专利名称：化学气相成膜装置及其下拉机构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种制造装置及其机构，且特别涉及一种化学气相成膜装置及其下拉机构。
背景技术：
化学气相沉积法，是以化学反应的方式，将反应物(通常是气体)生成固态产物，并沉积在晶片表面或玻璃基板表面的一种薄膜沉积技术。几乎所有的半导体或液晶显示面板的制造过程，都会使用到化学气相沉积法以及相关的化学气相成膜装置，相关设备与技术之应用非常广泛。
图1为一种公知的化学气相成膜装置之示意图。请参照图1，化学气相成膜装置100至少包括一个气相成膜室110与下拉机构120，其中气相成膜室110为中空腔室，此中空腔室用以提供机械手10运送基板20与进行化学成膜制造之空间，而下拉机构120用以支承基板20与辅助机械手10运送基板20进出气相成膜室110(将详述于后)。
请参考图2A～2E，其依次为公知基板进行化学成膜工艺流程图，其中为使图示与说明较为清楚，图2A～2E未表示出完整之下拉机构。
首先，如图2A所示，机械手10准备将基板20送入气相成膜室110内，而下拉机构120位于气相成膜室110外。此外，下拉机构120包括基座122、多条拉力线124与多个支承单元126，其中支承单元126具有顶销126a与下拉件126b。
接着，如图2B所示，在基板20被机械手10送入气相成膜室110后，基座122会被驱动而上升，而带动下拉机构120上的顶销126a上升，以承接住由机械手10送入气相成膜室110之基板20。
然后，如图2C所示，机械手10退出气相成膜室110，顶销126a于正常情形下，会被下拉机构120上的拉力线124带动而降下，使得基板20就定位，准备开始进行化学气相成膜工艺。
请参考图2D，在化学气相成膜工艺完成后，再次使基座122上升，以带动顶销126a顶起位于气相成膜室110内的基板20，接着，机械手10进入气相成膜室110内，承接住基板20并准备将基板20运出气相成膜室110。
最后，请参考图2E，下拉机构120将被驱动而下降，并且使下拉机构120上的顶销126a退出气相成膜室110，接着，机械手10再将基板20送出气相成膜室110，至此便完成了整个制造工艺。
值得注意的是，请参考图3，其为公知化学气相成膜装置之下拉机构的局部示意图。其中，顶销126a之材质为陶瓷材料，其材质硬且脆，而其底部之设计为平面直角，而下拉件126b通过档止件126c如C型扣环与顶销126a互相嵌合。由于顶销126a为配合工艺需要必须经常地升起与下降，因此顶销126a之底部便时常会和图2A至图2E中的基座122表面产生碰撞。
然而，当顶销126a与基座122表面产生碰撞时，顶销126a底面并非与基座122表面为百分之百平行接触，只要顶销126a之底面有细微的倾斜，顶销126a底面之直角便会与基座122表面碰撞，并产生应力集中的现象。由于顶销126a为易脆的陶瓷材料，因此其底面的直角部分容易因应力集中而崩裂。如此一来，除了顶销126a崩裂产生的碎片会影响工艺洁净度外，还会使得C型扣环由顶销126a下端松脱掉落，使得下拉件126b无法带动顶销126a下降。此结果将导致基板20进入气相成膜室110时，会与仍留在气相成膜室110内之顶销126a碰撞而导致破片，使得整个生产流程停顿，严重影响产量与合格率。
发明内容
有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种化学气相成膜装置之下拉机构，其具有减缓应力集中现象之结构设计，因而具有较高的可靠性。
本实用新型的再一目的是提供一种化学气相成膜装置，以降低化学气相成膜工艺中，基板破裂的机率，进而提升产量与合格率。
