专利名称：显像管玻壳石墨涂层喷砂清理工艺的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种处理废旧显像管玻壳石墨涂层的工艺，将玻壳清理干净便于回用。
背景技术：
目前，已有的石墨涂层清理工艺主要是使用玻壳碎玻璃进行自磨，然后用水清洗去掉石墨涂层。此种工艺用水量大，并且会有污水产生，经自磨后的碎玻璃粒度较细不利于回用，而且会造成清理不彻底等问题。
发明内容
为了克服上述的几种缺点，本发明采用喷砂工艺来清理玻壳表面的石墨涂层，能够改进上述工艺中的石墨残留、粒度过细、产生污水等问题。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是将玻壳放置喷砂箱中，经高压空气吹动的细砂经过喷枪喷射到玻壳表面的石墨涂层上，砂粒与玻壳表面碰撞，由于砂粒的硬度大于石墨涂层的硬度，因此可以将玻壳表面的石墨涂层去掉。控制喷射的气流速度和砂粒的粒径范围，使得石墨涂层完全剥离，并且不要过多的磨损玻壳的表面。这样可以避免水洗以及自磨带来的问题。
本发明的有益效果是，可以快速彻底清除玻壳表面的石墨涂层，并且细砂可以重新回用，操作方便简单。
下面结合附图和实例对本发明进一步说明。
图1是本发明的结构示意图。
图中1.透明玻璃外罩 2.底板 3.喷枪 4.投射灯 5.排气风扇，外接收尘装置 6.接压缩空气 7.气压表 8.砂斗 9.活门 10.橡胶手套 11.操作口。
图1中的各个部分组成了喷砂装置，在实际实施过程中，首先是接通压缩空气，开启排气收尘装置和投射灯，然后待加工的玻壳通过活门(9)，放入喷砂箱中，操作工将手伸入操作口(11)，戴好橡胶手套(10)，手持喷枪(3)，对样品表面进行喷砂处理，喷砂完成后，从活门取出玻壳，关闭压缩空气、排气装置和投射灯。定期清理底板上沉积的磨砂。
权利要求
1.一种用于清理玻壳表面石墨涂层的工艺，通过喷砂操作来完成。其特征是通过压缩空气驱动的磨砂，喷射到石墨涂层的表面，磨蚀玻壳表面的石墨涂层，达到清理石墨涂层的目的，并且防止玻璃的磨损。
2.根据权利要求1所描述的工艺，其特征是磨砂的粒度范围在0.125mm～0.42mm之间，莫氏硬度在3～6之间。
3.根据权利要求1所描述的工艺，其特征是压缩空气的压强范围是0.2MPa～0.6MPa。
4.根据权利要求1所描述的工艺，其特征是磨砂的喷出速度在10～20m/s，喷嘴离待加工品的距离要求在100mm～300mm。
全文摘要
一种能够清理玻壳表面石墨涂层的工艺。它采用喷砂的方式磨蚀表面的石墨涂层，即通过压缩空气驱动的一定粒度范围并且具有一定硬度的磨砂，不断冲击石墨涂层的表面，从而达到清理石墨涂层的目的。该工艺能够彻底去除表面涂层。磨砂可以循环利用。
文档编号B24C1/04GK1919536SQ20051002917
公开日2007年2月28日 申请日期2005年8月26日 优先权日2005年8月26日
发明者郑金标 申请人:郑金标, 庞京涛, 王德强