珠体饰品的研磨装置的制作方法

文档序号:3357258阅读:309来源:国知局
专利名称:珠体饰品的研磨装置的制作方法
技术领域
本实用新型涉及一种研磨装置,特别是涉及一种珠体饰品的研磨装置。
背景技术
图1绘示一般珠体饰品的外观示意图。 一般珠体饰品300具有一球形表面310, 其一相对侧通常具有一相对的侧平面320,该等侧平面之间相互贯穿而形成一穿孔330。依 此,一穿绳可串穿多数的珠体饰品300而形成例如手环、项链或吊环等饰件。 在制作上述珠体饰品300时, 一般是先制成珠体胚体,再在胚体表面进一步研磨, 使其光亮细致,而形成一用来装饰用的珠体饰品300。 对于珠体饰品300表面的研磨,现有习知是以手指握持珠体饰品300的两侧平面 320,再以研磨工具对珠体饰品300的球形表面逐步进行研磨。然而此种研磨方式,其生产 速度慢,且其稳定性不佳,表面研磨的效果不佳,无法获得品质稳定的珠体饰品300。 由此可见,上述现有的珠体饰品的研磨方式显然仍存在有不便与缺陷,而亟待加 以进一步改进。为了解决上述存在的问题,相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道,但长久 以来一直未见适用的设计被发展完成,而一般产品又没有适切结构能够解决上述问题,此 显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新型的珠体饰品的研磨装置,实属 当前重要研发课题之一,亦成为当前业界极需改进的目标。

发明内容本实用新型的目的在于,克服现有的珠体饰品的研磨方式存在的缺陷,而提供一 种新型的珠体饰品的研磨装置,所要解决的技术问题是使其可快速对珠体饰品的表面进行 稳定研磨,而获得品质稳定均一的珠体饰品,非常适于实用。 本实用新型的目的及解决其技术问题是采用以下的技术方案来实现的。依据本实 用新型提出的一种珠体饰品的研磨装置,其包括有一挟持单元,包含有一对可转动的挟持 臂,用以挟持一珠体饰品,并使珠体饰品转动以及一研磨单元,相邻设置于挟持单元,研磨 装置包含有上、下相邻设置的一第一研磨机构与一第二研磨机构,用以依序对珠体饰品的 表面进行研磨。依所设的挟持单元及研磨单元,可快速对珠体饰品的表面进行稳定的研磨, 而获得品质稳定均一的珠体饰品。 本实用新型的目的以及解决其技术问题还可以采用以下的技术措施来进一步实 现。 根据本实用新型的一实施例,挟持单元进一步包括有一第一架体,立设于一固定 体上;一座体,组设于第一架体,且座体与第一架体之间设有一升降机构;一平台,组设于 座体的顶面,且平台与座体之间设有一水平移动机构;一避震轴承,装设于平台,避震轴承 的相对侧分别设有一支持臂与一承载臂,支持臂的端部的两侧延伸设有上述一对挟持臂, 其包括相隔离的一第一挟持臂与一第二挟持臂,承载臂的端部与平台之间则设有一制震弹 簧;珠体马达,装设于承载臂,珠体马达的输出轴经一传动皮带传动至第一挟持臂。依此使得珠体饰品可被挟持及转动,并可水平移动及上下升降,且在研磨时,避免产生过度的震 动。 根据本实用新型的一实施例,第二挟持臂可以轴向伸縮,而用以与第一挟持臂共 同挟持或放开珠体饰品。 根据本实用新型的一实施例,升降机构是在第一架体的顶面与座体的底面之间设 有一直向汽缸,使得座体可相对于第一架体而上下升降。 根据本实用新型的一实施例,水平移动机构在座体的顶面的两侧各设有一水平轴 向延伸的导轨,而平台的底面设有与导轨相配应的导槽,且座体与平台的内面之间设有一 水平轴向汽缸,使得平台可相对于座体作左右横向的水平位移。 根据本实用新型的一实施例,直向汽缸设有一高度限位调节螺杆,用以限制座体 的升降高度。 