一种成像薄膜的制作方法

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一种成像薄膜的制作方法
【技术领域】
[0001 ]本实用新型设及光学薄膜技术领域,尤其设及一种成像薄膜。
【背景技术】
[0002] 莫尔技术是一类引人注目的新型视觉安全技术。它利用微透镜阵列的聚焦作用将 微图案高效率地放大,实现具有一定景深并呈现奇特动态效果的图案。
[0003] 现有技术中带有微透镜的薄膜包括基底、微透镜W及图案层。运样的薄膜首先是 含有基底从而导致厚度增加,并且图案层裸露或者需要保护层。
[0004] 专利文件200480040733.2公开了一种应用于钞票等有价证券开窗安全线的微透 镜阵列安全元件。它的基本结构为:在透明基层的上表面设置周期性微透镜阵列,在透明基 层的下表面设置对应的周期型微图案阵列,微图案阵列位于微透镜阵列的焦平面或其附 近,微图案阵列与微透镜阵列排列大致相同,通过微透镜阵列对微图案阵列的莫尔放大作 用。
[0005] 该专利公开了两种制作微图案的方法:由选自喷墨、激光、凸版印刷、胶版印刷、照 相凹版印刷、及凹版印刷法所组成的群组的印刷方法,在透明基层下表面设置凸出的微图 案油墨;或者在透明基层下表面形成有图案的凹陷,并在凹陷中填充油墨进而形成微图案。 后者具有几乎无限空间解析度的优点。因此,分别在透明基层上下表面设置微透镜和凹陷 型微图案具有最优的图形复杂度和解析度有利于最大化提高该安全器件的仿制难度。
[0006] 然而运种安全元件目前的使用方法主要是整体嵌入纸张或者粘合于印刷品表面。 烫印是目前将局部安全元件设置于产品包装的一种主流的方法。然而烫印技术要求安全元 件是一层很薄且可W切断的薄膜。
[0007] 当前的工业界,具有实际加工可行性的最小透明基层厚度是23um,再加上微透镜 和凹陷结构的厚度,整体安全元件的厚度一般会增加到40umW上。因此,如此厚的整体结构 极不利于高速烫印时及时切断。此外透明基材往往具有良好的机械性能,运也不利于烫印 的切断要求。
[000引为了将安全元件与主流的烫印方式相适应,必须去除该安全元件中的透明基层。 专利文件200480040733.2在图13-14中公开了一种可篡改标示材料实施例。即剥离覆盖在 微透镜表面的可剥离层时,微图案的放大效果会在剥离前后发生变化。值得一提的是:从图 14看,为"剥离改变"膜结构,该结构包括一可剥离微透镜、第二微透镜、第一图案层W及第 二图案层,可W在第二微透镜背面直接印刷第一图案层,第一图案层与第二图案层之间还 设有光学间隔器244,此时第二微透镜与第一图案层之间进而排除了透明基材,但是此时的 第二微透镜并不能显示第一图案层的影像(见说明书第20页第二段)。再者,该专利说明书 第29~30页公开了该专利中的结构制备方法,基本包括W下步骤:S01-个或多个光学间隔 器;S02微透镜W及图案层分别位于光学间隔器表面。其中光学间隔器表面设可固化树脂制 备微透镜W及图案层。
[0009]所W无论是图13与图14中的结构还是说明书29~30页公开的制备方法,微透镜W 及图案层的显示影像务必都要设置光学间隔器层,制备的方法为在光学间隔器表面涂布可 固化树脂,W备制备微透镜与图案层;但是就是该种结构造成如此厚的整体结构极不利于 高速烫印时及时切断。此外,透明基材往往具有良好的机械性能,运也不利于烫印的切断要 求。
[0010] 因此,有必要采用新的方案,来减小具有微透镜和凹陷型微图案的可转印莫尔安 全元件的厚度,即减小成像薄膜的厚度。 【实用新型内容】
[0011] 本申请实施例的目的是提供一种成像薄膜,W实现减小成像薄膜的厚度的目的。
[0012] 为解决上述技术问题,本申请实施例提供一种成像薄膜是运样实现的:
[0013] 本申请实施例提供了一种成像薄膜,包括:由一种聚合物制成的本体;
[0014] 所述本体的一表面上形成有聚焦结构,所述聚焦结构包括至少两个呈不对称排布 的聚焦单元;
[0015] 所述本体的内部形成有图文结构,所述图文结构包括至少两个图文单元;
[0016] 所述图文单元的位置坐标与所述聚焦单元的位置坐标相适配,W使所有处于接通 状态的点阵通过所述聚焦单元形成至少一个悬浮影像。
[0017] 在一实施例中,所述本体和所述聚焦结构为一体结构。
[0018] 在一实施例中,所述本体由第一聚合物制成,所述聚焦结构由材质不同于第一聚 合物的第二聚合物制成,在所述本体与所述聚焦结构之间形成有融合部。
[0019] 在一实施例中,所述第二聚合物和所述第一聚合物之间的折射率之差小于0.5。
[0020] 在一实施例中,所述图文单元包括具有接通和/或断开状态的点阵。
[0021] 在一实施例中,所述聚焦单元之间的间距为1微米~200微米。
[0022] 在一实施例中,所述聚焦单元包括微透镜或菲涅尔透镜。
[0023] 在一实施例中,所述聚焦结构的外表面上设置有反射结构。
[0024] 在一实施例中,所述反射结构的厚度为0.02微米~5微米。
[0025] 在一实施例中,所述图文结构为凹槽结构。
