具有相对软的支撑材料和相对硬的装饰层的制品及其制造方法

专利名称：具有相对软的支撑材料和相对硬的装饰层的制品及其制造方法
技术领域：
本发明涉及具有相对软的支撑材料，可选应用到支撑材冲+的连 接层或者连接层系统，和相对硬的装饰层的制品。另外，本发明涉 及制造这种制品的方法。
背景技术：
这样的制品和相应的方法本身是已知的，例如建筑配件领域， 其中黄铜制品，如门4巴手，配有^t的装饰涂层，如由例如本申i青人
的DE-A-10011597中所/>开的。尤其是存在多种其4也配有装饰层的 制品。例子是家用电器领域中的小件制品，如尤其是MP3播放器， 手提收音机、移动电话等，其中由支撑材料构成的塑料外壳配有彩 色的装饰层，例如铝的颜色或者黑色。这样的具有软金属，如铝、 黄铜、不锈钢或者类似物的外壳的制品也是已知的，其同样要装配 装饰层。甚至铝、黄铜、不锈钢或者类似物的支撑材料最终代表相 对软的支撑材料，例如具有在约200到约300的范围内的维氏硬度 VH。.Q25。不管这样的制品是否由塑料或者相对软的金属构成，它们 在相对短时间的使用后显示出 <吏用的痕迹，例如由于使用者频繁的 才喿作或者由于相应的制品装在口袋中或者i文在一震荡的底座上，如 在机动车中。
因此存在对多种这种制品的需求，尤其是日常^吏用的制品，以 将装饰层提供给相应产品，该装饰层基本上比目前为止的装饰层更 耐刮4察和磨损。
本申请人意识到装饰层的损害问题，对于通过PVD方法或者 CVD方法产生的装饰层，不应在层本身的成分中进4亍探寻，因为这 样的装饰层相对较薄并且相对^更，至少比支撑材料石更，而该问题的 根源在相对软的衬底中，因为这些会被相对容易地刮擦或者一皮破 坏，因此，例如软支撑材料被相应压力的行为压入，其会造成装饰 层外表的破坏或者该层的局部破裂。塑料支撑材料出现同样的问 题。
另夕卜，根据本发明已经意识到这个问题可以被克服，因为通过 电镀方法将相对厚和硬的层，例如铬，应用于制品。对于铝或者压 铸锌的制品，同样地已知通过电镀方法提供硬的铬层，其还充当了 腐蚀保护层，可以在其上应用装饰层。但是这样的硕j各层具有相应 的电镀槽含有有毒并且由于健康原因不合适的铬VI的缺点。
对于塑料支撑材料，已知通过电镀涂覆由第一黄铜层和厚度小 于l|am的第二镍层构成的连接促进层系统，以这些作为相对软的 层。随后，在涂覆实际的装饰层之前，给该连接支撑层装配厚度约 10至ij 20pm的石更4各层。
对于传导产品，还已知以PVD方法沉积厚度小于l^rri的薄连 接促进层，然后，在沉积实际的装饰层之前，同样使用PVD方法 在其上涂覆厚度为1到3pm的铬或者氮化铬的支撑层。
除了硬铬槽具有铬VI的毒性问题，为了产生良好的效果，在 所有情况下都要求具有几个Jim的相当大厚度的铬层也是不利的。 但是，这种类型的相对较厚的铬层要求相对较长的涂覆时间，这造
成制造过程昂贵。另外，铬是一种相对较贵的材料，首要关系的是 给大量生产的制品配备相对较厚的铬层。
在涂覆了这样的具有足够厚度的硬层之后，刮擦的危险或者破
坏支撑材4+的危险明显变小，并且可以在由支撑材4'+、通过PVD 或者CVD方法涂覆的硬铬层和装饰层构成的如此生产的制品中被 克服掉。
因此，本发明的目的是提供具有相对软的支撑材料和在表面通 过PVD方法或者CVD方法沉积的装饰层的制品，其具有出色的针 对刮擦和磨损的抗性，还以适宜的成本制造并且很大程度上避免了 毒性问题。

发明内容
为了达到这个目标，根据本发明提供了最初指定类型的制品， 其特征在于在支撑材冲+和装饰层之间，可选地在连4妄层或者连4妄层 系统和装饰层之间，提供中间层，其由至少是作为主要成分的DLC 构成。