根据本实用新型的一实施例,座体的端部延伸设有一左右限位调节螺杆,用以限 制平台左右横向水平位移的距离。 根据本实用新型的一实施例,第一与第二研磨机构各装设于一第二架体,其立设 于一固定体上,每个研磨机构各包括有一研磨马达,装设于第二架体;一驱动轮,枢设于 研磨马达的输出轴;一研磨轮,枢设于第二架体,并相邻于驱动轮,且研磨轮具有配应于珠 体饰品的表面的弧形内壁;一调整轮,组设于第二架体,并与驱动轮相分隔,且调整轮与第 二架体之间设有一位置调节机构,用以调节调整轮及其上的研磨带的位置;以及一研磨带, 绕设于驱动轮、研磨轮以及调整轮的外周之间。研磨马达带动驱动轮转动,进而带动研磨带 绕转,以对珠体饰品的表面进行研磨。 根据本实用新型的一实施例,研磨轮的弧形内壁为弹性弧形内壁,以利于经由研 磨带而与珠体饰品的表面弹性接触,而利于研磨。 根据本实用新型的一实施例,位置调节机构包括有一紧度调节螺杆,设于第二架 体;一L形调节臂,具有直角相连的一第一臂与一第二臂,其中第一臂穿设于第二架体所设 的一第一穿孔环,第一臂的端部并与紧度调节螺杆相抵顶,第二臂设有一第二穿孔环;一凸 柱板,具有直角相连的一柱体与一板体,柱体穿设于L形调节臂的第二穿孔环;一安装座,
组设于凸柱板的板体,安装座设有一n形本体、至少一轴体、以及穿设于轴体的滑块,调整
轮设于滑块。依此调节研磨带的紧度及其前后方向的位置。 根据本实用新型的一实施例,凸柱板的板体的上、下位置分别设有至少一倾斜度 上调节螺丝与至少一倾斜度下调节螺丝,而据以调节调整轮及其研磨带的倾斜度。 根据本实用新型的一实施例,安装座的滑块与n形本体的内壁之间设有一弹簧, 而n形本体于远离弹簧的一端设有一迫紧把手,以迫动滑块相对于弹簧呈一抵紧状态,以
固定安装座及其上调整轮的位置。 根据本实用新型的一实施例,第一穿孔环、第二穿孔环、以及凸柱板的板体各设有
至少一固定螺丝,用以固定其相关的机件。 本实用新型与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。借由上述技术方案,本 实用新型珠体饰品的研磨装置至少具有下列优点及有益效果 1、本实用新型的研磨装置,其设置上、下相邻的第一研磨机构210与第二研磨机 构,可增长单独使用单一研磨机构的研磨带的使用寿命;而且第一与第二研磨机构的的研磨带可分别使用不同号数(细度)的砂纸研磨带,而可在同一研磨装置上依序同时完成不
同细度的研磨,其操作简捷便利,且可使得珠体饰品的表面获得均衡的研磨。 2、本实用新型的研磨装置,依所设的挟持单元及研磨单元,可快速对珠体饰品的
表面进行稳定的研磨,而获得品质稳定均一的珠体饰品。 综上所述,本实用新型一种珠体饰品的研磨装置,包括有一挟持单元,具有一对 可转动的挟持臂,用以挟持一珠体饰品,并使珠体饰品转动以及一研磨单元,相邻设置于 挟持单元,研磨装置包含有上、下相邻设置的一第一研磨机构与一第二研磨机构,用以依序 对珠体饰品的表面进行研磨,而获得一品质稳定均一的珠体饰品。本实用新型在技术上有 显著的进步,并具有明显的积极效果,诚为一新颖、进步、实用的新设计。 上述说明仅是本实用新型技术方案的概述,为了能够更清楚了解本实用新型的技 术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本实用新型的上述和其他目的、特征 和优点能够更明显易懂,以下特举较佳实施例,并配合附图,详细说明如下。

