专利名称：真空离子镀膜机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种真空离子镀膜机。
背景技术：
目前使用的真空离子镀膜机中，使挂件公转的上转架2通过连接 在真空镀膜室1内的周向轴与轴承组7来固定其周向位置，再由其下 方的支撑轴与轴承组8来支撑，其中固定、支撑用的轴通过螺栓连接 在真空镀膜室内，其结构如图4所示。这样的结构会带来以下缺点
1、 由于真空镀膜室的环境限制，轴承不能使用润滑脂，会使得 旋转摩擦过大，特别在连续旋转发热时，轴承容易卡死，影响上转架 的旋转；
2、 真空镀膜室内温差较大，原件的热胀冷縮较明显，而轴与轴 承配合的精度要求较高，对温度敏感，热胀冷縮会影响轴承寿命，甚 至卡死轴承；
3、 轴通过螺栓连接在真空镀膜室内，长期旋转会使得螺栓松动， 不利于上转架的固定。
发明内容
针对上述问题，本实用新型的目的在于提供一种使得上转架的连 接、旋转更稳定，结构更合理的真空离子镀膜机。 本实用新型解决其问题所采用的技术方案是
真空离子镀膜机，包括真空镀膜室、安装在真空镀膜室内的上转架和连接在上转架上的自转轴，其特征在于所述真空镀膜室内设有 滚珠机构支撑上转架。
其中的滚珠机构包括固定在上转架下方的承接架，所述承接架上 面分布有滚珠支撑上转架。
进一步，承接架上开设有若干圆槽，滚珠放置于圆槽内支撑上转架。
作为优选方式，滚珠分布于承接架上端一定距离的圆周上。 此外，所述滚珠机构还包括通过螺栓固定在真空镀膜室内限制上
转架周向位置的固定轴组，所述固定轴组的外侧面与上转架内侧面相抵。
其中的固定轴组包括用螺栓固定在真空镀膜室内的固定轴，固定 轴下端设有凸起台阶，台阶上套置有轴套，所述轴套外侧面与上转架 内侧面相抵，
进一步，轴套内设有滚珠围绕固定轴；其中，轴套内滚珠的上、 下端设有承接滚珠的上、下导套，而且所述上、下导套与滚珠相接触 面设有凹槽。
本实用新型的有益效果是真空镀膜室内的上转架取消了轴承固 定，而采用下方的滚珠支撑，起到了很好的固定效果，在不能使用润 滑脂的环境下，滚珠能保证滑动较易，并且平均分布的滚珠能保证支 撑上转架转动平稳，此外，这样的结构有一定膨胀裕度，且滚珠耐热 性好，可适应热胀冷縮环境，不容易损坏；本实用新型使得上转架的 固定结构更为简单合理。以下结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明
图1是本实用新型真空离子镀膜机内上转架的固定方式示意图2是承接架与滚珠的结构示意图3是固定轴组的结构示意图4是现有的真空离子镀膜机内上转架的固定方式示意图。
具体实施方式
参照
图1，真空离子镀膜机，包括真空镀膜室1、安装在真空镀 膜室1内的上转架2和连接在上转架2上的自转轴3，所述真空镀膜 室1内设有滚珠机构4支撑上转架2。
参照图2，所述滚珠机构4包括固定在上转架2下方的承接架41 ， 所述承接架41上面分布有滚珠5支撑上转架2，承接架41在真空镀 膜室l内的固定方法有很多，如焊接、螺栓固定等，此处不再赘述。
滚珠5在承接架41上的固定方法有很多，本实用新型考虑到连 接的方便有效，在所述承接架41上开设有若干圆槽，并将滚珠5放 置于圆槽内支撑上转架2，这样的结构不但设置简易，并且有利于上 转架2旋转时支撑的滚珠5的有效滚动。
而且，优选将滚珠5分布于承接架41上端一定距离的圆周上， 这样均匀分布的滚珠可对上转架2起到很好的支撑、固定作用。
