施用保护覆层特别是向能量锅炉的气密膜施用保护覆层的方法

文档序号:3111428阅读:141来源:国知局
施用保护覆层特别是向能量锅炉的气密膜施用保护覆层的方法
【专利摘要】一种施用保护覆层特别是向能量锅炉的气密膜施用保护覆层的方法,包括:将两个气密膜(2)耦接在一起,然后在300℃至800℃、有利地约700℃下均热处理耦接在一起的一对气密膜(2);随后,清洁待施用覆层(1)的膜(2)表面,将耦接在一起的一对气密膜(2)安装在定位器上,然后预加热到80℃至600℃、有利地预加热到约300℃至450℃,然后用保护覆层(1)覆盖耦接在一起的一对气密膜(2)的经清洁和预加热的表面,其中保护覆层以0.1mm至3.00mm、有利地约0.6mm的厚度施用,然后最后将与覆层耦接在一起的整对气密膜(2)在300℃至800℃,优选约700℃下进行均热处理,并且维持设定温度10分钟至600分钟、有利地15分钟至30分钟,以及最后使具有覆层的气密膜(2)解耦接。
【专利说明】施用保护覆层特别是向能量锅炉的气密膜施用保护覆层的方法
[0001]本发明涉及一种向能量锅炉(energy boiler)的气密膜施用保护覆层(protect1n cladding)的方法。
[0002]环境法规(尤其是NOx减排方面的环境法规)使得在粉状燃料(pulverizedfuel)锅炉中必须使用新的煤燃烧方法。低排放燃烧、将氨注入燃烧室中、添加生物质用于燃烧导致了蒸发器壁(膜)的强烈腐蚀。一种替代方法是使用昂贵的尾气(off-gas)催化齐U。通过施用抗腐蚀保护涂层或者通过使用空气罩(air shroud)可保护膜免受腐蚀。
[0003]由波兰专利说明书PL 200773获知了一种向燃烧室的加热壁施用抗腐蚀涂层的方法,其包括在对基底进行喷丸清洁(blast cleaning)至清洁度为Sa 3并且粗糙度Rz为
35μ m至100 μ m,其中在第二阶段中等离子喷涂粉状铝,以及在第三阶段中对涂层的表面层进行热加固直到获得ai2o3。
[0004]使用空气罩不能使膜与燃烧室内的侵蚀性气氛完全分隔;此外,该溶液是昂贵的而且其维护成本很高。也难以控制用作罩的空气的流速,并且同时难以控制燃烧过程的进气。
[0005]通过常规焊接方法(TIG、MIG/MAG或埋弧焊)引入的大量热量在覆层施用过程中导致了膜的显著张力和变形,并且覆层的厚度远大于1_,导致了大量昂贵材料被消耗。
[0006]根据本发明的方法是为了消除已知解决方案的缺点,并且以这种方式可得到永久附接(通过冶金)至基底的薄的气密保护覆层,其特征在于具有非常长的使用寿命,尤其是在低氧腐蚀的条件下。
[0007]根据本发明的方法包括:使两个气密膜耦接在一起,然后在300°C至800°C、有利地约700°C下均热处理耦接在一起的一对气密膜;随后,清洁待施用覆层的膜表面,安装在定位器上并预加热到80°C至600°C、有利地约300°C至450°C,然后用保护覆层覆盖耦接在一起的一对气密膜的经清洁和预加热的表面,其中保护覆层以0.1mm至3.00_、有利地约0.6mm的厚度施用,然后最后将与覆层耦接在一起的整对气密膜在300°C至800°C、有利地约700°C下均热处理,并维持设定温度10分钟至600分钟、有利地15分钟至30分钟,然后使具有覆层的气密膜解耦接。
[0008]通过将金属型材焊接至气密膜的边缘和/或凸缘来连接气密膜。
[0009]气密膜的表面是通过激光烧蚀进行清洁,其中激光束的输出功率(exit power)为10kW至600kW、有利地为300kW ;光斑直径为0.1mm至1.0臟、有利地约0.5mm ;扫描宽度为30mm至80mm、有利地约60mm ;激光脉冲频率为10000脉冲/秒至50000脉冲/秒、有利地约20000脉冲/秒。
[0010]初步均热处理通过将加热器插在气密膜的管与凸缘之间来进行。
[0011]初步均热处理通过将加热器插在气密膜的管与凸缘之间和/或插入膜管中来进行。