根据本发明，即已经发现，主要成分由DLC构成的这种类型 的中间层明显地比相对软的支撑材料硬，并且与铬层相比，可以在 相对專支短时间内涂覆并且具有明显低的材料成本，4旦是仍然能够确 保对制品或者在其上构造的PVD层或者CVD层的刮纟察和磨损的出 色的抗性，由于只要求50到500nm范围内的相对薄的PVD层或者 CVD层并且同样的能够以相对有利的成本制造。
术语"相对软的支撑材料"可以理解为金属，如铝、黄铜、压 铸锌或者不锈钢，例如，以具有250的维氏石更度VH0.025的不锈钢 的形式。软的支撑材料一^:具有低于300的VH0.025值。该4直不能
被理解为限制，因为具有高HV值的材料制品也可以成功地装备根 据本发明的保护涂层。
塑料支撑材料的制品一般具有明显低于250 HVo.。25的HVa()25 值并且也可以成功地装备才艮据本发明的涂层。
对于不4秀钢支撑才才#+，具有16%到18%的Cr和8%到12%的 Ni的不锈钢可以作为只代表众多的金属中的一个例子的实例。对于塑料支撑材料，其可以为单一类型的塑料或不同塑一牛的混 合物。
塑料可以例如，但是不限于，选自由ABS、聚石友酸酯、PMMA、 聚丙烯、聚苯乙烯、聚乙埽、聚酰胺或者合成树脂或者选自一种或 者多种前述具有纤维加固塑料的前述塑料的混合物组成的组。
没有必要在支撑材料和中间层之间提供连接层或者连4妄层系 统，而原则上中间层可以直接沉积在支撑材料之上。对于待涂覆的 支撑材料的表面的制备，如果出现不能通过蚀刻方法，或者蚀刻和 清洗方法被补救的连接问题，那么可以使用沉积在清洁了的和/或蚀 刻了的支撑材料的表面的连接层或者连接层系统，然后可选i也在进 一步清洁和/或蚀刻之后，中间层在连接层系统的连4妄层的自由面 (freie Oberflaeche )沉积。
在最适合于不锈钢的支撑材料也适合于塑料表面的本发明的 制品或者方法的一个优选实施例中，连接层由Cr层构成，其以降 j氐的4各比例和提高的WC比例合并到WC层中，随后在该WC层设 置W-C:H层，该W-C:H层上连4妾以DLC作为主要成分的中间层。 与在先技术相比，铬连接层不是电镀涂覆的，而是通过PVD方法。 因此，不会出现由于铬VI造成的问题。另夕卜，所述涂覆的4各层是 相对薄的，例如低于50nm，因此在PVD设备的真空室中的处理时
间相对较短，这表示使以分批的方式进行的制造方法变得基本上不 贵并且铬的消耗也被降低，因而由于这个原因降低了制造成本。
也可以考虑CrN层代替纯铬的连接层，例如被认为是梯度层的 层，在该层中，在增加的层厚度中铬的比例降低有利于氮的比例提 高。以这种方式，Cr的消耗被更进一步地降低，同时该层通过结合 进入的氮明显地变得更硬。
在本发明的制品和本发明的方法的另外一个实施例中，连接层 由钬层构成，其以降〗氐的Ti比例和提高的WC比例合并到WC层 中，随后在该WC层配备W-C:H层，该W-C:H层上连接有以DLC 作为主要成分的中间层。在这种情况下，TiN连接层也可以;故考虑 来代替纯Ti连接层。
一般来说，连接层可以由金属层来构成，其以降低的金属比例 和升高的WC比例合并到WC层中，随后在该WC层上配备W-C:H 层，该W-C:H层上连接以DLC作为主要成分的中间层，其中金属 层的金属选自由Cr、 Ti、 Al、 Zr、 V或者它们的组合组成的组。
以塑并+作为支撑材冲牛，CuNi层序(Schichtfolge )可以以本身 已知的方式被电镀涂覆作为连接层系统。
