金属材料;冶金;铸造;磨削;抛光设备的制造及处理,应用技术
  • 一种快速去锈的碱性除锈剂及其制备方法与流程
    本发明涉及化工,具体为一种快速去锈的碱性除锈剂及其制备方法。除锈剂也称为松锈剂,主要作用是松解生锈紧固件,润滑不能拆卸的紧固件,便于拆卸生锈的紧固件。它能在裸露的金属表面形成持久的防腐蚀保护,防止新的锈蚀形成。除锈剂也是理想的润滑冷却液,适用于不锈钢、铝板表面攻螺纹。还能有效清洁干...
  • 一种酸洗除渣剂及其制备方法和应用与流程
    本发明属于金属设备清洗领域,具体涉及一种无磷无氮、无难降解有机物的酸洗除渣剂及其制备方法和应用。磷化工艺过程是一种化学与电化学反应形成磷酸盐化学转化膜的过程,其通过在金属基体表面生成磷化膜,而给金属基体提供保护,大幅度提高了金属的耐腐蚀性能。磷化工艺是汽车生产过程中的重要工序,其可以防止汽...
  • 基材表面氧化物处理装置的制作方法
    本发明涉及基材表面处理设备,具体而言,涉及一种基材表面氧化物处理装置。现有技术中,基材表面氧化物处理装置的结构不合理,无法确保基材表面氧化物处理装置的氧化物处理组能够有效地松动基材表面的氧化皮,从而降低了基材表面氧化物处理装置的表面氧化皮处理可靠性。发明内容本发明的主要目的在于提供...
  • 板型基材表面氧化物处理装置的制作方法
    本发明涉及板型基材表面处理设备,具体而言,涉及一种板型基材表面氧化物处理装置。现有技术中,通常以化学方式来去除板状板型基材表面的氧化皮,例如,采用强酸作为清洗液,通过清洗液与板型基材表面的氧化皮的化学反应以达到去除氧化皮的目的,但是,上述的酸洗方式中的酸洗液容易造成环境污染,且酸洗...
  • 一种加氢装置水溶性缓蚀剂及其制备方法和用途与流程
    本发明涉及加氢装置防腐蚀,具体是一种加氢装置水溶性缓蚀剂及其制备方法和用途。在油气开采过程中,油气开采的加氢装置的进料中n、s、cl等杂质元素在加氢的作用下发生反应形成h2s、nh3和hcl等腐蚀介质,部分腐蚀介质随油气被携带到分馏塔顶在初凝区凝结水液量小、酸浓度高时,对设备造成严...
  • 一种高硅钢金相腐蚀液及其应用的制作方法
    本发明属于金属材料检验,具体涉及一种高硅钢金相腐蚀液及其应用。硅含量在4.5~6.7wt%范围内的fe-si合金一般统称为高硅钢,低损耗的高硅电工钢在降低能源损耗及减少噪音污染等方面具有显著优势,是实现电磁设备高效、节能、轻量化的理想软磁材料。因此有必要进行高硅钢产品的研发工作。高...
  • 一种用于搪瓷制品加工的封边涂搪装置的制作方法
    本发明涉及搪瓷加工,具体为一种用于搪瓷制品加工的封边涂搪装置。搪瓷锅是指在金属坯体表面涂搪瓷釉制成的,具有金属机械强度和瓷釉物化特征,搪瓷锅白色搪瓷所用的釉料溶剂是氧化硅、氧化铝、氧化锰、氧化钾和氧化钠,无铅,由于搪瓷锅的化学性质稳定,可存放轻度酸碱性食物,受到人们的喜爱,在搪瓷锅...
  • 一种基于加工硬化塑性沉积的钴基抗汽蚀涂层的制备方法与流程
    本发明属于材料表面改性领域,具体涉及一种基于加工硬化塑性沉积的钴基抗汽蚀涂层的制备方法。作为将气流动能转换为有用功的核心部件,汽轮机叶片在整个汽轮机系统中占据十分重要的作用。但在汽轮机的长期服役过程中,汽轮机叶片尤其是低压末级叶片长期处在潮湿的蒸汽环境,在液体流动时,由于压力骤降,液体出现...
  • 本发明涉及金属拉拔镀膜,尤其是一种无磷无硼镀膜剂及其制备方法。在金属拉拔制品行业中,将金属线材前处理,并在金属线材表面形成涂层,再送入拉拔机进行拉拔成型的工艺,已经被沿用了几十年。在涂层形成过程中,大多是磷化处理工艺和硼化处理工艺。硼化处理工艺是采用硼砂为原料,硼砂具有毒性,经过涂...
