率，例如，如图3所示，本发明的激光打标装置10还包括冷却发生装置700，所述冷却发生装置700通过所述冷却阀门350与所述冷却通道300连通，例如，所述冷却发生装置700通过所述第一阀门351与所述第一通道310连通，并通过所述第二阀门352所述第二通道320连通，所述冷却发生装置700用于冷却所述冷却通道300内的冷却介质，例如，所述冷却发生装置700为制冷装置，例如，所述制冷装置包括依次连接的冷凝器、节流阀、蒸发器和压缩机，所冷却通道300内的冷却介质通过所述蒸发器，冷却介质的热量被所述蒸发器大量吸收，使得所述冷却介质温度下降，所述冷却发生装置700使所述冷却介质冷却后，冷却介质经所述第一阀门351进入所述第一通道310，所述冷却介质在所述第一通道310与所述第二通道320内流通，吸收所述激光发射主体100的热量，随后，经所述第二阀门352再次进入所述冷却发生装置700，使得所述冷却介质的温度降低，以此实现冷却介质的循环流通和热量交换，进一步提高了冷却效率。
[0046]为了进一步提高所述冷却通道300的冷却效率，如图1、图3、图5和图6所示，本发明的激光打标装置10还包括冷却环道330，所述冷却环道330与所述冷却通道300连通，且所述冷却环道330环设于所述发射腔110，例如，所述第一通道310、所述冷却环道330与所述第二通道320依次连通，这样，经所述冷却发生装置700冷却后的冷却介质通过所述第一通道310，进入所述冷却环道330后，在冷却环道330与所述激光发射主体100充分接触，所述冷却介质增加了与所述激光发射主体100的接触面积，充分与所述激光发射主体100进行热交换，提高冷却效率；例如，所述冷却环道330与所述发射腔110同轴设置，且所述冷却环道330直径大于所述发射腔110，这样使得所述冷却环道330可以充分包覆在所述发射腔110外侧，使得所述发射腔110的热量可以均匀地传递到所述冷却环道330。
[0047]为了进一步提高所述冷却通道300的冷却效率，例如，如图5所示，所述冷却通道300设置有多个U形通道340，所述U形通道340的两端与所述冷却通道300连通，例如，所述第一通道310、所述冷却环道330与所述第二通道320分别设置有多个U形通道340，所述第一通道310、所述冷却环道330与所述第二通道320的冷却介质分别可以经所述U形通道340的一端流入所述U形通道340，并经所述U形通道340的另一端再次分别流入所述第一通道310、所述冷却环道330与所述第二通道320，这样可以延长冷却介质的活动行程，增加冷却介质与所述激光发射主体100的接触面积，从而进一步提高所述冷却通道300的冷却效率。
[0048]应该理解的是，所述U形通道340的直径不宜过大，所述U形通道340的直径过大则使得所述激光发射主体100内部空心部分比例增大，使得所述激光发射主体100的结构变得不稳定，而所述U形通道340的直径的过小则不利于冷却介质在U形通道340的流通，容易造成堵塞，降低冷却效率，所述U形通道340的直径与所述冷却通道300的直径之比为1:8，这样，所述U形通道340的直径可以避免对所述激光发射主体100的机构造成影响，另一方面，可以使得所述冷却介质可以顺畅地在所述U形通道340内流通，提高了冷却效率。
[0049]值得一提的是，由于冷却介质经所述冷却发生装置700冷却后，温度可以大幅度降低，但温度过低的冷却介质将对所述激光发射器120的工作效率造成影响，因此需要控制所述冷却发生装置700的工作功率，以调节冷却介质的冷却温度，但频繁调节所述冷却发生装置700的工作功率，有可能造成所述冷却发生装置700的使用寿命下降或工作效率降低，为了避免对所述冷却发生装置700的使用寿命造成影响，例如，本发明还包括气缸(图未示)，所述冷却阀门350与气缸连接，通过所述气缸控制所述冷却阀门350的开启和关闭，以实现冷却介质在所述冷却通道300的流通速度的控制，从而减小调整所述冷却发生装置700的频率，延长所述冷却发生装置700的使用寿命，另一方面，通过控制冷却介质在所述冷却通道300的流通速度，从而实现了对所述冷却通道300内冷却介质的温度的控制，避免了温度过低导致所述激光发射器120的工作效率的下降；又如，本发明还包括电磁阀(图未示)，所述冷却阀门350与所述电磁阀连接，例如，当所述激光发射主体100的温度低于预设阈值时，所述电磁阀工作，使得所述冷却阀门350闭合，使得冷却介质停止流通，避免所述冷却通道300内的冷却介质温度过低，对所述激光发射器120造成影响，当所述激光发射主体100的温度高于预设阈值时，所述电磁阀驱动所述冷却阀门350开启，使得冷却介质流通，以此降低所述冷却通道300内的冷却介质的温度，使得所述激光发射主体100的热量可以快速散发。
