专利名称：研磨系统及研磨方法
技术领域：
本发明是关于一种研磨系统与研磨方法，且特别是关于一种可局部研磨刮伤部位并节省研磨液的研磨系统与研磨方法。
背景技术：
一般在液晶显示器的制作工艺中，当玻璃基板被组装并切割完成之后，都会先检查这些玻璃基板的表面是否有刮伤的痕迹。检查的方式通常是借由光投射到玻璃基板后，以肉眼观察是否有无法擦拭掉的痕迹或缺陷。当玻璃基板上具有刮伤痕迹时，则会抛光这些玻璃基板的表面以除去刮伤痕迹。请参照图1，其示出为传统上的研磨方法的示意图。如图1所示，常见的做法是将整片玻璃基板1浸泡在一个装有研磨液L的容器2里面，并以固定装置3固定住玻璃基板1，再由研磨垫4在玻璃基板1上作局部或整面的研磨。此研磨方式需要耗费非常大量的研磨液。
再者，研磨液L通常为酸性或碱性的液体(大部份为酸性)，因此在玻璃基板1被研磨完成之后，必须将玻璃基板1清洗干净，才不会腐蚀掉玻璃基板1边缘的外引脚接合(outer lead bonding，OLB)部位的电极。另外，由于研磨液L中会包括有许多微小的研磨粒，在清洗玻璃基板1的过程中极不容易将电极上的研磨粒完全清洗干净。若是研磨粒残留在电极上，在点灯测试步骤中以探针接触这些电极时，都将无法导通电极而会产生线缺陷，同时也会降低探针的使用寿命。此外，由于研磨液L通常为不透明的液体，在研磨过程中必须将玻璃基板1多次取出以判断是否研磨到正确的刮伤位置，不仅容易挤压到玻璃基板1中的液晶层，此研磨方法也非常耗工费时。
发明内容
有鉴于此，本发明的目的就是在提供一种研磨系统与研磨方法，借由微调结构与缓冲止滑结构的设计，可微调研磨垫于待磨组件上的压下力量，用以置放待磨对象的缓冲止滑结构并可作为在研磨垫压下力量过大时的缓冲组件，以避免因下压力量过大而在待磨组件上造成额外的损伤。
根据本发明的目的，提出一种研磨系统，可应用于研磨至少一待磨对象。研磨系统包括缓冲止滑结构与研磨装置。研磨装置包括一基架、研磨部及微调结构。研磨部设置在基架上，并可相对于缓冲止滑结构移动。微调结构设置在基架与研磨部之间，用以调整研磨部与基架的一间距，进而调整研磨部以及缓冲止滑结构上的一待磨对象的距离。
根据本发明的目的，再提出一种研磨方法，包括首先提供一研磨系统，其包括缓冲止滑结构及研磨装置，研磨装置包括基架、研磨部及微调结构，微调结构则设置在基架与研磨部之间；接着，置放一待磨对象于缓冲止滑结构上，并使研磨部设置在待磨物件之上；然后，调整微调结构以改变基架与研磨部的一间距，借此调整研磨部与待磨对象的距离。
为让本发明的上述目的、特征、和优点能更明显易懂，下文特举一优选实施例，并配合附图，作详细说明如下
图1示出为传统上的研磨方法的示意图。
图2A示出为依照本发明一优选实施例的研磨系统的示意图。
图2B示出为图2A的微调结构的示意图。
图3示出为图2A研磨系统的研磨方法的流程图。
图4示出为图2A的研磨系统在研磨时的示意图。
主要组件符号说明1玻璃基板2容器3固定装置4、18研磨垫10研磨系统11缓冲止滑结构12研磨装置13研磨部14微调结构
15基架16电机16A输出轴端17研磨液供给装置17A喷嘴19固定块20螺丝30待磨物件L研磨液P刮伤区域具体实施方式
请参照图2A～图2B，图2A示出为依照本发明一优选实施例的研磨系统的示意图，图2B示出为图2A的微调结构的示意图。如图2A所示，研磨系统10包括缓冲止滑结构11与研磨装置12，缓冲止滑结构11用以固定一待磨对象(未示出)，而研磨装置12则包括研磨部13与微调结构14。研磨部13设置在一基架15上，并可相对于缓冲止滑结构11移动。微调结构14则设置在基架15与研磨部13之间，用以调整研磨部13与基架15的间距，进而调整研磨部13与待磨对象的距离。
