一种控制液体滴液量的装置的制造方法

文档序号:10855437阅读:695来源:国知局
一种控制液体滴液量的装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型提供一种控制液体滴液量的装置,在储液罐顶部有进液管道和出液管道,出液管道滴液至均匀旋转的光刻晶片表面,所述进液管道装有调压阀,出液管道装有精密流量调节阀和流体截止阀、回液控制阀,储液罐顶部还装有卸压阀,在储液罐本体装有液面显示管,使出液管道滴出的液体流量达到0.05ml/滴。本实用新型的优点是,可应用于wafer光刻PG制程工艺,可以实现自动控制精确滴液量,减少二甲苯与人接触的机会,从而减少了对人体的伤害,而且增加了产品的涂布均匀性和稳定性,极大改善了PG外观缺陷,提升了产品品质及工艺稳定性。
【专利说明】
一种控制液体滴液量的装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及半导体领域wafer光刻制程中二甲苯滴液量控制的装置。
【背景技术】
[0002]半导体硅片经扩散处理后表面比较干燥,在硅片表面涂覆一层参杂玻璃粉的光刻胶时,由于光刻胶粘度较高,加之参杂玻璃粉后,流动性会相应变差。在喷涂到硅片表面后不容易被均匀涂覆,目前状态下就需要使用较多量的光刻胶来处理,造成了较多原材料浪费及wafer成本的增加。
[0003]目前采用人工方式使用沾有二甲苯的毛刷笔涂在wafer表面,但这种方式对人员要求较高,对人体伤害比较大,容易造成涂布不均勾,且毛刷笔上的particle极易对wafer产品造成二次污染。

【发明内容】

[0004]为解决前述存在的问题,本实用新型提供一种控制液体滴液量的装置,在储液罐顶部有进液管道和出液管道,出液管道滴液至均匀旋转的光刻晶片表面,所述进液管道装有调压阀,出液管道装有精密流量调节阀和流体截止阀、回液控制阀,储液罐顶部还装有卸压阀,在储液罐本体装有液面显示管,使出液管道滴出的液体流量达到0.05ml/滴。
[0005]所述精密流量调节阀通过管道与流体截止阀连接,流体截止阀通过管道与回收调节控制阀连接,回收调节控制阀安装有回收速率调节阀。
[0006]本实用新型的优点是,具有相对通用性,可应用于rafer光刻PG制程工艺,可以实现自动控制精确滴液量,减少二甲苯与人接触的机会,从而减少了对人体的伤害,而且增加了产品的涂布均匀性和稳定性,极大改善了 PG外观缺陷,提升了产品品质及工艺稳定性。
【附图说明】
[0007]附图1是本实用新型的结构图。
[0008]附图2是精密流量调节阀和回液控制阀结构图。
[0009]图中标号说明:
[0010]1-储液罐;2-储液罐内液面显示玻璃管;3-调压阀;4-出液管道;5-卸压阀;6-精密流量调节阀;7-流体截止阀、回液控制阀;8-基片;9-精密流量调节阀调节旋扭;10-带压力的进液管道;11-流体截止阀;12-带锁定的回液调节阀;13-回收液速率调节阀;14-出液管。
【具体实施方式】
[0011 ]请参阅附图1、2所示,在储液罐I顶部有进液管道和出液管道4,出液管道4滴液至均匀旋转的光刻基片14表面,所述进液管道装有调压阀3,出液管道4装有精密流量调节阀6和流体截止阀、回液控制阀7,流体截止阀11和回液控制阀是装在一起的,储液罐I顶部还装有卸压阀5,在储液罐I本体装有液面显示管2,使出液管道滴出的液体流量达到0.05ml/滴。
[0012]所述精密流量调节阀6通过管道与流体截止阀11连接,流体截止阀11通过管道与回收调节控制阀12连接,回收调节控制阀12安装有回收速率调节阀13。
[0013]本装置可以实现精确控制二甲苯的滴液量的实用新型装置,控制滴液量精度可达
0.05ml (I滴),使滴在wafer表面的二甲苯量均匀稳定,极大改善之前手动在wafer表面涂拭二甲苯不均匀的问题,从而增加了产品的稳定性,实现了作业方式由manual到auto方式的转变,提升了产品品质及降低人工成本。使用本实用新型装置是可以有效防止PG(ph0t0resist & Glass)涂胶制程中Wafer表面气泡的产生,增加了PG与wafer的浸润力和附着力,从而减少PG烧结过程中气泡爆裂时产生的玻璃孔洞、覆盖不良、玻璃残缺等一系列外观问题的产生,改善了产品的玻璃外观,稳定了品质。
[0014]通过调节精确流量控制阀达到精确控制二甲苯滴液量的目的;回吸控制阀用来精确及时回吸残留滴出的二甲苯,防止过量的二甲苯的滴至wafer表面,从而达到稳定制程品质的目的,提尚广品的可靠性和稳定性。
[0015]本装置可以在涂覆PG之前预先在匀速旋转的硅片表面滴定或喷雾2-3滴二甲苯的液量(精确度可以达到0.05ml/滴),匀速旋转的硅片会快速将二甲苯涂覆在er表面,这样就可以使硅片表面达到预湿润效果,从而可以获得涂覆PG光刻胶时有较好的涂覆效果,并能够提尚广品性能及稳定性。
【主权项】
1.一种控制液体滴液量的装置,在储液罐顶部有进液管道和出液管道,出液管道滴液至均匀旋转的光刻晶片表面,其特征在于,进液管道装有调压阀,出液管道装有精密流量调节阀和流体截止阀、回液控制阀,使出液管道滴出的液体流量达到0.05ml/滴,储液罐顶部还装有卸压阀,在储液罐本体装有液面显示管。2.按权利要求1所述的一种控制液体滴液量的装置,其特征在于,所述精密流量调节阀通过管道与流体截止阀连接,流体截止阀通过管道与回收调节控制阀连接,回收调节控制阀安装有回收速率调节阀。
【文档编号】G03F7/16GK205539920SQ201620116051
【公开日】2016年8月31日
【申请日】2016年2月5日
【发明人】马兆国, 蔡荣华, 黄建勋
【申请人】上海旭福电子有限公司, 敦南微电子(无锡)有限公司
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