本发明涉及一种上料机构。
背景技术:
香水喷头包括泵体、瓶盖、活塞组件等多种部件,在生产香水喷头时需要上料机构将所有部件送至料台并进行组装,但是,现有的上料机构,通常一次只能输送一个部件,上料效率十分低下。
技术实现要素:
本发明的目的是克服现有技术的不足,提供一种上料效率高的上料机构。
为达到上述目的,本发明采用的技术方案是:
一种上料机构,用于将工件送至料台,所述上料机构包括机架、设于所述机架上的用于输送所述工件的输送通道、沿着垂直所述输送通道的延伸方向可滑动的设于所述机架上的承料模块、用于驱动所述承料模块滑动的驱动组件、沿其滑动方向依次开设于所述承料模块上的多个料槽、能够沿着竖直方向和水平方向运动的夹持组件,所述的若干料槽能够沿着所述承料模块的滑动方向依次经过所述输送通道的出料口并接收所述出料口输出的所述工件,所述夹持组件,用于夹住所述料槽内的所述工件并送至所述料台。
优选地,所述料槽底面与所述出料口底面位于同一水平面上。
优选地,每两个所述料槽的相邻槽壁之间设置有倾斜的传料带。
优选地,所述上料机构还包括设于所述承料模块一侧的用于抵住所述料槽内的所述工件的限位条。
进一步优选地,所述限位条位于所述输送通道一侧且沿着远离所述输送通道的方向延伸。
优选地,所述夹持组件包括支架、可升降的设于所述支架上的升降模块、沿着靠近或远离所述料台的方向可伸缩的设于所述升降模块上的推杆、设于所述推杆端部的夹持单元。
进一步优选地,所述夹持单元包括多个与所述料槽一一对应设置的夹具。
优选地,所述输送通道包括两根相互平行的导轨。
优选地,所述驱动组件为气缸。
优选地,所述上料机构还包括设于所述机架上的滑轨,所述承料模块底部开设有滑槽,所述滑轨能够配合的卡嵌于所述滑槽中。
由于上述技术方案的运用,本发明与现有技术相比具有下列优点:本发明的一种上料机构,通过设置可滑动的承料模块,在承料模块上设置多个料槽,使得夹持组件可以一次夹持多个工件并送至料台,极大的提高了上料效率;且该机构结构简单,操作方便。
附图说明
附图1为本发明的结构示意图;
附图2为本发明的驱动组件的结构示意图。
其中:1、机架;2、输送通道;2a、出料口;3、承料模块;4、驱动组件;5、料槽;6、夹持组件;6a、支架;6b、升降模块;6c、推杆;6d、夹持单元;6d1、夹具;7、料台;8、传料带;9、限位条;10、滑轨;
100、工件。
具体实施方式
下面结合附图来对本发明的技术方案作进一步的阐述。
参见图1-2所示,一种上料机构,用于将工件100送至料台,该上料机构包括机架1、设于机架1上的用于输送工件100的输送通道2、沿着垂直输送通道2的延伸方向可滑动的设于机架1上的承料模块3、用于驱动承料模块3滑动的驱动组件4、沿其滑动方向依次开设于承料模块3上的多个料槽5、能够沿着竖直方向和水平方向运动的夹持组件6,若干料槽5能够沿着承料模块3的滑动方向依次经过输送通道2的出料口2a并接收出料口2a输出的工件100,夹持组件6,用于夹住料槽5内的工件100并送至料台7。在这里,输送通道2包括两根相互平行的导轨。驱动组件4为气缸,气缸的活塞杆与所述承料模块3相连接。该上料机构还包括设于机架1上的滑轨10,承料模块3底部开设有滑槽(图中未示出),滑轨10能够配合的卡嵌于滑槽中。承料模块3通过滑槽和滑轨10的配合实现滑动。
在本实施例中,料槽5有四个,且在料台7上与所述料槽5相对应的设有四个承载单元。料槽5底面与出料口2a底面位于同一水平面上,且每两个料槽5的相邻槽壁之间设置有倾斜的传料带8。通过设置倾斜的传料带8,使得工件100在进入承料模块3中且前一个料槽5中已有工件100时,能够更方便的滑入下一个料槽5。
该上料机构还包括设于承料模块3一侧的用于抵住料槽5内的工件100的限位条9,限位条9位于输送通道2一侧且沿着远离输送通道2的方向延伸。通过限位条9的设置,避免了工件100在承料模块3的滑动过程中掉落。
在本实施例中,夹持组件6包括支架6a、可升降的设于支架6a上的升降模块6b、沿着靠近或远离料台7的方向可伸缩的设于升降模块6b上的推杆6c、设于推杆6c端部的夹持单元6d,夹持单元6d包括多个与料槽5一一对应设置的夹具6d1。在这里,支架6a上还设置有导向杆(图中未示出),升降模块6b通过导向杆滑动的设于支架6a上,升降模块6b的升降以及推杆6c的伸缩均通过通入压缩空气实现,夹具6d1为气动抓手,通过压缩空气的通断实现抓手的抓取。
以下具体阐述下本实施例的工作过程:工作开始时,输送通道2将工件100输送至承料模块3处,工件100随着承料模块3的滑动依次进入料槽5中,并随着承料模块3移动至夹持组件6下方,夹持组件6一次抓起所有料槽5内的工件100并送至料台7,完成上料。
上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并加以实施,并不能以此限制本发明的保护范围,凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本发明的保护范围内。