另外，存在着使用聚合体连接层系统的可能性，其本身是已知 的并且在PAVCD过程中使用有才几硅化合物^皮涂覆到支撑材^1"，有 机石圭化合物可以以气体形式或者以液体的形式引入到相应的真空 装置中。 一 个实例是 HDSMO(六曱基二硅氧烷， hexadimethyldisiloxane),其在等离子体中通过裂化被转化为含有硅 和石灰氬的化合物，这些化合物作为聚合体层沉积在制品上并形成连 接层。通过提高设备的气体环境中的氧的比例，这些化合物可以很
好的附着，但是有些软的层可以有利地向由Si02构成的类似玻璃的 层的方向转变，这表示层硬度的有利的和明显的提高。
存在着多种实现待施加到中间层的自由面的装饰层的可能性， 关于其的 一 些实例-但是没有限制-会在之后更详细地给出。通过实
例的方式，根据本发明，通过PVD和/或CVD方法涂覆的装饰层可 以为具有反应性涂覆的TiCrCN涂层的非反应性涂覆了 Ti的黑色 层。
才艮据本发明的另外一个可选实施方式，装饰层可以为通过PVD 方法沉积的具有黄铜色、金色、镍色或者青铜色的ZrCN层。
才艮据本发明的另外一个可选实施方式，装饰层可以为具有金 色、不《秀钢色、青铜色或者铜色的TiCN层。
本发明的另外一个可选实施方式在于通过由PVD方法沉积的 并且具有不4秀钢色的CrCN层来实现装饰层。
另夕卜，根据本发明存在着通过由PVD方法沉积的并且具有煤 色的ZrCrCN层来实现装饰层的可能性。
另夕卜，存在着l吏用通过由PVD方法沉积的有色氧化物或者氧 氮化物层作为装饰层的可能性并且其具有彩虹色，如蓝、绿等。这 样的层由例如TiCrO、 TiCrON、 TiON、 CrON构成。
这样的装饰层，通常使用的层厚度约为50到500nm。
在权利要求15到28中详细地披露的本发明的方法优选在具有 至少 一个用于沉积任意的连接层或者任意的连4妻层系统和/或装饰 层的成分的溅射耙、具有用于以DLC作为主要成分或者唯一成分 施加中间层的PACVD系统，和具有至少一个用于施加4壬意的连4妄 层或者任意的连4妾层系统和/或装饰层成分的电弧光源的i殳备中进 行。


其中 . ,5 、
图1显示制品和涂覆到该制品的层的4黄截面，
图2显示才艮据本发明的另 一个制品和应用到该制品的层的片黄截 面,和
图3和4显示根据本发明使用到塑料(或者金属)支撑材料上 的层系统的另外两个实施例。
具体实施例方式
图1首先显示了由支撑材料12和装饰涂层14构成的任意理想 类型的制品10的横截面。在这个实施例中，由基础层18、转变层 20和覆盖层22构成的连接层系统16存在于制品的支撑材冲牛12最 #刀的自由面13之上。
在覆盖层22和装饰层14之间的是中间层24,其在这个实施例 中是DLC层，也就是除了尽可能避免的杂质之外，由DLC(类金 刚石^ 友)构成的层。
该实施例中的单独成分会在这里进4亍更详细地介绍。
在这个实施例中，支撑材料12为金属，例如不锈钢，或者塑 料，例如ABS。不锈钢具有250HVo.()25的维氏硬度，因此认为相对 软。尤其是，本发明涉及具有一般位于300HV0.025以下石更度的相
对软金属，但是本发明也可以使用较硬的支撑材料，并且这些石更度 详细数据不能被理解为限制。
当制品10的支撑材料12可以由塑料，例如ABS实现时，则 维氏硬度明显位于250 VHo.。2s以下。
为了施加层18、 20、 22、 24和14,将制品10插入到挠性真空 涂层i殳备中，其优选可以通过》兹控賊射和通过PACVD (等离子体 辅助化学蒸发沉积)涂覆涂层，该设备同样地也可以优选地通过相 应的PVD方法使用电弧光源通过电弧汽化的方式对制品施加涂层。 这种类型的i殳备可以，例如为Hauzer挠性涂层i殳备，其附有PACVD 系统。Hauzer挠性涂层设备受例如欧洲专利EP 403552的保护。