除此之外，参照图3，所述滚珠机构4还包括通过螺栓固定在真 空镀膜室1内限制上转架2周向位置的固定轴组42，所述固定轴组 42的外侧面与上转架2内侧面相抵。作为更具体的实施方式，本实用新型的优选方案是，固定轴组
42包括有用螺栓固定在真空镀膜室l内的固定轴421，固定轴421 下端设有凸起台阶，台阶上套置有轴套422，所述轴套422外侧面与 上转架2内侧面相抵。
进一步，所述轴套422内设有滚珠6围绕固定轴421，此外，所 述轴套422内滚珠6的上、下端设有承接滚珠6的上导套61、下导 套62，为方便配合，所述上导套61、下导套62与滚珠6相接触面均 设有凹槽。这样的结构使得整个固定轴组42完全取代了传统的轴与 轴承，起到限位固定与旋转作用，并且，由于滚珠6组合的方式不需 要润滑脂就能较好转动，而且还具有一定的膨胀裕度，相比轴承更适 合于真空镀膜室的使用环境。
当然，上述的实施方式只是本实用新型的一种实施例，并不视为 对本实用新型的保护范围限制，只要是通过滚珠机构4来支撑上转架 2的真空离子镀膜机，均属于本实用新型的保护范围。
权利要求1、真空离子镀膜机，包括真空镀膜室(1)、安装在真空镀膜室(1)内的上转架(2)和连接在上转架(2)上的自转轴(3)，其特征在于所述真空镀膜室(1)内设有支撑上转架(2)的滚珠机构(4)。
2、 根据权利要求1所述的真空离子镀膜机，其特征在于所述滚珠机构(4)包括固定在上转架(2)下方的承接架(41)，所述承接架(41)上面分布有滚珠(5)支撑上转架(2)。
3、 根据权利要求2所述的真空离子镀膜机，其特征在于所述承接架(41)上开设有若干圆槽，滚珠(5)放置于圆槽内支撑上转架(2)。
4、 根据权利要求3所述的真空离子镀膜机，其特征在于所述滚珠(5)分布于承接架(41)上端一定距离的圆周上。
5、 根据权利要求1所述的真空离子镀膜机，其特征在于所述滚珠机构(4)包括通过螺栓固定在真空镀膜室(1)内限制上转架(2)周向位置的固定轴组(42)，所述固定轴组(42)的外侧面与上转架(2)内侧面相抵。
6、 根据权利要求5所述的真空离子镀膜机，其特征在于所述固定轴组(42)包括用螺栓固定在真空镀膜室(1)内的固定轴(421)，固定轴(421)下端设有凸起台阶，台阶上套置有轴套(422)，所述轴套(422)外侧面与上转架(2)内侧面相抵。
7、 根据权利要求6所述的真空离子镀膜机，其特征在于所述轴套(422)内设有滚珠(6)围绕固定轴(421)。
8、 根据权利要求7所述的真空离子镀膜机，其特征在于所述轴套(422)内滚珠(6)的上、下端设有承接滚珠(6)的上、下导套(61、62)。
9、根据权利要求8所述的真空离子镀膜机，其特征在于所述上、下导套(61、 62)与滚珠(6)相接触面设有凹槽。
专利摘要本实用新型公开了一种真空离子镀膜机，包括真空镀膜室、安装在真空镀膜室内的上转架和连接在上转架上的自转轴，上转架下方设有固定在真空镀膜室内的承接架，所述承接架上面设有支撑上转架的滚珠机构；由于转架取消了轴承固定，而采用滚珠机构支撑，起到了很好的固定效果，在不能使用润滑脂的环境下，滚珠能保证滑动较易，并且平均分布的滚珠能保证支撑上转架转动平稳，此外，滚珠与承接架的配合有一定膨胀裕度，可适应热胀冷缩环境，不容易损坏，本实用新型使得上转架的固定结构更为简单合理。
文档编号C23C14/24GK201265040SQ200820200629
公开日2009年7月1日 申请日期2008年9月13日 优先权日2008年9月13日
发明者苏东艺 申请人:苏东艺