图1绘示一般珠体饰品的外观示意图。 图2绘示依照本实用新型一实施方式的珠体饰品的研磨装置的外观示意图。 图3绘示图2所示研磨装置其中挟持单元的放大图。 图4绘示图3所示挟持装置其中A部的放大图。 图5绘示图2所示研磨装置其中研磨单元的放大图。 图6绘示图5所示研磨单元其中研磨轮的外观示意图。 图7绘示图6所示研磨轮的侧视图,并显示其研磨珠体饰品的表面时的示意图。 图8绘示图5所示研磨装置其中由背面所视的位置调节机构的一部分的外观示意 图。 图9绘示图8所示位置调节机构另一部分的外观示意图,其是延续图8所示的结 构。 图10绘示图2所示研磨装置的侧视示意图,并显示其研磨动作示意图。 图11绘示图10所示研磨装置其中研磨轮对珠体饰品进行研磨动作的侧视示意图。100:挟持单元110:第一架体120:座体130:升降机构131:直向汽缸132:高度限位调节螺杆140:平台150:水平移动机构151:导轨152:导槽153:水平轴向汽缸154:左右限位调节螺杆160:避震轴承161:支持臂162:承载臂163:制震弹簧170:挟持臂171:第一挟持臂172:第二挟持臂180:珠体马达181:传动皮带200:研磨单元
6[0048]210:第一研磨机构211 :研磨马达212:驱动轮213 :研磨轮214:调整轮215 :研磨带216:弧形内壁220 :第二研磨机构230:第二架体231 :第一穿孔环240:位置调节机构250 :紧度调解螺杆260:L形调节臂261 :第一臂262:第二臂263 :第二穿孔环270:凸柱板271 :柱体272:板体273 :倾斜度上调节螺丝274:倾斜度下调节螺丝280 :安装座281:n形本体 282 :轴体[0060]283:滑块284 ::弹簧285:迫紧把手290 ::固定螺丝300:珠体饰品310 :球形表面[0063]320:侧平面330 ::穿孔
具体实施方式为更进一步阐述本实用新型为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下 结合附图及较佳实施例,对依据本实用新型提出的珠体饰品的研磨装置其具体实施方式
、 结构、特征及其功效,详细说明如后。 有关本实用新型的前述及其他技术内容、特点及功效,在以下配合参考图式的较 佳实施例的详细说明中将可清楚的呈现。通过具体实施方式
的说明,当可对本实用新型为 达成预定目的所采取的技术手段及功效得一更加深入且具体的了解,然而所附图式仅是提 供参考与说明之用,并非用来对本实用新型加以限制。 请参阅图2所示,绘示依照本实用新型一实施方式的珠体饰品的研磨装置的外观 示意图。如该图所示,本实用新型珠体饰品的研磨装置包括有一挟持单元100与相邻设置 于该挟持单元的一研磨单元200。 请一并参阅图3及图4所示,其绘示图2所示挟持单元100的放大图。如该等图 式所示,挟持单元100包括有一第一架体110、一座体120、一平台140、一避震轴承160、一 对挟持臂170、以及一珠体马达180。 第一架体110立设于一固定体上,例如立设于一地面上。 座体120经一升降机构130组设于第一架体110。其中升降机构130在第一架体 110的顶面与座体120的底面之间设有一直向汽缸131,使得座体120可相对于第一架体 IIO而上下升降。直向汽131设有一高度限位调节螺杆132,用以限制座体120的升降高度。 平台140经一水平移动机构150组设于座体120的顶面。该水平移动机构150的 结构是在座体120的顶面的两侧各设有一水平轴向延伸的导轨151,而平台140的底面设 有与导轨151相配应的导槽152,且座体120与平台140的内面之间设有一水平轴向汽缸 153,使得平台140可相对于座体120作左右横向的水平位移。座体120的端部延伸设有一左右限位调节螺杆154,用以限制平台140左右横向水平位移的距离。 避震轴承160装设于平台140。避震轴承160的相对侧分别设有一支持臂161与 一承载臂162。