一种曝光机的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种曝光机，用以解决现有技术测得的CD bias不稳定的问题。曝光机包括若干不同曝光距离的基台，每一所述基台包括基台本体和基台突起，所述基台本体用于放置待曝光的基板，所述基台突起用于确定曝光距离，所述曝光距离为所述待曝光的基板与掩膜板之间的距离。
【专利说明】
一种曝光机
技术领域
[0001]本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种曝光机。
【背景技术】
[0002]液晶显示面板(Liquid Crystal Display，LCD)是目前常用的平板显示器，LCD的制程包括膜层的沉积以及膜层的曝光，其中曝光过程在整个LCD制程中起着关键的作用，而曝光机的性能直接影响LCD的品质。目前通过检测显影后像素条的线宽与掩膜板上线宽的差值(⑶bias)，测得的⑶bias越稳定，表示曝光机的性能越好。
[0003]如图1所示，SI表示显影后像素条的线宽，S2表示掩膜板上的线宽，CDbias = Sl_S2，图中10表示衬底基板，11表示黑矩阵，12表示红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)彩膜层，13表示覆盖彩膜层的保护层。
[0004]现有技术曝光过程的示意图如图2所示，曝光机包括基台22，以及位于基台22上方的灯罩21。曝光时，将待曝光的基板23放置在基台22上，在基板23的正上方放置掩膜板24，通过位于灯罩21中的灯发出的光线照射掩膜板24进行曝光。曝光过程中，基板23与掩膜板24之间的距离设置直接影响曝光的精确度，若基板23与掩膜板24之间的距离不准确，则会导致显影后像素条的线宽发生偏移，使得测得的CD bias不稳定。
[0005]现有技术在确定基板23与掩膜板24之间的距离时，采用设置在基台22上的垫片25进行确定，在曝光时，基台22向上移动，在放置掩膜板24的位置处设置一感应装置，当感应装置感应到垫片25与掩膜板24接触时，基台22停止运动，按照此时基板23与掩膜板24之间的距离进行曝光。在曝光过程中，通过调节垫片25的高度调节基板23与掩膜板24之间的距离，但由于垫片25使用过程中容易发生磨损，会导致基板23与掩膜板24之间的距离不准确，会导致显影后像素条的线宽发生偏移，使得测得的CD bias不稳定。
[0006]综上所述，现有技术的曝光机在曝光时存在待曝光的基板与掩膜板之间的距离不准确的问题，使得测得的CD bias不稳定。
【实用新型内容】
[0007]本实用新型实施例提供了一种曝光机，用以解决现有技术测得的CDbias不稳定的问题。
[0008]本实用新型实施例提供的一种曝光机，包括若干不同曝光距离的基台，每一所述基台包括基台本体和基台突起，所述基台本体用于放置待曝光的基板，所述基台突起用于确定曝光距离，所述曝光距离为所述待曝光的基板与掩膜板之间的距离。
[0009]由本实用新型实施例提供的曝光机，包括若干不同曝光距离的基台，每一基台包括基台本体和基台突起，基台本体用于放置待曝光的基板，基台突起用于确定曝光距离。本实用新型实施例通过基台突起代替现有技术中较易磨损的垫片，能够准确的确定待曝光的基板与掩膜板之间的距离，进而使得测得的CD bias较稳定。
[0010]较佳地，所述基台本体与所述基台突起一体设置。[0011 ]较佳地，基台还包括连接部，所述基台突起通过所述连接部与所述基台本体连接。
[0012]较佳地，还包括与所述连接部相连的控制器，所述控制器用于通过控制所述连接部运动，控制所述基台突起所在平面与所述基台本体所在平面之间的距离。
[0013]较佳地，所述基台突起关于所述基台本体的中心轴线呈对称分布。
[0014]较佳地，所述基台突起的截面形状为矩形或三角形。
【附图说明】
[0015]图1为现有技术测量⑶bias的不意图；
[0016]图2为现有技术提供的曝光机的部分结构示意图；
[0017]图3为本实用新型实施例一提供的一种曝光机的部分结构示意图；
[0018]图4为本实用新型实施例二提供的一种曝光机的部分结构示意图；
[0019]图5为本实用新型实施例三提供的一种曝光机的部分结构示意图；