[0026] 在一实施例中,所述聚合物包括热固化树脂或光固化树脂。
[0027] 由W上本申请实施例提供的技术方案可见,本申请实施例通过在本体内部形成图 文结构,从而实现了减小成像薄膜厚度的目的。
【附图说明】
[0028] 为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现 有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本 申请中记载的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提 下,还可W根据运些附图获得其他的附图。
[0029] 图1是本申请实施例所提供的成像薄膜的一种结构示意图;
[0030] 图2是本申请实施例所提供的成像薄膜的另一种结构示意图;
[0031] 图3是本申请实施例所提供的成像薄膜的另一种结构示意图;
[0032] 图4是本申请实施例所提供的成像薄膜的另一种结构示意图;
[0033] 图5是本申请实施例所提供的成像薄膜的另一种结构示意图;
[0034] 图6是本申请实施例所提供的成像薄膜中图文单元示意图;
[0035] 图7是本申请实施例所提供的带有反射结构的成像薄膜的结构示意图;
[0036] 图8是本申请实施例所提供的成像薄膜的另一种结构示意图;
[0037] 图9是图8所示的成像薄膜中聚焦结构的一种结构示意图;
[0038] 图10是图8所示的成像薄膜中聚焦结构的另一种结构示意图;
[0039] 图11是对应图9中聚焦结构的图文结构的结构示意图;
[0040] 图12是对应图10中聚焦结构的图文结构的结构示意图;
[0041] 图13是本申请实施例所提供的成像薄膜悬浮成像的原理图;
[0042] 图14是本申请实施例所提供的一种成像薄膜的3D成像视觉效果图;
[0043] 图15是本申请实施例所提供的一种成像薄膜的制备方法的步骤流程图;
[0044] 图16是本申请实施例所提供的另一种成像薄膜的制备方法的步骤流程图;
[0045] 图17是本申请实施例所提供的另一种成像薄膜的制备方法的步骤流程图;
[0046] 图18是本申请实施例所提供的另一种成像薄膜的制备方法的步骤流程图。
【具体实施方式】
[0047] 为了使本技术领域的人员更好地理解本申请中的技术方案,下面将结合本申请实 施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施 例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通 技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本申请保护 的范围。
[0048] 需要说明的是,当元件被称为"设置于"另一个元件,它可W直接在另一个元件上 或者也可W存在居中的元件。当一个元件被认为是"连接"另一个元件,它可W是直接连接 到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语"垂直的"、"水平的"、"左"、 "右及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。
[0049] 除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领 域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为 了描述具体的实施方式的目的,不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语"和/或"包 括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0050] 本申请实施例提供了一种成像薄膜,包括:由同一种聚合物制成的本体;在所述本 体的一表面上形成有聚焦结构;在所述本体的内部形成有图文结构,所述图文结构通过所 述聚焦结构成像。由此可见,本申请实施例所提供的成像薄膜没有基底,因而可W实现减小 成像薄膜的厚度的目的。
[0051 ]下面结合附图对本申请实施例所提供的成像薄膜进行详细说明。
[0052] 如图1所示,该成像薄膜包括由一种聚合物制成的本体101,在本体101的一表面上 形成有聚焦结构201,在本体101内部形成有图文结构301。图文结构301可W通过聚焦结构 201成像。
[0053] 所述聚合物可W为单个聚合物,也可W为由多个不会发生反应的单个聚合物混合 成的混合聚合物。所述聚合物的透光率可W大于70%,即聚合物为透明颜色或者在视觉上 显示透明。所述聚合物可W为PET(polyethylene terephthalate ,聚对苯二甲酸乙二醇 醋)、PVC(Polyvinyl chlori
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