在将制品10引入到挠性真空涂层设备中后，首先通过以本身 已知的方式升温i殳备来升温该制品到操作温度，同时对小室4由真 空，从而被认为是制品中的污染物的挥发成分从制品中大量去除。 它们被挠性真空涂层设备的真空系统吸除。在达到了合适的操作温 度之后，该温度对于塑料和金属是不同的，但是实践上已知是对于 材料是特异性的，靶，也就是产生用于层18、 20、 22和14的材料 的賊射阴极被清洗。这种结果的发生是由于，例如輩巴在溅射操作中 并且在具有关闭的闸的挠性真空涂层设备中的惰性气体环境被操 作，从而溅射的、首先污染的靶的表面材料沉积在闸上。因此，污 染物，例如来自于早期涂覆过程的污染物祐:乂人靶的表面去除，这样 靶具有了必需的纯度。此后，使用结合到挠性真空涂层设备中的等 离子体源来进行下 一 段时间的蚀刻加工。这样的等离子体源本身是 已知的，并且经常以"永冲状态工作，因为这可以产生实际的优势。 在这个蚀刻过程中，支撑材料12的自由面13被蚀刻并且被清洁从 而达到连4妄层系统16优良的附着。
在清洁了表面13之后，厚度在50到500nm的范围内的Cr薄 层18通过PVD被沉积在制品10的表面。这在不^t秀钢的器件中是 有利的，因为在任何情况下不锈钢中都含有铬，并且以这种方式， 保证了支撑材料12和连接层18之间的高质量的转变，这有益于附 着。
在塑料制品中，Cr层的施加提供了在塑料制品之上形成传导层 的可能性，其对于进一步的加工有用。在塑津牛制品上施加的Cr层 在例如欧洲专利i兌明书1116801中进4亍了4皮露。
该Cr层18可以通过賊射源，也就是4各的靶，的》兹性喷镀方法 或者可以以电弧光源作为相应的靶的电弧涂层方法来产生。
转变层20由Cr和WC的混合物构成，其中^^的比例,人层18 的表面上的最大值到边界面28的方向被逐渐地降低到0，同时WC 的比例纟皮逐渐升高，这样在转变层20的自由面上，至少基本上不 再有任何铬的存在并且该自由面基本上由WC层构成。该转变层20 同样也相对4交薄，^旦是比连4妄层18厚，并且一皮覆盖层22所去;)"闭， 覆盖层22在这个实施例中例如是W-C:H层。
用于转变层20的WC从作为溅射源操作的WC靶产生。
为了产生W-C:H的覆盖层22，挠性真空涂层设备前期的氩环 境通过供给乙炔C2H^皮部分地替换，这导致此时的WC层含有过 量的碳并且通过存在的氢被改变。以这种方法，产生了所谓的 W-C:H层。在产生了同样非常薄的覆盖层22之后，挠性真空涂层 设备的工作状态被转换到PAVCD,然后，以本身已知的方式产生 DLC层24,其可以为例如ca. 2pm厚。但是这个厚度值不代表本发 明的任何形式的限制，该层也可以更薄或者更厚，而不偏离本发明 主张的范围。
在这实施例中，中间层完全由DLC(除了通常无法避免的污染 物)组成，并且是由补充的乙炔，也就是由挠性真空涂层设备的气 氛环境产生。
尽管在该实施例中，中间层24是纯DLC， DLC只是构成中间 层的一个成分也是完全可以想到的。例如，可以与其它成分被共沉 积，如例如硅，其通常来源于设备的气体环境，但是也可以来源于 相应的耙，或者通过,兹性'减射方法或者通过电弧方法。通常DLC 形成中间层24的主要成分。
最后，例如厚度为50到500nm的更薄的装饰层14 ^皮沉积在中 间层24的自由面30之上。装饰层14可以为通过PVD或者CVD 方法被沉积的任意的装饰层。这样的层和这样产生的颜色在在先技 术中是充分已知的，并且在专利权利要求10到13中列出了根据本 发明优选的一些涂层。
