专利名称：蚀刻工具装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种蚀刻工具装置，尤指一种利用蚀刻液对基板斜向蚀刻，使蚀
刻出的沟槽与基板表面呈斜角的蚀刻工具装置。
背景技术：
随着科技发达，产出各种电子产品及电子设备，金属加工仍然普遍应用于此些产品及设备，尤其机壳内部需要安装许多机构元件，需透过金属加工达到这些机构元件的设置。 金属加工主要包括钻孔、凿沟等过程，而加工装置大多以垂直方向在金属表面加工形成垂直的沟槽，此类垂直沟槽的加工技术成熟，可以轻易完成。但若需要与基材表面呈斜角的沟槽，会遭遇相当程度的困难，因为斜向的加工不易定位及施力，若操作不当可能会造成基板表面的损坏，失败率较高，耗费的加工时间较长，无形中增加许多时间及金钱的成本。除了金属加工，上述内容亦适用于其他材质的加工。 因此，需要开发出操作容易、加工效果良好的装置，以符合上述需求，使加工过程更为便捷，加工成本更为低廉。
实用新型内容本实用新型的主要目的，在于提供一种蚀刻工具装置，可以利用蚀刻液轻易地对基板进行斜向蚀刻，形成与基板表面呈斜角的沟槽。 为了达到上述的目的，本实用新型提供一种蚀刻工具装置，包括一内壳体，该内壳体为中空柱筒状，该内壳体内的中空空间形成一排液孔，该内壳体的底面为一内底面；以及一外壳体，该外壳体为中空柱筒状，该外壳体套设于该内壳体之外，该外壳体的内径大于该内壳体的外径，该外壳体与该内壳体之间的间隙形成一供液孔，该供液孔底部向下并向外延伸形成一喷射口 ，该外壳体的底面为一外底面，该内底面的水平位置高于该外底面。[0007] 另外，本实用新型提供另一种蚀刻工具装置，包括一中央柱体，该中央柱体为柱筒状，该中央柱体的底面为一中央底面；一内壳体，该内壳体为中空柱筒状，该内壳体套设于该中央柱体之外，该内壳体的内径大于该中央柱体的外径，该内壳体与该中央柱体之间的间隙形成一供液孔，该供液孔向下并向内延伸形成一喷射口 ，该内壳体的底面为一内底面；以及一外壳体，该外壳体为中空柱筒状，该外壳体套设于该内壳体之外，该外壳体的内径大于该内壳体的外径，该外壳体与该内壳体之间的间隙形成一排液孔，该外壳体的底面为一外底面，该中央底面及该外底面具有相同的水平位置，该内底面的水平位置高于该中央底面及该外底面。 借助于本实用新型的蚀刻工具装置，将蚀刻液加速通过该供液孔并由该喷射口喷出，使该蚀刻液斜向冲击该基板表面，同时立刻将溢流在该基板表面上的蚀刻液由该排液孔排出，縮短该蚀刻液在该基板表面的停留时间，提高蚀刻方向的对比性，因此该蚀刻液对该基板的冲击位置及方向具有特别显著的蚀刻效果，将该基板蚀刻出与其表面呈斜角的沟
3槽。 为了更进一步了解本实用新型的特征及技术内容，请参阅以下有关本实用新型的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本实用新型加以限制。
图1为本实用新型蚀刻工具装置第一实施例的侧视剖面图；[0011] 图2为本实用新型蚀刻工具装置第一实施例的俯视剖面图； 图3A，图3B为本实用新型蚀刻工具装置第一实施例对基板蚀刻加工后的俯视图及剖面图； 图4为本实用新型蚀刻工具装置第二实施例的俯视剖面图； 图5A，图5B为本实用新型蚀刻工具装置第二实施例对基板蚀刻加工后的俯视图及剖面图； 图6为本实用新型蚀刻工具装置第三实施例的俯视剖面图； 图7A，图7B为本实用新型蚀刻工具装置第三实施例对基板蚀刻加工后的俯视图及剖面图； 图8为本实用新型蚀刻工具装置第四实施例的侧视剖面图；[0018] 图9为本实用新型蚀刻工具装置第四实施例的俯视剖面图； 图IOA，图10B为本实用新型蚀刻工具装置第四实施例对基板蚀刻加工后的俯视图及剖面图； 图11为本实用新型蚀刻工具装置第五实施例的俯视剖面图； 图12A，图12B为本实用新型蚀刻工具装置第五实施例对基板蚀刻加工后的俯视图及剖面图。主要元件附图标记说明