支持臂161的端部的两侧延伸设有一对挟持臂170,其包括相隔离的一第一 挟持臂171与一第二挟持臂172,其中第二挟持臂172可以例如气动方式轴向伸縮,而用以 与第一挟持臂171共同挟持或放开珠体饰品300 ;承载臂162的端部与平台140之间设有 一制震弹簧163,避震轴承160及制震弹簧163是用以制衡珠体饰品300被研磨时所产生的 震动。 珠体马达180装设于承载臂162。珠体马达180的输出轴经一传动皮带181传动 至第一挟持臂171,而可使第一挟持臂171及第二挟持臂172所挟持的珠体饰品300转动。 请一并参阅图5及图9所示,其绘示图2所示研磨单元200的放大图及其中位置 调节机构的外观示意图。如该等图式所示,研磨单元200包括有立设于例如地面的固定体 上的一第二架体230、以及上、下相邻设置于第二架体230的一第一研磨机构210与一第二 研磨机构220。每个研磨机构210及220各包括有一研磨马达211、一驱动轮212、一研磨轮 213、一调整轮214、以及一研磨带215。 研磨马达211装设于第二架体230。驱动轮212枢设于研磨马达211的输出轴。 研磨轮213枢设于第二架体230,并相邻驱动轮212,且研磨轮213具有相应于珠体饰品300 的球形表面的弧形内壁216。该弧形内壁216较佳者为具有弹性例如以橡胶制成的弧形内 壁,以利于经由研磨带215而与珠体饰品300的表面弹性接触,而利于研磨。调整轮214组 设于第二架体230,并与驱动轮212相分隔。研磨带215绕设于驱动轮212、研磨轮213以 及调整轮214的外周之间。研磨马达211带动驱动轮212转动,进而带动研磨带215绕转。 调整轮214与第二架体230之间设有一位置调节机构240,用以调节调整轮214的 位置及倾斜度等,进而调节研磨带215的紧度及倾斜度等。位置调节机构240包括有一紧 度调节螺杆250、一 L形调节臂260、一凸柱板270、以及一安装座280。 紧度调节螺杆250设于第二架体230。 L形调节臂260具有直角相连的一第一臂 261与一第二臂262,其中第一臂261穿设于第二架体230所设的一第一穿孔环231,且第一 臂261的端部与紧度调节螺杆250相抵顶;第二臂262则设有一第二穿孔环263。凸柱板 270具有直角相连的一柱体271与一板体272,柱体271穿设于L形调节臂260的第二穿孔 环263。安装座280组设于凸柱板270的板体272,安装座280设有一n形本体281、一轴体 282及穿设于轴体282的滑块283,而调整轮214即设于滑块283。当以紧度调节螺杆250 迫动L形调节臂260的位置,即可相对调节调整轮214的位置,亦即相对调节研磨带215的 紧度;当调节凸柱板270于第二穿孔环263的位置,即可相对调节调整轮214的前后位置, 亦即相对调节研磨带215的前后方向的位置。 第一穿孔环231、第二穿孔环263、以及凸柱板270的板体272各设有至少一固定 螺丝290,用以分别固定第一穿孔环231与L形调节臂260之间、第二穿孔环263与凸柱板 270之间、以及凸柱板270与安装座270之间的位置。 凸柱板270的板体272的上、下位置分别设有至少一倾斜度上调节螺丝273与至 少一倾斜度下调节螺丝274。依该等倾斜度上、下调节螺丝与安装座280之间不同的螺合长 度,即可相对调节调整轮214的倾斜度,亦即相对调节研磨带215的倾斜度。再者,安装座280的滑块283与n形本体281的内壁之间设有一弹簧284,而n形本体281于远离弹簧284的一端设有一迫紧把手285,以迫动滑块283相对于弹簧284呈一 抵紧状态,调整轮214上述被调节的位置。 