在权利要求10的实施例中，涂覆了 TiCrCN涂层，亦即以非反 应的工作方式沉积的第一层Ti，亦即或者通过相应的钛靶的磁电管 溅射，或者通过相应的耙的电弧方法，不发生与室环境的化学反应。 为了这个目的，室环境必须由惰性气体，如例如氩形成。
最后，产生了TiCrCN层。为了这个目的，应用了钛和铬的靶 并且室环境纟皮改变，以致于其通过传送石灰和氮的气体，例如乙炔和 氮的混合物，形成。
权利要求11到14的其它的涂层的施加类似的完成，除了对于 那里所纟会出的层，不是必须首先以非反应的方法沉积Ti金属层，而 是应性地由相应的靶和气体反产生相应的化合物。
使用如16的连接系统不是必要的，可以完全省略掉这个连4妄
层系统，如果可以通过制品表面的制备(清洁和/或蚀刻)达到充分 的连接或者可以取代连接层系统使用合适材料的单一连接层。
在图2的实施方式中，产生了与图1非常类似的结构，除了在 这里省略掉了连接层系统16,也就是中间层24直接沉积到制品的 自由面13之上并且接下来直接作为装饰层14。
在图3的图示中，显示了塑料制品IO，其具有由这里电镀涂覆的层 18，和20'构成的连4妄层16,其中，层18，由铜构成和层20，由4臬构成。
另夕卜，在图4中，显示了具有由聚合体层，例如上面所解释的 通过PAVCD方法由HDMSO产生的聚合体层，构成的连接层18" 的制品。
在图2、 3和4的图示中，使用了与图1相同的参考数字，并 且以相同的方式对这些图中的成分应用了相应的解释，在这里不进 行重复。
权利要求
1.一种制品(10)，具有相对软的支撑材料(12)、可选地涂覆到所述支撑材料的连接层(18)或者连接层系统(16)，和相对硬的装饰层(14)，其特征在于，在所述支撑材料(12)和所述装饰层(14)之间或者在所述连接层(18)或者所述连接层系统(16)和所述的装饰层(14)之间设置了中间层(24)，其含有至少作为主要成分的DLC。
2. 根据权利要求1所述的制品，其特征在于，所述支撑材料由金 属或者金属合金构成。
3. 才艮据权利要求1或4又利要求2所述的制品，其特4正在于，所述 支撑材神+选自由铝、黄铜、4美和不锈钢组成的组。
4. 根据前述权利要求中任一项所述的制品，其特征在于，所述金 属是具有16%到18%的Cr和8%到12%的Ni的不锈钢。
5. 根据权利要求1所述的制品，其特征在于，所述支撑材料由至 少一种塑^H勾成。
6. 根据权利要求5所述的制品，其特征在于，所述塑料选自由 ABS、聚碳酸酯、PMMA、聚丙烯、聚苯乙烯、聚乙烯、聚酰 胺或者合成树脂或者包括前述一种或者多种纤维加固的塑料 的前述塑冲+的混合物组成的组。
7. 才艮据前述4又利要求中4壬一项所述的制品，其特4i在于，所述连 接层由Cr层构成，其以降低的Cr比例和升高的WC比例合 并到WC层中，随后在所述WC层设置W-C:H层，所述W-C:H 层上连接具有所述主要成分DLC的所述中间层。
8. 根据前述权利要求1至6中任一项所述的制品，其特征在于， 所述连4妄层由CrN层构成，可选地以具有降4氐的Cr比例和升 高的N比例的有梯度的CrN层的形式，其逐渐地合并到WC 层中，其中，所述WC的比例以远离所述CrN层的方向升高 并且随后在所述WC层i史置W-C:H层，所述W-C:H层上连才妾 具有所述主要成分DLC的所述中间层。
9. 根据前述权利要求1至6中任一项所述的制品，其特征在于， 所述连4妻层由Ti层构成，其以降低的Ti比例和升高的WC比 例合并到WC层中，随后在所述WC层i殳置W-C:H层，所述 W-C:H层上连4妻具有所述主要成分DLC的所述中间层。
