一种由衰减片调节的激光功率调控装置的制造方法

文档序号:10954545阅读:953来源:国知局
一种由衰减片调节的激光功率调控装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种由衰减片调节的激光功率调控装置,包括衰减片,所述的衰减片由步进电机驱动,激光光束经过衰减片后照射到分光片的中心处,分光片将激光光束分为主光束和参考光束,所述的参考光束由光电探头进行采集,所述的光电探头与控制分析装置,所述的控制分析装置将反馈电信号传输给步进电机的控制电路。本实用新型利用衰减片、控制分析装置、光电探头、分光进行功率调节,可以实现准确的激光功率的调控。分析装置和电路控制装置组成反馈系统,可以随时对当前的激光功率进行调节,本实用新型操作简单,精确度高,重复利用性强,适于实用。
【专利说明】
一种由衰减片调节的激光功率调控装置
技术领域
[0001]本实用新型属于一种激光功率调节装置,具体涉及一种由衰减片调节的激光功率调控装置。【背景技术】
[0002]在激光应用研究领域,经常需要调节激光功率的大小,以便对控制激光功率,方便激光实验,如研究某种原子的激发光谱或者是某种原子的激发电离路径等。这些都要求对激光功率严格准确的控制,在任何时候都可以快速的调节。同时,在实验过程中要求对激光功率的反复调节,保证实验数据的可靠性,这要求激光功率调节装置具有一定的稳定性和可重复性。
[0003]对于激光功率的调节与使用存在很多方法,但是基本停留在对光路的手动调整, 调控复杂等缺点,这些缺点可以归结为:其一、对激光功率进行调整时,每次都需要手动对光功率进行调整,效率较低且容易造成激光光路改变影响实验;其二、在实验中经常改变实验参数,会导致激光功率的改变,这就要求对功率重新进行调整,调节的准确性和稳定性较低;其三、有些要求激光功率精度较高的实验,调整激光功率存在一定误差;其四、光路调节系统复杂,稳定性差,损耗大,调节困难等。而光谱研究或激发电离研究所涉及波长范围大, 在对波长进行扫描的过程中,常常要对激光功率进行调整,同时要求激光功率的调节误差较小,调节系统的可靠性高,以保障质谱研究的实验重复性和数据可靠性。
[0004]目前,现有技术的激光功率调节装置及方法还存在激光功率光路搭建复杂、调节复杂、调节困难、灵活性低、重复性差、调节精准性低等一系列问题。
【发明内容】

[0005]本实用新型为解决现有技术存在的问题而提出,其目的是提供一种由衰减片调节的激光功率调控装置。
[0006]本实用新型的技术方案是:一种由衰减片调节的激光功率调控装置,包括衰减片, 所述的衰减片由步进电机驱动,激光光束经过衰减片后照射到分光片的中心处,分光片将激光光束分为主光束和参考光束,所述的参考光束由光电探头进行米集,所述的光电探头与控制分析装置相连,所述的控制分析装置将反馈电信号传输给步进电机的控制电路。
[0007]所述的控制分析装置、光电探头通过数据传输线相连。[〇〇〇8]所述的衰减片、分光片同光轴。
[0009]本实用新型利用衰减片、控制分析装置、光电探头、分光进行功率调节,可以实现准确的激光功率的调控。分析装置和电路控制装置组成反馈系统,可以随时对当前的激光功率进行调节,本实用新型操作简单,精确度高,重复利用性强,适于实用。【附图说明】
[0010]图1是本实用新型的整体结构示意图;
[0011]其中:[〇〇12]1衰减片2步进电机
[0013]3数据传输线4控制分析装置[〇〇14]5光电探头6分光片[〇〇15]7主光束8参考光束
[0016]9激光光束。【具体实施方式】
[0017]以下,参照附图和实施例对本实用新型进行详细说明:
[0018]如图1所示,一种由衰减片调节的激光功率调控装置,包括〇衰减片1,所述的衰减片1由步进电机2驱动,激光光束9经过衰减片1后照射到分光片6的中心处,分光片6将激光光束9分为主光束7和参考光束8,所述的参考光束8由光电探头5进行采集,所述的光电探头 5与控制分析装置4相连,所述的控制分析装置4将反馈电信号传输给步进电机2的控制电路。
[0019]所述的上位计算机中的控制分析装置4、光电探头5通过数据传输线3相连。
[0020]所述的衰减片1、分光片6同光轴。所述的衰减片1为光学衰减片。
[0021]本实用新型的工作过程如下:
[0022]首先,对激光光束9方向进行调整,使激光光束9通过衰减片1,使通过衰减片1衰减后的激光光束9再通过分光片6,使激光光束9分为主光束7和参考光束8。
[0023]然后,通过光电探头5采集参考光束8,光电探头5采集的数据通过数据传输线3传输到控制分析装置4中进行分析调控,所述的控制分析装置4对所接收到的信号大小与所设定的信号大小进行比较。[〇〇24]最后,控制分析装置4将电信号传输给控制电路,控制电路对步进电机2进行调整,步进电机2带动衰减片1进行反馈转动。
[0025]本实用新型利用衰减片、控制分析装置、光电探头、分光进行功率调节,可以实现准确的激光功率的调控。分析装置和电路控制装置组成反馈系统,可以随时对当前的激光功率进行调节,本实用新型操作简单,精确度高,重复利用性强,适于实用。
【主权项】
1.一种由衰减片调节的激光功率调控装置,包括衰减片(1),其特征在于:所述的衰减 片(1)由步进电机(2)驱动,激光光束(9)经过衰减片(1)后照射到分光片(6)的中心处,分光 片(6)将激光光束(9)分为主光束(7)和参考光束(8),所述的参考光束(8)由光电探头(5)进 行采集,所述的光电探头(5)与控制分析装置(4)相连,所述的控制分析装置(4)将反馈电信 号传输给步进电机(2)的控制电路。2.根据权利要求1所述的一种由衰减片调节的激光功率调控装置,其特征在于:所述的 控制分析装置(4)、光电探头(5)通过数据传输线(3)相连。3.根据权利要求1所述的一种由衰减片调节的激光功率调控装置,其特征在于:所述的 衰减片(1)、分光片(6)同光轴。
【文档编号】H01S3/10GK205643850SQ201620287673
【公开日】2016年10月12日
【申请日】2016年4月8日
【发明人】梁硕熙, 赵飞, 陈日升, 柴俊杰, 魏永杰, 钱金宁, 王亮, 李云飞, 王鹏
【申请人】核工业理化工程研究院
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1