激光直写倾斜双面曝光装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开一种激光直写倾斜双面曝光装置，包括底座（4）和曝光装置（2），曝光装置（2）有两组，均倾斜设置在底座（4）的上表面，在两组曝光装置（2）的中间位于底座（4）上表面设置滑移座（5），曝光装置（2）为多棱镜集成组件，多棱镜集成组件上设置多棱镜投影光路（1）。有益效果是：能够同时曝光被曝光工件的正反两面，使得工作的效率提升一倍，更好的提高了产能，增加了工作的效率。
【专利说明】
激光直写倾斜双面曝光装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及一种曝光装置，具体涉及一种激光直写倾斜双面曝光装置。
【背景技术】
[0002]直写式光刻技术是近年来发展较快的、以替代传统的掩膜板式光刻技术的影像直接转移技术，在半导体及PCB生产领域中有着越来越重要的地位。利用该技术可以缩短工艺流程，并降低生产成本。目前市场上主流的直写式光刻机大多以单工件台方式进行扫描曝光，先将被曝光工件的A面曝光完成后，再进行翻版，然后对B面进行曝光。在单工件台系统中，用于曝光的基板的上板、对准、曝光、下板是依次进行的。依据目前的结构系统，各操作流程均已经达到耗时的上限，很难再缩短某个操作步骤的操作时间，即单工件台的直写式光刻机由于各操作流程的串行性质，已很难再提高产能。
【发明内容】
[0003]针对上述现有技术存在的问题，本实用新型提供一种激光直写倾斜双面曝光装置，提升工作效率，更好的提高了产能。
[0004]为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是:一种激光直写倾斜双面曝光装置，包括底座和曝光装置，曝光装置有两组，均倾斜设置在底座的上表面，在两组曝光装置的中间位于底座上表面设置滑移座，曝光装置为多棱镜集成组件，多棱镜集成组件上设置多棱镜投影光路。
[0005]进一步的，所述的多棱镜集成组件上的多棱镜投影光路有多列，且相邻两列多棱镜投影光路交叉布置。
[0006]进一步的，所述的两组曝光装置平行设置。
[0007]本实用新型的有益效果是:能够同时曝光被曝光工件的正反两面，使得工作的效率提升一倍，更好的提高了产能，增加了工作的效率。
【附图说明】
[0008]图1为本实用新型的结构示意图；
[0009]图2为本实用新型的主视图；
[0010]图中:1、多棱镜投影光路，2、多棱镜集成组件，3、PCB板件，4、底座，5、滑移座。
【具体实施方式】
[0011 ]下面结合附图对本实用新型作进一步说明。
[0012 ] 如图1至图2所示，本激光直写倾斜双面曝光装置，包括底座4和曝光装置2，曝光装置2有两组，均倾斜设置在底座4的上表面，在两组曝光装置2的中间位于底座4上表面设置滑移座5，曝光装置2为多棱镜集成组件，多棱镜集成组件上设置多棱镜投影光路I，将需要曝光的PCB板件3放置在滑移座5上，滑移座5保证PCB板件3平行于两组曝光装置2放置在底座4的上并沿水平方向移动，两组曝光装置2能够同时曝光PCB板件3的正反两面，使得工作的效率提升一倍，更好的提高了产能。
[0013]为了进一步提高曝光质量，多棱镜集成组件上的多棱镜投影光路I有多列，且相邻两列多棱镜投影光路I交叉布置，所述的两组曝光装置2平行设置。
【主权项】
1.一种激光直写倾斜双面曝光装置，其特征在于，包括底座(4)和曝光装置(2)，曝光装置(2)有两组，均倾斜设置在底座(4)的上表面，在两组曝光装置(2)的中间位于底座(4)上表面设置滑移座(5)，曝光装置(2)为多棱镜集成组件，多棱镜集成组件上设置多棱镜投影光路(I)。2.根据权利要求1所述的一种激光直写倾斜双面曝光装置，其特征在于，所述的多棱镜集成组件上的多棱镜投影光路(I)有多列，且相邻两列多棱镜投影光路(I)交叉布置。3.根据权利要求2所述的一种激光直写倾斜双面曝光装置，其特征在于，所述的两组曝光装置(2)平行设置。
【文档编号】G03F7/20GK205539921SQ201620059992
【公开日】2016年8月31日
【申请日】2016年1月22日
【发明人】徐巍, 赵华, 张伟, 王翰文, 马汝治
【申请人】江苏影速光电技术有限公司