一种便于清洁的钻床工作台的制作方法

本发明属于钻床装备技术领域,尤其涉及一种便于清洁的钻床工作台。

背景技术：

钻床指主要用钻头在工件上加工孔的机床。通常钻头旋转为主运动，钻头轴向移动为进给运动。钻床结构简单，加工精度相对较低，可钻第一通孔、盲孔，更换特殊刀具，可扩、锪孔，铰孔或进行攻丝等加工。加工过程中工件不动，让刀具移动，将刀具中心对正孔中心，并使刀具转动。

钻床工作台是钻床的重要部件，主要用于安装夹放所要加工的零件，然而钻床工作台上有着多条t形槽，在钻床加工零件时产生的废屑将进入到钻床工作台上的t形槽中，废屑在t形槽中积攒清理不方便，清理工作强度大，不便于机床工作进行。

技术实现要素：

本发明要解决的技术问题是针对以上不足，提供一种便于清洁的钻床工作台，充分利用钻床工作时用的冷却液将加工中产生的废削及时通过导向槽排出，具有结构简单、便于清洁等优点。

为解决以上技术问题，本发明采用以下技术方案：

一种便于清洁的钻床工作台，包括由上而下固定在一起的工作台面和支撑台面，工作台面上设有多个平行设置的t型槽，t型槽的底部设有多个间隔设置的第一通孔，第一通孔贯穿t型槽的底面和工作台面的下侧面；所述支撑台面的上侧面设有导流槽，支撑台面的侧部设有与导流槽相连通的集液箱；所述第一通孔位于导流槽的上方，t型槽内存留的废屑和冷却液通过第一通孔流向导流槽。

作为一种改进，所述导流槽的延伸方向与t型槽的延伸方向垂直。

作为一种改进，所述导流槽倾斜向下设置，便于其内的废屑和冷却液流向集液箱。

作为一种改进，所述集液箱的底部设有出口，出口出连接有导流管。

作为一种改进，所述出口的上部设有滤网。

作为一种改进，每个所述t型槽上等间距设有多个所述第一通孔，每个第一通孔的下方均对应这有所述导流槽。

作为一种改进，所述工作台面上侧面的中部设有与t型槽平行的矩形槽，t型槽的底部也间隔设置多个第二通孔，第二通孔贯穿矩形槽的底面和工作台面的下侧面。

本发明采用以上技术方案后，与现有技术相比，具有以下优点：

本发明一种便于清洁的钻床工作台，充分利用钻床工作时用的冷却液将加工中产生的废削及时通过导向槽排出，具有结构简单、便于清洁等优点。

下面结合附图和实施例对本发明进行详细说明。

附图说明

图1是本发明一种便于清洁的钻床工作台的结构简图；

图2是图1中a-a剖视图；

图中，1-工作台面，2-支撑台面，3-t型槽，4-第一通孔，5-导流槽，6-集液箱，7-出口，8-导流管，9-矩形槽，10-第二通孔。

具体实施方式

为了对本发明的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图说明本发明的具体实施方式。

实施例1

如图1和图2共同所示，一种便于清洁的钻床工作台,包括由上而下固定在一起的工作台面1和支撑台面2。工作台面1上设有多个平行设置的t型槽3，t型槽3的底部设有多个间隔设置的第一通孔4，第一通孔4贯穿t型槽3的底面和工作台面1的下侧面。支撑台面2的上侧面设有导流槽5，支撑台面2的侧部设有与导流槽5相连通的集液箱6。集液箱6的底部设有出口7，出口7出连接有导流管8。出口7的上部设有滤网。

如图1和图2共同所示，第一通孔4位于导流槽5的上方，t型槽3内存留的废屑和冷却液通过第一通孔4流向导流槽5。工作台面1上侧面的中部设有与t型槽3平行的矩形槽9，t型槽3的底部也间隔设置多个第二通孔10，第二通孔10贯穿矩形槽9的底面和工作台面1的下侧面。

如图1和图2共同所示，导流槽5的延伸方向与t型槽3的延伸方向垂直。导流槽5倾斜向下设置，便于其内的废屑和冷却液流向集液箱6。每个t型槽3上等间距设有多个第一通孔4，每个第一通孔4的下方均对应这有导流槽5。

本发明一种便于清洁的钻床工作台，充分利用钻床工作时用的冷却液将加工中产生的废削及时通过导向槽排出，具有结构简单、便于清洁等优点。

上述的具体实施方式只是示例性的，是为了使本领域技术人员能够更好的理解本发明内容，不应理解为是对本发明保护范围的限制，只要是根据本发明技术方案所作的改进，均落入本发明的保护范围。

技术特征：

技术总结
本发明涉及一种便于清洁的钻床工作台，包括由上而下固定在一起的工作台面和支撑台面，工作台面上设有多个平行设置的T型槽，T型槽的底部设有多个间隔设置的第一通孔，第一通孔贯穿T型槽的底面和工作台面的下侧面；支撑台面的上侧面设有导流槽，支撑台面的侧部设有与导流槽相连通的集液箱；第一通孔位于导流槽的上方，T型槽内存留的废屑和冷却液通过第一通孔流向导流槽；导流槽的延伸方向与T型槽的延伸方向垂直；导流槽倾斜向下设置；集液箱的底部设有出口，出口出连接有导流管。本发明的一种便于清洁的钻床工作台，充分利用钻床工作时用的冷却液将加工中产生的废削及时通过导向槽排出，具有结构简单、便于清洁等优点。

技术研发人员：王润川
受保护的技术使用者：王润川
技术研发日：2018.12.11
技术公布日：2019.03.22