[0020]图6为本实用新型实施例提供的一种曝光机的曝光方法流程图。
【具体实施方式】
[0021]本实用新型实施例提供了一种曝光机，用以解决现有技术测得的CDbias不稳定的问题。
[0022]为了使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0023]下面结合附图详细介绍本实用新型具体实施例提供的曝光机。
[0024]如图3所示，本实用新型具体实施例提供了一种曝光机，包括若干不同曝光距离的基台30(图中仅示出了一个曝光距离的基台)，每一基台30包括基台本体31和基台突起32，基台本体31用于放置待曝光的基板23，基台突起32用于确定曝光距离，曝光距离为待曝光的基板23与掩膜板24之间的距离。
[0025]本实用新型具体实施例在确定待曝光的基板与掩膜板之间的距离时，采用基台突起代替现有技术中的垫片，基台突起在使用过程中不易磨损，能够准确的确定待曝光的基板与掩膜板之间的距离，进而使得测得的CD bias较稳定。
[0026]下面具体介绍本实用新型具体实施例基台的具体设置。
[0027]实施例一:
[0028]如图3所示，本实用新型具体实施例中的基台本体31与基台突起32—体设置。本实用新型具体实施例不同曝光距离的基台30的基台突起32所在的平面与基台本体31所在的平面之间的距离不同。
[0029]这种设置方式在曝光过程中，若待曝光的基板与掩膜板之间所需的距离的值为N个，则曝光机中需要预先安装N个不同的基台，在曝光过程中，根据所需的距离选择其中一个基台，采用该基台进行曝光，其中，N为正整数。若N的值较多时，需要设定的基台的数量也较多，在一定程度上增加了曝光机的设计难度。
[0030]实施例二:
[0031]如图4所示，本实用新型具体实施例中的基台还包括连接部41，基台突起32通过连接部41与基台本体31连接。优选地，本实用新型具体实施例基台突起32与基台本体31的材料相同，当基台突起32与基台本体31的材料相同时，在实际选材方面更加方便、简单。在实际设计中，基台突起32的材料也可以与基台本体31的材料不同，可以选择其它耐磨的材料。
[0032]这种方式虽然在设置基台突起时更加灵活，并在选择基台突起的材料时更加多样化，但这种方式与本实用新型具体实施例一类似，在曝光过程中，曝光机需要设定的基台的数量也较多，在一定程度上也增加了曝光机的设计难度。
[0033]实施例三:
[0034]如图5所示，本实用新型具体实施例还包括与连接部41相连的控制器51，控制器51用于通过控制连接部41运动，控制基台突起32所在平面与基台本体31所在平面之间的距离。
[0035]具体地，本实用新型具体实施例可以通过控制器51控制连接部41沿着基台本体31运动，进而控制基台突起32与基台本体31之间的垂直距离，对于同一个基台，能够得到多个基台突起32与基台本体31之间的垂直距离。
[0036]与本实用新型具体实施例一和实施例二相比，在曝光过程中，曝光机需要设定的基台的数量减小，在一定程度上降低了曝光机的设计难度。
[0037]如图3、图4和图5所示，本实用新型具体实施例中的基台突起32关于基台本体31的中心轴线呈对称分布，基台突起32的截面形状为矩形或三角形，图中仅示出了基台突起32的截面形状为矩形，在实际设计中，基台突起的截面形状还可以设计为其它形状，如设计为多边形，本实用新型具体实施例并不对基台突起的截面形状做限定。
[0038]如图6所示，采用本实用新型具体实施例提供的上述曝光机进行曝光的方法，包括:
[0039]S601、根据预先设置的曝光参数，选择所需曝光距离的基台，将该基台固定在掩膜板的正下方;所述曝光距离为待曝光的基板与所述掩膜板之间的距离；
[0040]S602、当基台突起与所述掩膜板接触时，按照所述预先设置的曝光参数进行曝光。
[0041]下面以本实用新型具体实施例在曝光过程中所需的曝光距离分别为250μπι、150μπι和75μπι为例，介绍对待曝光的基板进行曝光的方法。