为实现上述目的，本实用新型提供一种下拉机构，其适用于化学气相成膜装置。此下拉机构主要包括基座、多条拉力线与多个支承单元，其中各条拉力线之间实质上相互平行且设置于基座上，且每一拉力线之两端分别固定于基座之相对两侧。此外，每一支承单元包括顶销与下拉件，其中顶销位于各条拉力线之间，而顶销具有用以支承基板之支承端以及用以与基座接触之底端，且此底端之端面为圆弧面。另外，下拉件套置于顶销上，并位于拉力线与基座之间，以通过拉力线之下拉而带动顶销下降。
在本实用新型之一较佳实施例之下拉机构中，每一支承单元还包括例如档止件，其设置于顶销上，并位于底端与下拉件之间。
在本实用新型之一较佳实施例之下拉机构中，档止件包括例如C型扣环。
在本实用新型之一较佳实施例之下拉机构中，顶销之材质包括例如陶瓷材料。
在本实用新型之一较佳实施例之下拉机构中，还包括多个拉力线固定单元，而每固定单元包括定位杆与定位板。而定位杆位于各条拉力线之间，且定位杆之一端插置于基座上，此外，定位板设置于定位杆之另一端，且拉力线位于定位板与基座之间。
在本实用新型之一较佳实施例之下拉机构中，每一拉力线固定单元，还包括例如调整螺丝，其锁附于定位杆插置于基座之一端，用以调整定位板与基座之距离。
在本实用新型之一较佳实施例之下拉机构中，基座上具有例如多个定位槽，而每一拉力线固定单元之定位杆对应插置于定位槽中之一个内。
在本实用新型之一较佳实施例之下拉机构中，其还包含至少一个拉力调整单元，其设置于基座之一端，并连接这些拉力线，用以调整这些拉力线之松紧。
在本实用新型之一较佳实施例之下拉机构中，拉力调整单元包括例如弹簧。
在本实用新型之一较佳实施例之下拉机构中，这些拉力线包括例如钢线。
本实用新型还提供一种化学气相成膜装置，其适于对基板进行成膜工艺，此化学气相成膜装置包括气相成膜室与前述之下拉机构。
由于本实用新型之化学气相成膜装置及其下拉机构采用圆弧端面之顶销，因此可有效减缓应力集中的现象，进而延长顶销的使用寿命，并提升化学气相成膜装置之产量与制造工艺的合格率。
为让本实用新型之上述和其它目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合附图，作详细说明如下。
图1为一种公知的化学气相成膜装置之示意图。
图2A～2E依次为机械手运送基板之流程图。
图3为公知化学气相成膜装置之下拉机构的局部示意图。
图4为本实用新型之一种化学气相成膜装置之示意图。
图5为本实用新型之下拉机构之示意图。
图6为图5之支承单元的示意图。
图7为图6之支承单元中，其顶销的示意图。
主要元件符号说明10机械手20基板100、200化学气相成膜装置110、210气相成膜室
120、220下拉机构122、222基座124、224拉力线126、226支承单元126a、226a顶销126b、226b下拉件126c、226c档止件228拉力线固定单元228a定位杆228b定位板228c调整螺丝230定位槽232拉力调整单元250圆弧面具体实施方式
图4为本实用新型之一种化学气相成膜装置之示意图，而图5为本实用新型之下拉机构示意图，请同时参照图4与图5。化学气相成膜装置200包括至少一个气相成膜室210与下拉机构220，其中气相成膜室210为中空腔室，以提供机械手10运送基板20与进行化学成膜工艺之空间，而下拉机构220用以支承基板20与辅助机械手10运送基板20进出气相成膜室210。
在本实施例中，下拉机构220包括基座222、多条拉力线224与多个支承单元226。其中，此拉力线224例如为钢线，且实质上互相平行设置于基座222上，而拉力线224之两端例如分别固定于基座222之相对两侧，以通过拉力线224之下拉进一步带动支承单元226(将详述于后)。当然所属技术领域的技术人员，亦例如可仅用一条钢线先缠绕于拉力调整单元232(将详述于后)上，再将此条钢线绕过基座之另一端，最后再返回缠绕于拉力调整单元232上，进而达到带动支承单元226之目的，因此本实用新型并不限定拉力线224之数目或其固定于基座222之位置与方式。