[0050]为了使得所述激光发射器120更为稳固，从而使得打标精度更高，如图1、图3和图5所示，本发明的激光打标装置10还包括支撑座116，所述支撑座116固定设置于所述发射腔110内，且与所述激光发射器120固定连接，例如，所述支撑座116的第一端固定连接于所述发射腔110的一端，所述支撑座116的第二端与所述激光发射器120固定连接，通过所述支撑座116的固定，使得所述激光发射器120更为稳固，避免在所述激光发射主体100在运动时，从而有效避免所述激光发射器120产生晃动而导致激光偏移。
[0051]例如，如图1所示，所述支撑座116的第二端设置有U形部116a，所述激光发射器120固定于所述U形部116a内；又如，如图3所示，所述支撑座116的第二端设置有V形部116b，所述激光发射器120固定于所述V形部116b内；又如，如图5至图7所示，所述支撑座116的第二端设置有凹部116c，所述激光发射器120固定于所述凹部116c内，通过所述支撑座116的第二端的U形部116a或V形部116b或凹部116c固定所述激光发射器120的底部和两侧，使得所述激光发射器120更为稳固，有效避免所述激光发射器120在所述激光发射主体100在运动时产生晃动而导致激光偏移，以此提高打标精度。
[0052]以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
[0053]以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
【主权项】
1.一种激光打标装置，其特征在于，包括: 激光发射主体，所述激光发射主体内开设一发射腔，所述发射腔具有一开口 ； 激光发射器，设置于所述发射腔内远离所述开口的一端，且所述激光发射器朝向所述开口 ； 散热件，与所述激光发射主体连接； 冷却通道，所述冷却通道贯穿于所述激光发射主体内部，且所述冷却通道设置有冷却阀门； 所述激光发射主体还设置有辅助光源，所述辅助光源发射的光线与所述激光发射器发射的光线平行。2.根据权利要求1所述的激光打标装置，其特征在于，所述辅助光源设置于所述开口一侧。3.根据权利要求1所述的激光打标装置，其特征在于，所述辅助光源为圆形。4.根据权利要求1所述的激光打标装置，其特征在于，所述辅助光源为环形。5.根据权利要求4所述的激光打标装置，其特征在于，所述辅助光源绕所述开口设置。6.根据权利要求1所述的激光打标装置，其特征在于，所述辅助光源为红外光源。7.根据权利要求1所述的激光打标装置，其特征在于，所述辅助光源包括LED灯。
【专利摘要】本发明涉及一种激光打标装置，包括：激光发射主体，所述激光发射主体内开设一发射腔，所述发射腔具有一开口；激光发射器，设置于所述发射腔内远离所述开口的一端，且所述激光发射器朝向所述开口；散热件，与所述激光发射主体连接；冷却通道，所述冷却通道贯穿于所述激光发射主体内部，且所述冷却通道设置有冷却阀门；所述激光发射主体还设置有辅助光源，所述辅助光源发射的光线与所述激光发射器发射的光线平行。通过冷却通道和散热件同时对激光发射主体进行散热，有效地疏导了激光发射器产生的热量，有效延长了激光打标装置的使用寿命。
【IPC分类】B23K26/362, B23K26/70
【公开号】CN105215555
【申请号】CN201510708644
【发明人】刘健, 黄治家, 成学平
【申请人】惠州市杰普特电子技术有限公司
【公开日】2016年1月6日
【申请日】2015年10月26日