[0012]对于气密膜的覆层而言,使用粉末或线形式的材料,其具有以下组成:50%至80 %、有利地约66%的镍;8.0%至50.0 %、有利地约20.0 %的铬;0.1%至5.0 %、有利地约0.85%的硼;0.08%至6.0 %、有利地约1.2%的硅;0.05%至1.8 %、有利地约0.15%的锰;2.0%至12.0%、有利地约6.8%的钥;1.2%至4.0%、有利地约2.7%的铌;0.01%至
4.0 %、有利地约1.8%的铁;0.03%至0.9%、有利地约0.25%的碳。
[0013]对于气密膜的覆层而言,使用粉末或线形式的材料,其具有以下组成:50%至80%、有利地约64.0%的镍;8.0%M 50.0 %、有利地约22.0%的铬;0.08%至1.0 %、有利地约0.25%的硅;0.05%至2.0 %、有利地约0.20%的锰;2.0%至15.0 %、有利地约9.0%的钥;2.0%至5.0 %、有利地约3.6%的铌;0.01%至0.5%、有利地约0.03%的碳;有利地低于1.0%的铁。
[0014]对于气密膜的覆层而言,使用粉末或线形式的材料,其具有以下组成:60.0%至80.0%、有利地约70.4%的镍;8.0%至20.0%、有利地约17.3%的铬;2.0%至7.0%、有利地约4.0 %的硅;2.0 %至6.0 %、有利地约3.43 %的硼;0.4%至2.0 %、有利地约0.89 %的碳;2.5%至7.0 %、有利地约4.0%的铁。
[0015]为了向气密膜施用保护覆层,使用激光束辐射能。
[0016]冷金属过渡(CMT)技术用于向气密膜施用保护覆层。
[0017]在覆层施用的过程中,通过高温计或红外摄像机控制源功率(激光,CMT),以使得覆层的温度决不超过2600°C,并且有利地为2300°C至2500°C。
[0018]控制保护覆层参数以使得向过程运行区域供以2.5kJ/g至12kJ/g原料、有利地4kJ/g至6kJ/g的能量。
[0019]供给至覆层区域的能量的量被确定为使得向覆层区域中基底的热渗透低于
2.0Omm,并且有利地低于0.2mm。
[0020]以如下方式将覆层施用于安装在定位器上的耦接在一起的一对气密膜:在向耦接在一起的一对气密膜的一侧施用一个或更多个焊道之后,翻转该对气密膜并向该对气密膜的另一侧施用一个或更多个焊道,其中重复循环多次直到按计划施用整个保护层。
[0021]一个循环包括向耦接在一起的一对气密膜的一侧施用长度不低于气密膜长度0.4的至少一个焊道;有利地向计划表面的5%至10%施用覆层。
[0022]同时将保护覆层施用于耦接在一起的一对气密膜的彼此相对的侧。
[0023]使用以以下参数为特征的CMT技术以编织图案(weave patter)施用保护覆层:频率为IHz至3Hz、有利地2Hz ;所施用覆层的量为3.0kg/小时至6.0kg/小时、有利地4.3kg/小时;编织幅度为1mm至12mm。
[0024]为了通过金属型材连接气密膜凸缘,使用连续焊接或针脚点焊(stitchwelding)。
[0025]在覆层施用之前和/或施用过程中将气密膜的耦接对预加热至80°C至600°C、有利地300°C至450°C的温度。
[0026]将气密膜的相邻管端焊接在一起。
[0027]使气密膜与沿着膜边缘定位的螺栓和/或型材耦接。
[0028]使用级分为0.5mm至2.0臟、有利地约0.7mm的金刚砂和/或丸,并且施加2.5巴至12.0巴、有利地约7.0巴的气体压力,将气密膜的表面喷丸清洁至清洁度水平为Sa3。
[0029]覆层头部与膜的耦接对之间的固定距离通过激光追踪系统来维持。
[0030]定位器的一端可沿着膜的纵轴自由移动。
[0031]根据本发明的方法使得可向由焊接在一起的若干管和束构成的气密膜施用永久性气密覆层,其通过施用对由废料或者煤或者与生物质或另一种生物有机物质混合的煤燃烧在锅炉燃烧室内产生的侵蚀性环境具有抗性的材料的覆层来实现。
[0032]保护覆层的组成确保了对由硫和氯化合物造成的低氧(高温)腐蚀以及基于氨的腐蚀的抗性。
[0033]该保护通过镍和铬基混合物来提供。应使铁的含量最小化。
[0034]由于溶液的施用例如“冷涡(cold vortex) ”,保护覆层应比锅炉钢更耐腐蚀。
[0035]为了改善耐腐蚀性,镍和铬基材料可富含锰、钥、铌和硅以及硼,其存在改善了混合物的可熔性并且使覆层更硬。