如图2A所示，研磨装置12还包括一电机16，其优选地位于微调结构15与研磨部13之间。电机16可装设在研磨装置12中一个可相对于基架15伸缩移动的挡板(未示出)上，而研磨部13则是固定在电机16的输出轴端16A。因而在调整好微调结构14并要装设到研磨装置12中时，只要将挡板拉开即可装设微调结构14，同时电机16又可以带动研磨部13转动。
研磨系统10还可包括一个研磨液供给装置17，用以提供研磨液到待磨对象上的局部位置。此研磨液供给装置17可以是具有一喷嘴17A的供给装置，由喷嘴17A将研磨液局部地滴覆在待磨对象上的刮伤区域。当然，此供给装置也可以以实验器材中常见的洗瓶来取代。由于洗瓶一般具有可压缩性，故当装入研磨液时可轻易地挤压将其内的研磨液挤出使用。
至于研磨部13，其包括一例如是羊毛材质的研磨垫18。由于羊毛材质细致并具有吸水的性质，不仅不会伤害到待磨对象的表面，且又可将带有研磨粒的研磨液吸附起来以抛光待磨对象的表面。
缓冲止滑结构11则例如是一有弹性的软垫，其具有止滑与缓冲的作用，除了可防止待磨对象在研磨过程中任意地移位，当研磨部13下压的力量过大时，此软垫也可以作为一缓冲结构，以避免研磨垫18在待磨对象表面造成损伤。
如图2B所示，微调结构14可由一固定块19与多个螺丝20组成。固定块19用以将微调结构14固定于基架15与研磨部13之间，螺丝20则是锁附于固定块19上，并各别具有一锁入深度。借由调整这些螺丝20的锁入深度可进而调整研磨部13与基架15的间距。本实施例是以三个螺丝20为例做说明，而固定块19则优选地为一个环形组件，可以套绕于基架15与电机16之间的连接轴(未示出)上。
至于以研磨系统10对待磨对象抛光的方法，请参照图3，其示出为图2A研磨系统的研磨方法的流程图。如图3所示，首先进入步骤31，提供研磨系统10(见图2A)，其包括缓冲止滑结构11与研磨装置12，研磨装置12包括研磨部13、微调结构14与基架15等，研磨部13设置在基架15上，微调结构14则位于基架15与研磨部13之间。
接着，进入步骤32，置放一待磨对象30在缓冲止滑结构11上，并使研磨部13设置在待磨物件30之上。此待磨对象30例如是一液晶面板，其上具有一刮伤区域P，研磨部13对应于此刮伤区域P以进行抛光的动作。
然后，进入步骤33，调整微调结构14，并将其装设到基架15与研磨部13之间以改变基架15与研磨部13的间距，借此调整研磨部13与待磨对象30的距离。请同时参照图4，其示出为图2A的研磨系统于研磨时的示意图。如图4所示，待磨对象30(液晶面板)已设置在缓冲止滑结构11上，可再进行调整微调结构14上螺丝20的锁入深度以决定研磨部13与待磨对象30的距离。由于研磨垫18会接触待磨对象30的表面，因而研磨部13与待磨对象30的距离会影响研磨垫18的下压力量。依次转动三个螺丝20以控制其锁入深度，借此可调整微调结构14的高度。之后，再将固定块19装设到基架15与电机16之间，微调结构14的高度即为基架15与电机16(见图2A)的间距大小。
如图4所示，在进行研磨前，可利用研磨液供给装置17的喷嘴17A滴覆适量的研磨液L于刮伤区域P，再进行待磨对象30表面的抛光。当初步研磨完成后，利用无尘布将研磨液L擦拭掉就可以直接判断是否已经抛光完成。