图10绘示图2所示研磨装置的侧视示意图,并显示其研磨动作示意图,图ll绘示 图10所示研磨装置其中研磨轮213对珠体饰品300进行研磨动作的侧视示意图。请一并 参阅该等图式及图7所示,在研磨珠体饰品300时,将珠体饰品300的两侧平面320以手持 或以机械手臂(未图示)置于第一挟持臂171与第二挟持臂172之间,其中第二挟持臂172 朝向第一挟持臂的方向突伸,而与第一挟持臂171共同挟持珠体饰品300,珠体马达180经 传动皮带181及该对挟持臂170带动珠体饰品300转动,并依水平移动机构150带动平台 140及其上的挟持臂170及珠体饰品300等机件朝研磨单元200的第一研磨机构210的方 向移动(如l图lla所示);珠体饰品300被移动至其表面310陷入于第一研磨机构210的 研磨轮213的弧形内壁216,而以相配应于该弧形内壁216的研磨带215对珠体饰品300的 表面进行研磨(如图llb及图7所示);继之,升降机构130将座体120及其上的座体120、 平台140、挟持臂170及珠体饰品300等机件朝第二研磨机构220的方向移动,并使珠体饰 品300被移动至其表面310陷入于第二研磨机构220的研磨轮213的弧形内壁216,而以相 配应于该弧形内壁216的第二研磨机构220的研磨带215对珠体饰品300的表面进行第二 次的研磨(如图llc所示),而依此完成对珠体饰品300表面的研磨。 当第一研磨机构210及第二研磨机构220依序完成对珠体饰品300的研磨动作 后,挟持单元100回复至原先的位置,且第二挟持臂172朝远离第一挟持臂171的方向内 縮,放开对珠体饰品300的挟持,使得珠体饰品300自动掉落于一收集盒(未图示)。至此, 研磨装置可进行对下一珠体饰品的研磨。 依照本实用新型一实施方式的研磨装置,其设置上、下相邻的第一研磨机构210 与第二研磨机构220,可增长单独使用单一研磨机构的研磨带的使用寿命;而且第一与第 二研磨机构的的研磨带215可分别使用不同号数(细度)的砂纸研磨带,而可在同一研磨 装置上依序同时完成不同细度的研磨,其操作简捷便利,且可使得珠体饰品300的表面获 得均衡的研磨。 依照本实用新型一实施方式的研磨装置,依所设的挟持单元及研磨单元,可快速 对珠体饰品的表面进行稳定的研磨,而获得品质稳定均一的珠体饰品。 以上所述,仅是本实用新型的较佳实施例而已,并非对本实用新型作任何形式上 的限制,虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上,然而并非用以限定本实用新型,任何熟 悉本专业的技术人员在不脱离本实用新型技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容 作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本实用新型技术方案的内 容,依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍 属于本实用新型技术方案的范围内。
权利要求一种珠体饰品的研磨装置,其特征在于其包括一挟持单元,包含有一对可转动的挟持臂,用以挟持一珠体饰品,并使该珠体饰品转动以及一研磨单元,相邻设置于该挟持单元,该研磨装置包含有上、下相邻设置的一第一研磨机构与一第二研磨机构,用以依序对该珠体饰品的表面进行研磨。