[0036]永久附接至钢基底的金属保护覆层的施用常借助于常规焊接技术例如TIG、MIG/MAG、埋弧用于工业中。
[0037]常规焊接技术的应用需要引入大量热量,这在基底中产生了热渗透层,使得大量热量渗透元件,从而导致应力增加并最终导致元件的显著变形。
[0038]因此,常规包覆方法不可能获得0.2mm至1_的薄保护层。
[0039]当将束和管焊接成气密性膜时,元件内会产生热应力。
[0040]包覆方法还导致了元件表面上的热应力,这使得朝着覆层弯向“内侧”。
[0041]对元件进行预加热移除了气密膜焊接过程中产生的应力。
[0042]两个膜彼此之间的耦接使得耦接在一起的这些膜两侧上的覆层应力抵销,从而消除了膜耦接对的变形。
[0043]当将元件放置在具有水平轴的定位器上时,可交替地施用覆层。在根据本发明的方法中,向耦接在一起的一对膜的一侧施用数个焊道,然后翻转该对,并向另一侧施用覆层。循环重复多次以使得一侧产生的应力立刻被另一侧的覆层补偿。
[0044]在使用两个装置时膜的垂直定位使得可同时向两侧施用覆层并且在持续的基础上补偿热应力,并且维持形状。
[0045]保护覆层必须对来自锅炉内气氛的化学冲击具有抗性,其应该是完全气密的并且永久地附接至基底,因此,任何可能的孔都应闭合。与热喷涂涂层相反,这些条件可通过包覆法来完成。
[0046]常规包覆技术(TIG、MIG/MAG、埋弧技术)将大量热量引入元件中,导致局部温度为2800°C,从而导致了大的应力,引起变形;并且产生了超过Imm的深热渗透区域。这些过程难以精确地控制并且不可能获得0.3_至0.7mm的薄层,所述薄层会减少昂贵材料的消耗并且使大量热量至元件中的引入最小化。
[0047]激光包覆技术与基于覆层温度的激光功率控制和温度控制系统组合应用,使得可精确地控制其施用过程中的覆层温度并且可维持该温度低于主要原料成分的沸点,从而促进过程稳定性并且使得可获得高品质覆层。
[0048]相应地,将冷金属转移(CMT)技术用于覆层施用使得引入至元件的热容、所导致的应力和热渗透区域最小化。
[0049]在覆层施用过程之前和期间,将元件预加热至最高达几百度,使得可降低覆层的冷却速度,因此防止了覆层中的裂纹和完整性损失。
[0050]在使用CMT技术时通过使用编织图案的覆层也可防止覆层的过度冷却速度以及覆层的破裂。
[0051 ] 在覆层施用时连续预加热元件导致其中应力的有利减少。
[0052]为了消除包覆方法后的剩余应力,将耦接在一起的一对膜在几百度的温度、有利地约700°C下均热处理几十分钟。
[0053]膜在与覆层施用期间产生的应力相反的方向上的初始变形使得在消除均热处理过程后剩余的残留应力可用由膜变形造成的弹性应力来补偿,从而导致膜矫直(unbended)。
[0054]由于膜的初始变形,所以其在包覆方法后可能的矫直以这样的方向传播,使得在矫直时保护覆层不被拉伸,消除了裂纹形成的危险。
[0055]使用安装在机械臂上的激光跟踪系统,使得在覆层施用之前耦接在一起的一对膜已发生初始形变的情况下,可通过间隔件与膜保持恒定距离,这便于整个过程的程序化。
[0056]为了补偿在向膜的耦接对进行覆层施用之前的预加热时由于温度波动造成的长度变化,定位器的一端可沿着管的纵轴自由移动。
[0057]根据本发明的方法的一个优点在于,由于使膜耦接在一起并且通过均热处理消除了应力,所以使膜变形最小化,从而减小了进而在激光覆层施用时导致管、凸缘和焊接接头变形的应力;由于其以冶金方式与基底层结合,所以方法的一个优点是还可能具有完全紧密的覆层。
[0058]根据本发明的方法的一个优点是使用热应力补偿现象,其因膜耦接而获得。
[0059]覆层施用之前的均热处理和预加热移除了膜表面结构中截留的气体。
[0060]气密膜的初始变形降低了在膜解耦接之后保护覆层上裂纹的风险。
[0061]初始变形使对解耦接之后矫直膜的要求最小化。
[0062]覆层施用之后的最后均热处理消除了应力并且使膜在其解耦接之后的变形最小化。
