专利名称：溅射式镀膜机用靶材结构的制作方法
技术领域：
本实用新型属于光学镀膜技术领域，是一种适用于光学玻璃镀膜用的溅射式镀膜机用靶材结构。
背景技术：
在公知的技术中，用于真空蒸发式镀膜机上的镀膜靶材，一般为粒状或片状，是盛在具有电极的坩埚或舟型的容器中高温熔融蒸发而镀膜的。由于该机是把材料高温熔融蒸发在一个较大的腔体中，依靠盛放零件的锅旋转而沉积上的镀膜，因此，存在靶材使用更换频繁、清理麻烦、镀制膜层不宜控制等缺陷。而溅射式镀膜机是由电子束通过电场或磁场激发材料进行镀膜，其镀膜方式与真空蒸发式镀膜不同，使用的是特殊进口靶材，但进口靶材价格昂贵，使用起来成本高。
实用新型内容本实用新型的目的是提供一种将电极和镀膜材料组合为一体的溅射式镀膜机用靶材结构。
实现本实用新型的目的所采取的技术方案是该靶材是由镀膜材料层和电极背板组合构成，镀膜材料层和电极背板之间采用粘合连接。
镀膜材料层为条板状的成型镀膜块，电极背板为板块状。
电极背板的周边上设置排列有安装孔。
按照上述方案制成的溅射式镀膜机用靶材结构，是将镀膜材料和电极合为一体而构成的块状板式靶材。由于溅射式镀膜机是由电子束激发镀膜材料，发射出离子到零件上，是在电场或磁场的控制下完成镀膜。因此，使用该靶材，具有更换方便、镀制膜层均匀、效率高等优点，并可用于加工高精度产品。
图1是本实用新型的结构示意图；图2是图1的仰视图。
具体实施方式
参看图1、图2，本实用新型的溅射式镀膜机用靶材结构，是由电极背板2和镀膜材料层1组合构成。其中，镀膜材料层1采用条板状的成型镀膜块，电极背板2为板块式，并与镀膜块粘合连接，构成一种组合体的块状板式靶材结构。在电极背板2的周边上设置排列有安装孔2-1，通过该安装孔，可将靶材安装在电子束发射源的座体上。该靶材只适用于溅射式镀膜机上使用。
权利要求1.一种溅射式镀膜机用靶材结构，其特征在于是由镀膜材料层[1]和电极背板[2]组合构成，镀膜材料层[1]和电极背板[2]之间采用粘合连接。
2.根据权利要求1所述的溅射式镀膜机用靶材结构，其特征在于镀膜材料层[1]为条板状的成型镀膜块，电极背板[2]为板块状。
3.根据权利要求1所述的溅射式镀膜机用靶材结构，其特征在于电极背板[2]的周边上设置排列有安装孔[2-1]。
专利摘要本实用新型属于光学镀膜技术领域，是一种溅射式镀膜机用靶材结构。其主要特点是靶材是由镀膜材料层和电极背板组合构成，其中，镀膜材料层采用条板状的成型镀膜块，电极背板为板块式，并与镀膜块粘合连接，构成一种组合体的块状板式靶材结构。使用该靶材，具有更换方便、镀制膜层均匀、效率高等优点，并可用于加工高精度产品。
文档编号C23C14/34GK2732756SQ20042001104
公开日2005年10月12日 申请日期2004年6月15日 优先权日2004年6月15日
发明者张向东 申请人:河南中光学集团有限公司