请参考图6与图7，其中图6为图5之支承单元的示意图，而图7为图6之支承单元中，其顶销的示意图。如图6与图7所示，支承单元226具有顶销226a与下拉件226b，其中顶销226a之材质例如是陶瓷材料，并位于各条拉力线224之间，而下拉件226b套置于顶销226a上，并且位于拉力线224与基座222之间。此外，其中顶销226a具有支承基板20之支承端和与基座222接触之底端，且顶销226a之底端是圆弧面250。
有鉴于在化学气相成膜工艺中，顶销226a之底端与基板20之表面常有频繁的碰撞，因此本实用新型将顶销226a之底端设计成例如是一个圆弧面，以减缓频繁碰撞所产生之应力集中的现象。当然本实用新型之顶销226a底端的设计并不限定是圆弧面，其亦可为具有导角或其它可降低应力集中之结构。
此外，支承单元226还包括档止件226c，其设置于顶销226a之底端与下拉件226b之间。此档止件226c例如利用卡合、嵌合、扣接、锁固或其它方式设置于顶销226a上，用以避免下拉件226b自顶销226a脱落。在一实施例中，此档止件226c是C型扣环或其它可达成相同目的之构件。
值得一提的是，顶销226a之底端若是崩裂，除了产生的碎片会影响制造工艺外，而下拉件226b也会失去带动顶销226a之功用。最常发生的就是，基板20被送进气相成膜室110时，碰撞到尚未退出之顶销226a而导致破片。因此，本实用新型之设计便可加强顶销226a之可靠性，并维持顶销226a之正常的运作，使得整个生产工艺流程更为畅顺，进而提升产量与合格率。
请继续参考图5，在正常情况下，通过拉力线224之下拉可驱动下拉件226b进而带动顶销226a下降，若是拉力线224过于松垮或是因外力而移位，即使顶销226a未损坏同样无法带动顶销226a下降。因此，在下拉机构220上还可设置多个拉力线固定单元228与拉力调整单元232用以调整拉力线224之松紧强度。
具体而言，拉力线固定单元228包括定位杆228a与定位板228b，其中定位杆228a之一端例如是插置对应之定位槽230内，而定位板228b设置于定位杆228a之另一端，且拉力线224位于定位板228b与基座222之间。定位板228b之作用在于提供下压力于拉力线224，使得拉力线224较为紧绷并具有适当的张力。因此，在拉力线224于下拉的过程中，就不至于因基座222之两端距离过长而导致拉力线224过于松垮。
在本实施例中，当拉力线224过于松垮时，亦可通过调整螺丝228c来调整定位板228b与基座222之距离，此调整螺丝228c锁附于定位杆228a插置基座之一端。当定位板228b与基座222之距离愈近时，便可通过定位板228b将拉力线224压得愈紧。当然所属技术领域的技术人员亦可通过其它方式，例如提供具有螺纹之定位杆228a以代替调整螺丝228c，而将此具有螺纹之定位杆228a锁附于基座222上。
另外，拉力调整单元232设置于基座222之一端，并与拉力线224连接，此拉力调整单元232例如是弹簧或其它可调整拉力线224松紧之元件。
综上所述，本实用新型之化学气相成膜装置至少有下列特征与优点一、顶销之底端端面设计为圆弧形或其它可降低应力集中之结构，因此可有效减缓顶销底端与基板碰撞时的应力集中现象，进而延长顶销的使用寿命。
二、由于顶销具有较高之可靠性，因此可减少更换顶销的次数或因顶销失效而导致破片的机率，进而提升产量与制造工艺合格率。
虽然本实用新型已以较佳实施例公开如上，然其并非用以限定本实用新型，任何所属技术领域的技术人员，在不脱离本实用新型之精神和范围内，当可作些许之更动与改进，因此本实用新型之保护范围当以权利要求所界定之范围为准。
权利要求1.一种下拉机构，适用于化学气相成膜装置，其特征在于该下拉机构包括基座；多条拉力线，实质上相互平行而设置于该基座上，其中各该拉力线之两端分别固定于该基座之相对两侧；多个支承单元，各该支承单元包括顶销，位于上述这些拉力线之间，且该顶销具有用以支承基板之支承端以及用以与该基座接触之底端，其中该底端之端面圆弧面；以及下拉件，套置于该顶销上，并位于上述这些拉力线与该基座之间，以通过该拉力线之下拉而带动该顶销下降。