[0063]本发明作为一个实施方案不于附图中,其中图1不出了I禹接在一起的一对气密膜从管入口侧的视图,其中加热器插在管与凸缘之间,图2示出了耦接在一起的一对气密膜的顶视图,图3示出了在插入距离间隔件之后,耦接在一起的一对气密膜由管入口侧的视图,图4示出了在插入距离间隔件之后耦接在一起的一对气密膜的侧视图,图5示出了由管的侧面示出的通过焊接接头连接而耦接在一起的一对气密膜的视图,图6示出了如定位器上安装的垂直位置上耦接在一起的一对气密膜的视图,以及图7示出了如定位器上安装的水平位置上耦接在一起的一对气密膜的视图。
[0064]本发明的一个实施方案是向耦接在一起的一对气密膜(2)施用保护覆层(I)的方法,所述气密膜约6米长,425mm宽,并且由通过宽约20mm的凸缘(2)连接的五个直径约61mm的管(3)构成,并且以宽约20mm的凸缘封端。
[0065]将两个具有相同尺寸的气密膜(2)以如下方式耦接在一起,使得角形(7)型材通过焊缝出)固定至其边缘凸缘,所述角设置有狭缝;随后,水平放置一个膜,并且将具有不同厚度和对应于管(3)形状的形状的间隔件(8)以如下方式放置在其上,使得最厚的间隔件(20mm厚)被放置在中间管的中央,并且较薄的间隔件被放置在膜边缘的方向上。在这样地制备一个膜之后,将另一个膜放置在其上;通过钳子使整个圆周上膜边缘彼此靠近。将膜边缘上接触的管通过焊缝(10)连接在一起,并且将螺栓放置在角狭缝内并拧紧使得耦接在一起的一对膜略微凸起。将耦接在一起的一对膜在炉中在700°C的温度下均热处理20分钟,其中使用粒度为0.5mm至0.8mm的金刚砂在约7.0巴的空气压力下将两侧喷丸清洁达到Sa3水平。然后,将耦接在一起的一对气密膜(2)安装在水平定位器(13)上,使得耦接在一起的气密膜可围绕该对气密膜的纵轴转动,其中定位器的两侧设置有8m长的移动路线,其中两个自动机(robot)是移动的。定位器(13)设计使得可补偿由预加热和用激光施用保护覆层(I)期间的可变温度造成的一对气密膜(2)的长度变化。自动机设置有用于通过激光施用覆层(I)的头部(14);这些头部与红外摄像机(11)和激光跟踪系统(12)连接使得其可与膜表面保持恒定的距离。头部与来自各为4kW的激光器的光纤连接。红外摄像机(11)通过软件控制激光功率。在凸缘(4)与膜的管(3)之间存在4个6m长的电子加热器(5),与电源单元连接。对于水平位置上进行的2.5小时的膜加热,其达到300°C的温度。达到设定温度之后,开始涂层施用过程,其中原料化学对应于Inconel625商品的化学;在3600mm/分钟的头部线速度下,粉末以30g/分钟的速度进料,并且激光功率为2.8kff至
3.2kW。单一焊道宽度(9)为4臟,覆层高度为0.5mm至0.7mm,焊道搭接为约2.0mm。头部尖端至基底的距离为13mm。
[0066]惰性气体流速为4升/分钟至6升/分钟,罩气体(氩气)流速为9升/分钟。在将覆层施用至2个中间凸缘和邻近焊缝之后,定位器将耦接在一起的一对膜转动180°并在另一侧重复该过程。将该循环重复三次直到整个凸缘(4)表面覆盖在耦接在一起的一对膜的两侧上。然后,使用类似方法将覆层施用至与所有管上的各侧呈约30°的管顶部(3)。然后,将一对膜转动90°,并且当在垂直位置时,用相同参数将覆层施用至所有五个管暴露的顶部区域,并且在耦接在一起的一对气密膜(2)的两侧上同时运行该过程。然后,将耦接在一起的膜转动180°,并同时使用相同的参数向剩余的暴露管区域一个接一个地施用覆层。在整个过程期间,位于管与凸缘之间的加热器将覆层区之外的膜的温度保持在约300°C的水平。在过程完成和膜冷却之后,将耦接在一起的一对膜从定位器中移除并在炉中均热处理以消除应力,并且保持700°C的温度30分钟。最后,将与膜焊接在一起的管端切通,移除焊接在凸缘上的螺栓连接型材(角)(7)并且从膜中将型材(7)切断。解耦接时,膜朝向覆盖有保护覆层的表面略微弯曲,从而获得可使其适合用于锅炉的形状。
【权利要求】