10. 根据前述权利要求1至6中任一项所述的制品，其特征在于， 所述连接层由金属层构成，其以降低的金属比例和升高的WC 比例合并到WC层中，随后在所述WC层上i殳置W-C:H层， 所述W-C:H层上连4姿具有所述主要成分DLC的所述中间层， 并且所述金属层的所述金属选自由Cr、 Ti、 Al、 Zr、 V或者它 0的纟且^纟且成的纟且。
11. 根据前述权利要求1至6中任一项所述的制品，其特征在于， 所述连接层是有机硅层，其是例如通过PACVD方法沉积到塑 料或者金属的支撑材料之上。
12. 根据前述权利要求1至6中任一项所述的制品，其特征在于， 所述连接层是CuNi层序，其^皮动电地沉积到塑并+或者金属的 支撑材料之上。
13. 才艮据前述片又利要求中任一项所述的制品，其特4正在于，通过PVD和/或CVD方法涂覆的所述装饰层是包括具有反应性附 着的TiCrCN涂层的非反应性涂覆的Ti构成的黑色层。
14. 根据前述权利要求1至12中任一项所述的制品，其特征在于， 所述装饰层是通过PVD方法沉积的具有黄铜色、金色、镍色 或者青铜色的ZrCN层。
15. 根据前述权利要求1至12中任一项所述的制品，其特4正在于， 所述装饰层是具有金色、不锈钢色、青铜色或者铜色的TiCN层。
16. 根据前述权利要求1至12中任一项所述的制品，其特4正在于， 所述装饰层是通过PVD方法沉积的具有不锈钢色的CrCN层。
17. 根据前述权利要求1至12中任一项所述的制品，其特征在于， 所述装饰层通过PVD方法沉积的具有'煤色的ZrCrCN层。
18. 才艮据前述片又利要求1至12中任一项所述的制品，其特4正在于， 所述装饰层是通过PVD方法沉积的具有彩虹色，如蓝色或者 绿色的氧化物层或者氧氮化物层。
19. 根据权利要求18所述的制品，其特征在于，所述氧化物层或 者氧氮化物层是由Ti、 Cr或者这些金属的组合的组中的金属 的氧化物或者氧氮化物。
20. 用于制造包括相对软的支撑材料，可选地涂覆到所述支撑材料 的连接层或者连接层系统以及相对硬的装饰层的制品的方法， 其特征在于，在所述支撑材料和所述相对硬的装饰层之间或者 在所述连接层或者所述连接层系统和相对硬的装饰层之间涂 覆包括至少作为主要成分的DLC的中间层。
21. 根据权利要求20所述的方法，其特征在于，选4奪金属或者金 属合金的支撑材料作为所述支撑材料。
22. 根据权利要求20或21所述的方法，其特征在于，选4奪不锈钢 作为所述支撑材料。
23. 根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述不 4秀钢是具有16%到18%的Cr和8%到12%的Ni的不4秀4冈。
24. 根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，选择至 少 一种塑料的支撑材料作为所述支撑材料。
25. 根据权利要求24所述的方法，其特征在于，所述塑料选自由 ABS、聚碳酸酯、PMMA、聚丙烯、聚苯乙烯、聚乙烯、聚酰 胺或者合成树脂或者包括上述纤维加固的一种或者多种前述 塑料的前述塑料的混合物组成的组。
26. 根据前述片又利要求20至25中任一项所述的方法，其特4正在于， 所述连冲妄层由Cr层构成，其以降4氐的Cr比例和升高的WC 比例合并到WC层中，随后在所述WC层设置W-C:H层，所 述W-C:H层上连4妄具有所述主要成分DLC的中间层。