1内壳体 ll排液孔 12内底面 121排液间隙 13曲面 2外壳体 21供液孔 211喷射口 212隔板 22外底面 3基板 31沟槽 4中央柱体 42中央底面 5内壳体 51供液孔[0039] 511喷射口 512隔板 52内底面 521排液间隙 53曲面 6外壳体 61排液孔 62外底面 7基板 71 t勾槽
具体实施方式请参阅图1及图2所示的第一实施例，本实用新型提供一种蚀刻工具装置，此实施例为外勾型的蚀刻工具装置，包括一内壳体1及一外壳体2。 该内壳体1为中空柱筒状，该内壳体1内的中空空间形成平行于轴心方向的一排液孔ll，该内壳体1的底面为一内底面12，该内壳体1内壁与该内底面12之间形成一滑顺的曲面13。该外壳体2为中空柱筒状，该外壳体2套设于该内壳体1之外，该外壳体2的内径大于该内壳体1的外径，使该外壳体2与该内壳体1之间的间隙形成平行于轴心方向的一供液孔21，该供液孔21底部向下并向外延伸形成一喷射口 211，该喷射口 211与该供液孔21之间呈斜角，该外壳体2的底面为一外底面22，该内底面12与该外底面22之间具有一水平落差，该内底面12的水平位置高于该外底面22。该内壳体1及该外壳体2的顶部可互相连接为一整体结构(图略)。 请参阅图1及图2，此实施例为外勾型的蚀刻工具装置，于使用时，该外底面22抵置于一基板3表面，该外底面22与该基板3表面为密合的状态，因为该内底面12的水平位置高于该外底面22，所以此时该内底面12与该基板3表面之间会形成一排液间隙121 ;该供液孔21顶端可装设一液体加压设备，该排液孔11顶端可装设一抽液设备。以一加压力量将蚀刻液由该供液孔21顶端灌入，该蚀刻液加速向下通过该供液孔21，然后由该喷射口 211喷出并斜向冲击该基板3表面，冲击力量会提升该蚀刻液的蚀刻速率。由于该外底面22与该基板3表面密合，该蚀刻液会被局限在该蚀刻工具装置的范围之内。同时，溢流在该基板3表面上的蚀刻液立刻透过该排液间隙121流向该排液孔11并向上排出，该曲面13可避免该蚀刻液排出时受到阻碍，縮短该蚀刻液在该基板3表面的停留时间，提高蚀刻方向的对比性，使得该蚀刻液对该基板3的冲击位置具有很高的蚀刻速率，而其他基板3区域的蚀刻速率相对很低。因此，该蚀刻液对该基板3的冲击位置及方向具有特别显著的蚀刻效果，将该基板3蚀刻形成与其表面呈斜角的沟槽31。该蚀刻液的选择取决于该基板3的材质，该蚀刻工具装置的材质具有绝佳的抗腐蚀性。 该供液孔21可依不同的需求设置不同的俯视形状。如图2所示的第一实施例中，于俯视状态下具有一完整圆圈状的供液孔21，此实施例所蚀刻出来的沟槽31如图3A，图3B所示，该沟槽31的俯视形状为一完整的圆圈，该沟槽31与该基板3表面之间形成斜角。[0053] 如图4所示的第二实施例中，于俯视状态下具有一完整八角形的供液孔21，此第二实施例的剖面结构如同图1的第一实施例剖面图，此实施例所蚀刻出来的沟槽31如图5A，图5B所示，该沟槽31的俯视形状为一完整的八角形，该沟槽31与该基板3表面之间形成斜角。 