2.根据权利要求1所述之下拉机构，其特征在于各该支承单元还包括档止件，其设置于该顶销上，并位于该底端与该下拉件之间。
3.根据权利要求2所述之下拉机构，其特征在于该档止件包括C型扣环。
4.根据权利要求1所述之下拉机构，其特征在于该顶销之材质包括陶瓷材料。
5.根据权利要求1所述之下拉机构，其特征在于还包括多个拉力线固定单元，各该固定单元包括定位杆，位于上述这些拉力线之间，且该定位杆之一端插置于该基座上；以及定位板，设置于该定位杆之另一端，且上述这些拉力线位于该定位板与该基座之间。
6.根据权利要求5所述之下拉机构，其特征在于各该拉力线固定单元还包括调整螺丝，其锁附于该定位杆插置于该基座之一端，用以调整该定位板与该基座之距离。
7.根据权利要求1所述之下拉机构，其特征在于该基座上具有多个定位槽，而各该拉力线固定单元之该定位杆对应插置于上述定位槽其中之一内。
8.根据权利要求1所述之下拉机构，其特征在于还包含至少一个拉力调整单元，其设置于该基座之一端，并连接上述这些拉力线，用以调整该拉力线之松紧。
9.根据权利要求8所述之下拉机构，其特征在于该拉力调整单元包括弹簧。
10.根据权利要求1所述之下拉机构，其特征在于上述这些拉力线包括钢线。
11.一种化学气相成膜装置，适于对基板进行成膜工艺，其特征在于该化学气相成膜装置包括气相成膜室；下拉机构，设置于该气相成膜室下方，该下拉机构包括基座；多条拉力线，实质上相互平行而设置于该基座上，其中各该拉力线之两端分别固定于该基座之相对两侧；多个支承单元，各该支承单元包括顶销，位于上述这些拉力线之间，且该顶销具有用以支承该基板之支承端以及用以与该基座接触之底端，其中该底端之端面为圆弧面；以及下拉件，套置于该顶销上，并位于该拉力线与该基座之间，以通过该拉力线之下拉而带动该顶销下降。
12.根据权利要求11所述之化学气相成膜装置，其特征在于各该支承单元还包括档止件，其设置于该顶销上，并位于该底端与该下拉件之间。
13.根据权利要求12项所述之化学气相成膜装置，其特征在于该档止件包括C型扣环。
14.根据权利要求11所述之化学气相成膜装置，其特征在于该顶销之材质包括陶瓷材料。
15.根据权利要求11所述之化学气相成膜装置，其特征在于还包括多个拉力线固定单元，各该固定单元包括定位杆，位于上述这些拉力线之间，且该定位杆之一端插置于该基座上；以及定位板，设置于该定位杆之另一端，且该拉力线位于该定位板与该基座之间。
16.根据权利要求15所述之化学气相成膜装置，其特征在于各该拉力线固定单元还包括调整螺丝，其锁附于该定位杆插置于该基座之一端，用以调整该定位板与该基座之距离。
17.根据权利要求11所述之化学气相成膜装置，其特征在于该基座上具有多个定位槽，而各该拉力线固定单元之定位杆对应插置于上述定位槽中之一个内。
18.根据权利要求11所述之化学气相成膜装置，其特征在于还包含至少一个拉力调整单元，其设置于该基座之一端，并连接上述这些拉力线，用以调整上述这些拉力线之松紧。
19.根据权利要求18所述之化学气相成膜装置，其特征在于该拉力调整单元包括弹簧。
20.根据权利要求11所述之化学气相成膜装置，其特征在于上述这些拉力线包括钢线。
专利摘要一种化学气相成膜装置，适于对基板进行成膜制造工艺，此化学气相成膜装置包括气相成膜室与下拉机构，而此下拉机构具有基座、多条拉力线与多个支承单元。其中，多条拉力线实质上相互平行且设置于基座上，而每一拉力线之两端分别固定于基座之相对两侧。此外，每一支承单元包括顶销与下拉件，且顶销具有与基座接触之底端，而顶销底端之端面是圆弧面。因此，具有圆弧面底端之顶销在与基座接触时可减缓应力集中的现象，进而延长顶销之使用寿命。
文档编号C23C16/44GK2789274SQ200520018358
公开日2006年6月21日 申请日期2005年5月8日 优先权日2005年5月8日
发明者柯志伟 申请人:中华映管股份有限公司