2. 根据权利要求1所述的珠体饰品的研磨装置,其特征在于其中所述的挟持单元进一 步包括有一第一架体,立设于一固定体上;一座体,组设于该第一架体,且该座体与该第一架体之间设有一升降机构; 一平台,组设于该座体的顶面,且该平台与该座体之间设有一水平移动机构; 一避震轴承,装设于该平台,该避震轴承的相对侧分别设有一支持臂与一承载臂,该支 持臂的端部的两侧延伸设有该对挟持臂,该承载臂的端部与平台之间设有一制震弹簧; 该对挟持臂,包括相隔离的一第一挟持臂与一第二挟持臂,一珠体马达,装设于该承载臂,该珠体马达的输出轴经一传动皮带传动至该第一挟持臂。
3. 根据权利要求2所述的珠体饰品的研磨装置,其特征在于其中所述的第二挟持臂为 轴向伸縮,而用以与第一挟持臂共同挟持或放开该珠体饰品。
4. 根据权利要求3所述的珠体饰品的研磨装置,其特征在于其中所述的升降机构在该 第一架体的顶面与座体的底面之间设有一直向汽缸。
5. 根据权利要求4所述的珠体饰品的研磨装置,其特征在于其中所述的水平移动机构 在该座体的顶面的两侧各设有一水平轴向延伸的导轨,而该平台的底面设有与该导轨相配 应的导槽,且该座体与该平台的内面之间设有一水平轴向汽缸。
6. 根据权利要求4所述的珠体饰品的研磨装置,其特征在于其中所述的直向汽缸设有 一高度限位调节螺杆。
7. 根据权利要求5所述的珠体饰品的研磨装置,其特征在于其中所述的座体的端部延 伸设有一左右限位调节螺杆。
8. 根据权利要求1至7中任一权利要求所述的珠体饰品的研磨装置,其特征在于其中 所述的第一与第二研磨机构各装设于一第二架体,该第二架体立设于一固定体上,所述研 磨机构各包括有一研磨马达,装设于该第二架体; 一驱动轮,枢设于该研磨马达的输出轴;一研磨轮,枢设于该第二架体,并相邻于该驱动轮,且该研磨轮具有配应于该珠体饰品 的表面的弧形内壁;一调整轮,组设于该第二架体,并与该驱动轮相分隔,且该调整轮与该第二架体之间设 有一位置调节机构;以及一研磨带,绕设于该驱动轮、该研磨轮以及该调整轮的外周之间。
9. 根据权利要求8所述的珠体饰品的研磨装置,其特征在于其中所述的研磨轮的弧形 内壁为弹性弧形内壁。
10. 根据权利要求9所述的珠体饰品的研磨装置,其特征在于其中所述的位置调节机构包括有一紧度调节螺杆,设于该第二架体;一 L形调节臂,具有直角相连的一第一臂与一第二臂,该第一臂穿设于该第二架体所 设的一第一穿孔环,该第一臂的端部并与该紧度调节螺杆相抵顶;该第二臂设有一第二穿 孔环;一凸柱板,具有直角相连的一柱体与一板体,该柱体穿设于该L形调节臂的第二穿孔环;一安装座,组设于该凸柱板的板体,该安装座设有一n形本体、至少一轴体、以及穿设 于该轴体的滑块,该调整轮设于该滑块。
11. 根据权利要求io所述的珠体饰品的研磨装置,其特征在于其中所述的凸柱板的板体的上、下位置分别设有至少一倾斜度上调节螺丝与至少一倾斜度下调节螺丝。
12. 根据权利要求11所述的珠体饰品的研磨装置,其特征在于其中该滑块与该n形本 体的内壁之间设有一弹簧,而该n形本体于远离该弹簧的一端设有一迫紧把手,以迫动该滑块相对于该弹簧呈一抵紧状态。
13. 根据权利要求12所述的珠体饰品的研磨装置,其特征在于其中该第一穿孔环、该 第二穿孔环以及该凸柱板的板体各设有至少一固定螺丝。
专利摘要本实用新型是有关于一种珠体饰品的研磨装置,包括有一挟持单元,具有一对可转动的挟持臂,用以挟持一珠体饰品,并使珠体饰品转动以及一研磨单元,相邻设置于挟持单元,研磨装置包含有上、下相邻设置的一第一研磨机构与一第二研磨机构,用以依序对珠体饰品的表面进行研磨,而获得一品质稳定均一的珠体饰品。
文档编号B24B37/02GK201544115SQ20092017890
公开日2010年8月11日 申请日期2009年9月15日 优先权日2009年9月15日
发明者杨骐铭 申请人:苏澳昂渥有限公司
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