[0042]对所需的曝光距离为250μπι的待曝光的基板进行曝光时，本实用新型具体实施例以待曝光的基板的厚度为500μπι为例进行介绍，首先，曝光机根据预先设置的待曝光的基板与掩膜板之间的距离为250μπι的曝光参数，选择基台突起部分所在平面与基台本体所在平面之间的距离为750μηι的基台，将该基台固定在掩膜板的正下方;接着，曝光机自动调节基台的高度，当基台突起与掩膜板接触时，基台停止上升，此时待曝光的基板与掩膜板之间的距离为250μπι;最后按照预先设置的曝光参数对待曝光的基板进行曝光。
[0043]采用上述方法对多片所需的曝光距离为250μπι的待曝光的基板进行曝光，并对曝光后的基板进行显影，测试每一个待曝光的基板显影后的CD bias。通过测得结果可以得到采用本实用新型具体实施例的曝光机进行曝光时，测得的CD bias稳定，能够很好的保证后续制作得到的LCD面板的品质。
[0044]对所需的曝光距离为150μπι的待曝光的基板进行曝光时，本实用新型具体实施例以待曝光的基板的厚度为500μπι为例进行介绍，首先，曝光机根据预先设置的待曝光的基板与掩膜板之间的距离为150μπι的曝光参数，选择基台突起部分所在平面与基台本体所在平面之间的距离为650μηι的基台，将该基台固定在掩膜板的正下方;接着，曝光机自动调节基台的高度，当基台突起与掩膜板接触时，基台停止上升，此时待曝光的基板与掩膜板之间的距离为150μπι;最后按照预先设置的曝光参数对待曝光的基板进行曝光。
[0045]同样地，采用上述方法对多片所需的曝光距离为150μπι的待曝光的基板进行曝光，并对曝光后的基板进行显影，测试每一个待曝光的基板显影后的CD bias。通过测得结果可以得到采用本实用新型具体实施例的曝光机进行曝光时，测得的CD bias稳定。
[0046]对所需的曝光距离为75μπι的待曝光的基板进行曝光时，本实用新型具体实施例以待曝光的基板的厚度为500μπι为例进行介绍，首先，曝光机根据预先设置的待曝光的基板与掩膜板之间的距离为75μπι的曝光参数，选择基台突起部分所在平面与基台本体所在平面之间的距离为575μηι的基台，将该基台固定在掩膜板的正下方;接着，曝光机自动调节基台的高度，当基台突起与掩膜板接触时，基台停止上升，此时待曝光的基板与掩膜板之间的距离为75μπι;最后按照预先设置的曝光参数进行曝光。
[0047]同样地，采用上述方法对多片所需的曝光距离为75μπι的待曝光的基板进行曝光，并对曝光后的基板进行显影，测试每一个待曝光的基板显影后的CD bias。通过测得结果可以得到采用本实用新型具体实施例的曝光机进行曝光时，测得的CD bias稳定。
[0048]综上所述，本实用新型具体实施例提供一种曝光机，包括若干不同曝光距离的基台，每一基台包括基台本体和基台突起，基台本体用于放置待曝光的基板，基台突起用于确定曝光距离，曝光距离为待曝光的基板与掩膜板之间的距离。本实用新型具体实施例通过基台突起代替现有技术中较易磨损的垫片，能够准确的确定待曝光的基板与掩膜板之间的距离，进而使得测得的⑶bias较稳定。
[0049]显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
【主权项】
1.一种曝光机，其特征在于，包括若干不同曝光距离的基台，每一所述基台包括基台本体和基台突起，所述基台本体用于放置待曝光的基板，所述基台突起用于确定曝光距离，所述曝光距离为所述待曝光的基板与掩膜板之间的距离。2.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述基台本体与所述基台突起一体设置。3.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述基台还包括连接部，所述基台突起通过所述连接部与所述基台本体连接。4.根据权利要求3所述的曝光机，其特征在于，还包括与所述连接部相连的控制器，所述控制器用于通过控制所述连接部运动，控制所述基台突起所在平面与所述基台本体所在平面之间的距离。5.根据权利要求2或4所述的曝光机，其特征在于，所述基台突起关于所述基台本体的中心轴线呈对称分布。6.根据权利要求5所述的曝光机，其特征在于，所述基台突起的截面形状为矩形或三角形。
【文档编号】G03F7/20GK205450559SQ201521142679
【公开日】2016年8月10日
【申请日】2015年12月31日
【发明人】凡明明
【申请人】阜阳欣奕华材料科技有限公司