如图6所示的第三实施例中，该蚀刻工具装置具有至少两隔板，本实施例以四隔板为例四隔板212，该四隔板212连接于该内壳体1与该外壳体2之间，并间隔地设置于该供液孔21中，该四隔板212可与该内壳体1、该外壳体2为一体成型的结构。于俯视状态下，该四隔板212将该供液孔21区隔成一不连续圆圈状，此第三实施例的剖面结构亦如同图1的第一实施例剖面图，此实施例所蚀刻出来的沟槽31如图7A，图7B所示，该沟槽31的俯视形状为一不连续的圆圈，该沟槽31与该基板3表面之间形成斜角。[0055] 请参阅图8及图9所示的第四实施例，本实用新型提供另外一种蚀刻工具装置，此实施例为内勾型的蚀刻工具装置，包括一中央柱体4、一内壳体5及一外壳体6。[0056] 该中央柱体4为柱筒状，该中央柱体4的底面为一中央底面42。该内壳体5为中空柱筒状，该内壳体5套设于该中央柱体4之外，该内壳体5的内径大于该中央柱体4的外径，使该内壳体5与该中央柱体4之间的间隙形成平行于轴心方向的一供液孔51，该供液孔51向下并向内延伸形成一喷射口 511，该喷射口 511与该供液孔51的间呈斜角，该内壳体5的底面为一内底面52，该内壳体5外壁与该内底面52之间形成一滑顺的曲面53。该外壳体6为中空柱筒状，该外壳体6套设于该内壳体5之外，该外壳体6的内径大于该内壳体5的外径，使该外壳体6与该内壳体5之间的间隙形成平行于轴心方向的一排液孔61 ，该外壳体6的底面为一外底面62。该中央底面42及该外底面62具有相同的水平位置，该内底面52的水平位置高于该中央底面42及该外底面62。该中央柱体4、该内壳体5及该外壳体6的顶部可互相连接为一整体结构(图略) 请参阅图8及图9，此实施例为内勾型的蚀刻工具装置，于使用时，该中央底面42及该外底面62抵置于一基板7表面，该中央底面42及该外底面62皆与该基板7表面为密合的状态，因为该内底面52的水平位置高于该中央底面42及该外底面62，所以此时该内底面52与该基板7表面之间会形成一排液间隙521。该供液孔51顶端可装设一液体加压设备，该排液孔61顶端可装设一抽液设备。以一加压力量将蚀刻液由该供液孔51顶端灌入，该蚀刻液加速向下通过该供液孔51 ，然后由该喷射口 511喷出并斜向冲击该基板7表面，冲击力量会提升该蚀刻液的蚀刻速率。由于该外底面62与该基板7表面密合，该蚀刻液会局限于该蚀刻工具装置的范围之内。同时，溢流在该基板7表面上的蚀刻液立刻透过该排液间隙521流向该排液孔61并向上排出，该曲面53可避免该蚀刻液排出时受到阻碍，縮短该蚀刻液在该基板7表面的停留时间，提高蚀刻方向的对比性，使得该蚀刻液对该基板7的冲击位置具有很高的蚀刻速率，而其他基板7区域的蚀刻速率相对很低。因此，该蚀刻液对基板7的冲击位置及方向具有特别显著的蚀刻效果，将该基板7蚀刻形成与其表面呈斜角的沟槽71。 如图9所示的第四实施例中，于俯视状态下具有一完整圆圈状的供液孔51，此实施例所蚀刻出来的沟槽71如图IOA，图10B所示，该沟槽31的俯视形状为一完整的圆圈，该沟槽71与该基板7表面之间形成斜角。 如图11所示的第五实施例中，该蚀刻工具装置具有至少两隔板，本实施例以四隔板为例四隔板512，该四隔板512连接于该中央柱体4与该内壳体5之间，并间隔地设置于该供液孔51中，该四隔板512可与该中央柱体4、该内壳体5为一体成型的结构。