1.一种施用保护覆层特别是向能量锅炉的气密膜施用保护覆层的方法,其特征在于,将两个气密膜(2)耦接在一起,然后在300°C至800°C、有利地约700°C下均热处理所得的一对气密膜(2),其中清洁待施用保护覆层(I)的气密膜的表面,安装在定位器(13)上并然后预加热到80°C至600°C、有利地预加热到约300°C至450°C,然后,用保护覆层(I)覆盖耦接在一起的一对气密膜(2)的所述经清洁和预加热的表面,其中保护覆层以0.1mm至3.00_、有利地约0.6mm的厚度施用,然后最后将具有覆层的耦接在一起的整对气密膜(2)在300°C至80(TC、有利地约70(TC下进行均热处理,并且维持设定温度10分钟至600分钟、有利地15分钟至30分钟,然后使具有覆层的气密膜(2)解耦接。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,通过将金属型材(7)焊接到气密膜(2)的边缘和/或凸缘(4)来进行气密膜(2)的耦接。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,气密膜(2)的表面通过激光烧蚀进行清洁,其中激光束的输出功率为10kW至600kW、有利地300kW ;斑点直径为0.1mm至1.0mm、有利地约0.5mm ;扫描宽度为30mm至80臟、有利地约60mm ;激光脉冲频率为10000脉冲/秒至50000脉冲/秒、有利地约20000脉冲/秒。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,初步均热处理通过将加热器(5)插在气密膜⑵的管⑶与凸缘⑷之间来进行。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,初步均热处理通过将加热器(5)插在气密膜⑵的管⑶与凸缘⑷之间和/或插入气密膜⑵的管⑶内来进行。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,向气密膜(2)施用粉末或线原料形式的保护覆层(I),所述原料具有以下组成:50%至80%、有利地约66%的镍;8.0%至50.0%、有利地约20.0 %的铬;0.1%至5.0%、有利地约0.85%的硼;0.08 %至6.0 %、有利地约1.2%的硅;0.05%至1.8 %、有利地约0.15%的锰;2.0%至12.0 %、有利地约6.8 %的钥;1.2%M 4.0%、有利地约2.7%的铌;0.01%至4.0%、有利地约1.8%的铁;0.03%至0.9%、有利地约0.25%的碳。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,向气密膜(2)施用粉末或线原料形式的保护覆层(I),所述原料具有以下组成:50%至80%、有利地约64.0%的镍;8.0%至50.0%、有利地约22.0 %的铬;0.08%至1.0 %、有利地约0.25%的硅;0.05%至2.0 %、有利地约0.20%的锰;2.0%至15.0 %、有利地约9.0%的钥;2.0 %至5.0 %、有利地约3.6%的铌;0.01%至0.5%、有利地约0.03%的碳;有利地低于1.0%的铁。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,向气密膜(2)施用粉末或线原料形式的保护覆层(I),所述原料具有以下组成:60.0 %至80.0 %、有利地约70.4%的镍;8.0%至20.0 %、有利地约17.3%的铬;2.0 %至7.0 %、有利地约4.0 %的硅;2.0 %至6.0 %、有利地约3.43 %的硼;0.4%至2.0 %、有利地约0.89 %的碳;2.5 %至7.0 %、有利地约4.0 %的铁。
9.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,使用激光束辐射能向气密膜(2)施用保护覆层(I)。
10.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,使用CMT技术向气密膜(2)施用保护覆层⑴。
11.根据权利要求1、9、10所述的方法,其特征在于,使用高温计或红外摄像机(11)以如下方式控制保护覆层(I)施用的参数,使得覆层施用时的覆层焊接温度不超过2600°c,并且有利地为2300°C至2500°C。