  • 本发明涉及隔爆柜,具体涉及隔爆柜磷化防锈处理方法。为了防止隔爆柜因柜体上的隔爆接合面生锈而丧失隔爆防爆功能,现有的隔爆柜柜体上的隔爆接合面都需要进行防锈处理,但是现有的表面磷化防锈处理方法无法使隔爆柜的隔爆接合面长时间防锈,使得现有的隔爆柜的使用寿命和安全性能都不高。发明内容本发明所要解决...
  • 一种具有表面磁性镀层金刚石及其镀覆方法与流程
    本发明属于金刚石表面处理,具体涉及一种具有表面磁性镀层金刚石及其镀覆方法。在公开号是cn106894075b,专利号是201710176265.0的文献中,公开了一种一种金刚石表面磁性镀层及其镀覆方法,其金刚石表面磁性镀层的镀覆方法包括如下步骤:步骤一、采用化学镀镍的方式,将纳米稀...
  • 一种柔性类氧化硅薄膜生长装置的制作方法
    本发明涉及一种薄膜生长装置,特别涉及一种柔性类氧化硅薄膜生长装置。随着柔性电子产品的迅速发展,柔性薄膜封装材料变得异常重要。柔性电子产品要求柔性封装薄膜既要致密防止氧气、水和其他物质的进入,又要有机械柔性。通常用于低温生长致密封装材料如三氧化二铝的设备是原子层沉积设备(ald)。虽然ald...
  • 成膜方法和成膜装置与流程
    本公开涉及一种成膜方法和成膜装置。已知一种向表面形成有细微凹部的基板供给硅烷系气体和硅系含氯化合物气体来形成硅膜的技术(例如参照专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2017-152426号公报发明内容发明要解决的问题本公开提供一种能够改善膜厚度的面内均匀性的技术。用于解决...
  • 一种可减少镀膜后产生色道缺陷的真空镀膜机的制作方法
    本发明涉及一种可减少镀膜后产生色道缺陷的真空镀膜机。真空镀膜是一种在真空中制备膜层产生薄膜材料的技术,有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。其中溅射镀膜是真空镀膜中最主要的方法,该技术是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子沉积在基片上。在磁控溅射镀膜工艺中,对磁控溅射镀膜设...
  • 一种脉冲激光制备纳米尺度多孔结构生物涂层的方法与流程
    本发明为一种脉冲激光制备纳米尺度多孔结构生物涂层的方法,属于生物材料结构领域。目前,羟基磷灰石(hydroxyapatite,ha)涂层的制备方法有:等离子体喷涂、电泳沉积法、脉冲激光沉积(pld)等。制备生物陶瓷涂层材料的一个关键问题是涂层与基材结合的牢固性。商用ha涂层主要采用等离子体...
  • 蒸发器衬底装载相关方法与流程
    相关专利申请的交叉引用本申请要求授予seddon等人的名称为“蒸发器衬底装载系统及相关方法(evaporatorsubstrateloadingsystemsandrelatedmethods)”的美国临时专利申请62/830,803的提交日期的权益,该申请提交于2019年4月8日,该申请的公开内...
  • 一种物理气相淀积设备防止粘片的屏蔽环装置的制作方法
    本发明涉及半导体集成电路制造以及微机电系统(mems)制造中的5500系列物理气相淀积工艺领域,具体是一种物理气相淀积设备防止粘片的屏蔽环装置。在半导体集成电路和微机电系统(mems)制造的工艺过程中,物理气相淀积是一种淀积金属层工艺方式,被广泛应用。随着集成电路及微机电系统(mems)制...
  • TCO薄膜的生产方法及磁控溅射镀膜机与流程
    本发明涉及薄膜生产,特别是涉及一种tco薄膜的生产方法及磁控溅射镀膜机。在太阳能电池中,通常在掺杂层上设置tco(transparentconductiveoxide,透明导电氧化物)薄膜,用于降低电池串联电阻、增强载流子的横向传输能力。因此,tco薄膜通常需要较高的电导率。目前,...
  • 高温炉的制作方法
    本发明涉及加热设备,特别涉及一种高温炉。高温炉,又称渗碳炉,作为一种加热设备主要用于各工矿企业、科研单位化验室、实验室加温、热处理,是各类化验室中不可缺少的仪器设备。现有的高温炉,在加工过程中,需要往高温炉内注入气体,以和炉内的原料反应生成最终产品,并且在炉内设置有感应器,以感应炉...
  • 一种外热式立式真空渗碳淬火炉的制作方法
    本发明涉及热处理行业的真空渗碳,特别涉及一种外热式立式真空渗碳淬火炉。我国的渗碳炉有普通渗碳和真空渗碳,普通的渗碳炉一般设计为井式结构,外加热式,内部设有马夫罐内胆,顶部充气或滴煤油、酒精等,渗碳完毕后将上盖打开,通过外部行吊将工件吊入淬火液中。其主要缺点是在渗碳过程中表面出现氧化...
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