27. 根据前述权利要求20到24中任一项所述的方法，其特征在于， 所述连4妾层由CrN层构成，可选i也以具有降4氐的Cr比例和升 高的N比例的有梯度的CrN层的形式，其逐渐地合并到WC 层中，所述WC的比例以远离所述CrN层的方向升高并且所 述WC层随后设置在其上连接具有所述主要成分DLC的中间 层的W-C:H层。
28. 根据前述权利要求20至24中任一项所述的方法，其特征在于， 所述连4妄层由Ti层构成，其以降低的Ti比例和升高的WC比例合并到WC层中，随后在所述WC层i殳置W-C:H层，所述 W-C:H层上连4妄具有所述主要成分DLC的中间层。
29. 根据前述权利要求20至24中任一项所述的方法，其特征在于， 所述连接层由金属层构成，其以降低的金属比例和升高的WC 比例合并到WC层中，随后在所述WC层设置W-C:H层，所述金属层的金属选自由Cr、 Ti、 Al、 Zr、 V或者它们的《且合组 成的组。
30. 根据前述权利要求20至24中任一项所述的方法，其特4正在于， 所述连接层是有机硅层，其是例如通过PACVD方法沉积到塑 料或者金属的支撑材料之上。
31. 冲艮据前述片又利要求20至24中任一项所述的方法，其特4正在于， 选择CuNi层序作为所述连接层，其被动电沉积到塑料或者金 属的支撑材料之上。
32. 根据前述权利要求20至31中任一项所述的方法，其特4正在于， 通过PVD和/或CVD方法涂覆的所述装饰层是具有反应性附 着TiCrCN涂层的非反应性涂覆的Ti的黑色层。
33. 根据前述权利要求20至31中任一项所述的方法，其特4正在于， 作为所述装饰层的是通过PVD方法沉积的具有黄铜色、金色、 镍色或者青铜色的ZrCN层。
34. 根据前述权利要求20至31中任一项所述的方法，其特征在于， 作为所述装饰层的是具有金色、不锈钢色、青铜色或者铜色的 TiCN层。
35. 根据前述权利要求20至31中任一项所述的方法，其特j正在于， 作为所述装饰层的是通过PVD方法沉积的具有不4秀钢色的 CrCN层。
36. 根据前迷权利要求20至31中任一项所述的方法，其特4正在于， 作为所述装饰层的是通过PVD方法沉积的具有'j:某色的 ZrCrCN层。
37. 根据前迷权利要求20至31中任一项所述的方法，其特征在于， 作为所迷装饰层的是通过PVD方法沉积的具有彩虹色，如蓝 色或者绿色的氧化物层或者氧氮化物层。
38. 纟艮据权利要求37所述的方法，其特征在于，所述氧4b物层或 者氧氮化物层是由Ti、 Cr或者这些金属的组合的组中的金属 的氧化物或者氧氮化物。
39. 根据权利要求20至38所述的方法，其特征在于，所述方法在 具有至少 一个用于沉积任意的连接层或者连4妄层系统和/或所 述装饰层成分的溅射耙，具有用于施加以DLC作为主要成分 或者p眷一成分的中间层的PACVD系统3口具有至少一个用于 施加任意连接层或者任意连接层系统和/或所述装饰层成分的 光弧电源的设备中进行。
40. —种"i殳备，尤其是用于进行前述权利要求20至38所述的方法， 其特征在于，组合了真空室内至少一个具有至少一个溅射靶的 石兹控賊射系统、PACVD系统和具有至少 一个电弧光源的电弧 汽化系统。
全文摘要
本发明涉及具有相对软的支撑材料，可选的涂覆到支撑材料的连接层或者连接层系统，和相对硬的装饰层的制品。另外，本发明涉及制造这种制品的方法。
文档编号C23C14/32GK101374976SQ200780003094
公开日2009年2月25日 申请日期2007年1月5日 优先权日2006年1月13日
发明者保罗·佩特斯, 克里斯蒂安·施特罗德, 米希尔·伊尔德恩, 罗埃尔·蒂特曼, 耶罗恩·兰茨贝根 申请人:豪泽尔涂层技术有限公司