部设有用于与装设于第一凹槽内的光掩膜版的底部抵触以提供静摩擦力的摩擦件，故当光掩膜版装设于第一凹槽内时，由于摩擦件与光掩膜版底部的静摩擦力，从而使当卡盘具有较高的速度和加速度时，光掩膜版与卡盘之间不会出现沿轴线方向的相对移动，从而提高环形光掩膜版涂覆光刻胶的均匀性。
[0019]除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本实用新型还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本实用新型作进一步详细的说明。
【附图说明】
[0020]构成本申请的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:
[0021]图1是本实用新型优选实施例的光掩膜版用涂胶卡盘的俯视结构示意图；以及
[0022]图2是图1中的卡盘本体的剖视主视结构示意图。
[0023]图例说明
[0024]1、卡盘本体；101、第一凹槽；102、第二凹槽；103、第一圆台；104、第三凹槽；2、摩擦件。
【具体实施方式】
[0025]以下结合附图对本实用新型的实施例进行详细说明，但是本实用新型可以由权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。
[0026]如图1和图2所示，本实用新型的优选实施例提供了一种光掩膜版用涂胶卡盘，包括卡盘本体I，卡盘本体I上设有用于卡持待涂胶的光掩膜版的第一凹槽101，第一凹槽101呈与光掩膜版相适应的环形，第一凹槽101的底部设有用于与装设于第一凹槽101内的光掩膜版的底部抵触以提供静摩擦力的摩擦件2。采用本实用新型的光掩膜版用涂胶卡盘时，由于第一凹槽101的底部设有用于与装设于第一凹槽101内的光掩膜版的底部抵触以提供静摩擦力的摩擦件2，故当光掩膜版装设于第一凹槽101内时，由于摩擦件2与光掩膜版底部的静摩擦力，从而使当卡盘具有较高的速度和加速度时，光掩膜版与卡盘之间不会出现沿轴线方向的相对移动，从而提高环形光掩膜版涂覆光刻胶的均匀性。
[0027]具体地，本实用新型中，如图2所示，第一凹槽101的底部设有用于安装摩擦件2的第二凹槽102，摩擦件2卡紧于第二凹槽102内且延伸出第二凹槽102外0.5mm?Imm0本实用新型中，摩擦件2卡紧于第二凹槽102内且延伸至第二凹槽102外，摩擦件2延伸至第二凹槽102外的高度为0.5mm?1mm，一方面与装设于第一凹槽101内的光掩膜版的底部抵触以提供接触静摩擦力；另一方面用于隔开光掩膜版和卡盘，使光掩膜版的底部不与第一凹槽101的底部接触，防止光掩膜版与卡盘之间出现轴线方向的相对移动。
[0028]优选地，本实用新型中，第二凹槽102呈环形且与第一凹槽101同轴，摩擦件2呈与第二凹槽102相匹配的环形。
[0029]更优选地，本实用新型具体的实施例中，摩擦件2为环形橡胶密封圈，取材方便，且与光掩膜版的底部接