12.根据权利要求1、9、10、11所述的方法,其特征在于,以如下方式控制保护覆层(I)施用的参数,使得向包覆过程区域供以2.5kJ/g原料至12kJ/g原料、有利地4kJ/g原料至6kJ/g原料的能量。
13.根据权利要求1、9、10、11所述的方法,其特征在于,供应至保护覆层(I)的能量的值被确定为使得接近所述覆层焊缝的热渗透区域低于2.0Omm并且有利地低于0.2_。
14.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,以如下方式交替地将覆层施用于安装在定位器(13)上的耦接在一起的一对气密膜(2):向耦接在一起的一对气密膜(2)的一侧施用一个或数个焊道(9),然后翻转该对耦接在一起的气密膜(2),并向耦接在一起的一对气密膜(2)的另一侧施用一个或数个焊道(9),其中重复循环多次直到按计划施用整个保护覆层(I)。
15.根据权利要求1、13所述的方法,其特征在于,在一个循环期间,向稱接在一起的一对气密膜的一侧施用至少一个长度不低于气密膜(2)长度的0.4的焊道(9);有利地施用计划的覆层⑴表面的5%至10%。
16.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,同时向耦接在一起的一对气密膜(2)的彼此相反的侧面施用保护覆层(I)。
17.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,使用以以下参数为特征的CMT技术以编织图案施用保护覆层(I):频率为IHz至3Hz、有利地2Hz ;施用的覆层量为3.0kg/小时至6.0kg/小时、有利地4.3kg/小时;编织幅度为1mm至12mm。
18.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,为了通过金属型材(7)连接气密膜(2)凸缘(4),使用连续焊接或针脚点焊(6)。
19.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,耦接在一起的一对气密膜(2)的初始均热处理和/或最后均热处理在炉或预加热箱中进行。
20.根据权利要求所述的方法,其特征在于,在覆层施用之前和/或期间将耦接在一起的一对气密膜(2)预加热至80°C至600°C、有利地300°C至450°C的温度。
21.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在保持耦接条件下通过将间隔件插在所述耦接在一起的膜之间,使耦接在一起的气密膜(2)发生初始变形,所述间隔件具有2_至200mm的可变厚度。
22.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,相邻气密膜(3)的管端(3)通过焊缝(10)连接。
23.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,相邻气密膜(2)的边缘用螺栓和/或型材(7)机械地连接。
24.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,使用级分为0.5mm至2.0mm、有利地约0.7mm的金刚砂和/或丸,并且施加2.5巴至12.0巴、有利地约7.0巴的气体压力,将气密膜(2)的表面喷丸清洁至Sa3。
25.根据权利要求1和21所述的方法,其特征在于,覆层头部(14)与耦接的一对膜(2)之间的固定距离通过激光追踪系统(12)来维持。
26.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,定位器(13)的一端可沿着管(3)的纵轴 自由移动。
【文档编号】B23K26/03GK104428094SQ201380028538
【公开日】2015年3月18日 申请日期:2013年5月29日 优先权日:2012年5月30日
【发明者】亚历山大·博雷克, 安杰伊·克利姆佩尔 申请人:等离子系统股份公司
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