于俯视 状态下，该四隔板512将该供液孔51区隔成一不连续圆圈状，此第五实施例的剖面结构如 同图8的第四实施例剖面图，此实施例所蚀刻出来的沟槽71如图12A，图12B所示，该沟槽 71的俯视形状为一不连续的圆圈，该沟槽71与该基板7表面之间形成斜角。 综观上述，借助于本实用新型的蚀刻工具装置，可以使蚀刻液对基板7进行斜向 蚀刻，在基板7轻易地蚀刻加工出与其表面呈斜角的沟槽71。 但是，以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，非意欲局限本实用新型的权利要 求保护范围，故凡运用本实用新型说明书及附图内容所为的等效变化，均同理皆包含于本 实用新型的权利要求保护范围内，特此声明。
权利要求一种蚀刻工具装置，其特征在于包括一内壳体，该内壳体为中空柱筒状，该内壳体内的中空空间形成一排液孔，该内壳体的底面为一内底面；以及一外壳体，该外壳体为中空柱筒状，该外壳体套设于该内壳体之外，该外壳体的内径大于该内壳体的外径，该外壳体与该内壳体之间的间隙形成一供液孔，该供液孔底部向下并向外延伸形成一喷射口，该外壳体的底面为一外底面，该内底面的水平位置高于该外底面。
2. 如权利要求1所述的蚀刻工具装置，其特征在于该内壳体内壁与该内底面之间形成 一滑顺的曲面。
3. 如权利要求1所述的蚀刻工具装置，其特征在于该蚀刻工具装置的材质具有抗腐蚀性。
4. 如权利要求1所述的蚀刻工具装置，其特征在于进一步具有至少二隔板，该隔板连 接于该内壳体与该外壳体之间，并间隔地设置于该供液孔中。
5. —种蚀刻工具装置，其特征在于包括一中央柱体，该中央柱体为柱筒状，该中央柱体的底面为一中央底面； 一内壳体，该内壳体为中空柱筒状，该内壳体套设于该中央柱体之外，该内壳体的内径大于该中央柱体的外径，该内壳体与该中央柱体之间的间隙形成一供液孔，该供液孔向下并向内延伸形成一喷射口，该内壳体的底面为一内底面；以及一外壳体，该外壳体为中空柱筒状，该外壳体套设于该内壳体之外，该外壳体的内径大于该内壳体的外径，该外壳体与该内壳体之间的间隙形成一排液孔，该外壳体的底面为一外底面，该中央底面及该外底面具有相同的水平位置，该内底面的水平位置高于该中央底面及该外底面。
6. 如权利要求5所述的蚀刻工具装置，其特征在于该内壳体外壁与该内底面之间形成 一滑顺的曲面。
7. 如权利要求5所述的蚀刻工具装置，其特征在于该蚀刻工具装置的材质具有抗腐蚀性。
8. 如权利要求5所述的蚀刻工具装置，其特征在于进一步具有至少二隔板，该隔板连 接于该中央柱体与该内壳体之间，并间隔地设置于该供液孔中。
专利摘要一种蚀刻工具装置，包括一内壳体及一外壳体，该内壳体为中空柱筒状，该内壳体内的中空空间形成一排液孔，该内壳体的底面为一内底面；该外壳体为中空柱筒状，该外壳体套设于该内壳体之外，该外壳体的内径大于该内壳体的外径，该外壳体与该内壳体之间的间隙形成一供液孔，该供液孔底部向下并向外延伸形成一喷射口，该外壳体的底面为一外底面，该内底面的水平位置高于该外底面。本实用新型可以利用蚀刻液轻易地对基板进行斜向蚀刻，形成与基板表面呈斜角的沟槽，可缩短蚀刻液在该基板表面的停留时间，提高蚀刻方向的对比性。
文档编号C23F1/08GK201512582SQ20092016575
公开日2010年6月23日 申请日期2009年7月29日 优先权日2009年7月29日
发明者黄茂连 申请人:黄茂连