本发明整体的功效如下(1)以一缓冲止滑结构固定待磨组件，相较于传统上抛光时必须先以其它组件固定住玻璃基板的设计而言，本发明所使用的缓冲止滑结构的结构简单并且具有止滑与缓冲的功能。
(2)以微调结构去调整研磨垫与待磨对象的间距，以控制研磨垫的下压力量，相较于传统上必须上下反复移动研磨垫以控制下压力量的方式而言，本发明的微调结构既简易且可稳定地控制研磨垫。
(3)仅仅将研磨液滴覆在刮伤区域，相较于传统上将整个待磨对象(液晶面板)浸泡在研磨液中做研磨，本发明不仅可避免外引脚接合部位电极与研磨液接触，也大大地节省了研磨液的用量。
(4)不需再对待磨对象(液晶面板)作整体清洗的动作，因而不会发生因清洗不干净而造成外引脚接合部位电极的腐蚀，或者因为研磨粒堆积所造成点灯测试不亮的情形。
(5)利用无尘布将研磨液擦拭掉就可以判断是否已经抛光完成，相较于传统上在清洗之后必须以气枪吹干再作判断，且可能必须重复数次才能完成，本发明具有省时省工的优点。
本发明上述实施例所公开的研磨系统与研磨方法，是将待磨对象固定在缓冲止滑结构上，并利用调整微调装置以固定下压量，进而控制研磨垫的下压力道。由于仅在刮伤部位滴覆研磨液以进行局部的研磨，可减少待磨对象上其它区域接触研磨液的机会，并可节省研磨液与检查的时间，进而降低产品的制造成本。
综上所述，虽然本发明已以一优选实施例公开如上，然其并非用以限定本发明。本发明所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰。因此，本发明的保护范围当视权利要求书所界定者为准。
权利要求
1.一种研磨系统，可应用于研磨至少一待磨对象，该研磨系统包括一缓冲止滑结构，用以固定该待磨对象；及一研磨装置，包括一基架一研磨部，设置在该基架上，该研磨部可相对于该缓冲止滑结构移动；及一微调结构，设置在该基架与该研磨部之间，用以调整该研磨部与该基架的一间距，进而调整该研磨部与该待磨对象的距离。
2.根据权利要求1所述的研磨系统，其特征在于，还包括一研磨液供给装置，可提供一研磨液于该待磨对象的局部位置。
3.根据权利要求1所述的研磨系统，其特征在于，该研磨装置还包括一电机，位于该微调结构与该研磨部之间，该研磨部固定于该电机的一输出轴端，借此该电机可带动该研磨部转动。
4.根据权利要求1所述的研磨系统，其特征在于，该微调结构包括一固定块，用以固定于该研磨部与基架之间；及多个螺丝，锁附于该固定块上，并各别具有一锁入深度，借由调整该些螺丝的该些锁入深度，以调整该研磨部与该基架的该间距。
5.根据权利要求1所述的研磨系统，其特征在于，该研磨部包括一研磨垫。
6.根据权利要求5所述的研磨系统，其特征在于，该研磨垫的材质为羊毛。
7.根据权利要求1所述的研磨系统，其特征在于，该缓冲止滑结构为一软垫。
8.根据权利要求1所述的研磨系统，其特征在于，该待磨对象为一液晶面板。
全文摘要
本发明公开了一种研磨系统及研磨方法。研磨系统包括缓冲止滑结构及研磨装置。缓冲止滑结构用以固定一待磨对象，研磨装置则包括基架、研磨部及微调结构。研磨部设置在基架上，并可相对于缓冲止滑结构移动。微调结构设置在基架与研磨部之间，用以调整研磨部与基架的间距，进而调整研磨部与待磨对象的距离。
文档编号B24B47/00GK1927541SQ20061014122
公开日2007年3月14日 申请日期2006年9月28日 优先权日2006年9月28日
发明者杨宗儒, 曾令贤, 徐同炼, 张源益 申请人:友达光电股份有限公司