专利名称：湿式镀膜系统的制作方法
技术领域：
本发明涉及镀膜技术，尤其涉及一种湿式镀膜系统。
背景技术：
薄膜制备技术一般可分为干式镀膜与湿式镀膜两种，其中，湿式镀膜由于具有镀膜设备简单、便宜、沉积速率快、易于控制镀膜厚度、镀膜温度低、不受限于镀膜基材的形状及材料(甚至可在软性基材镀膜)等优点，近年来广泛应用于陶瓷、高分子及金属基材的薄膜制备。一般地，湿式镀膜时，基材需在不同的设备中流转，进行清洗、风干、镀膜、退火等工序，流转过程中，基板或镀在基材上的膜层暴露在空气中，容易被氧化，导致所镀的膜层品质不佳，良率下降。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种能提升镀膜品质良率的湿式镀膜系统。一种湿式镀膜系统，其包括一个低温腔室、一个加热腔室、一个隔离腔室、一个传输装置、一个清洗槽、一个镀膜槽、一个热风喷槽及一个加热槽。该隔离腔室连通该低温腔室及加热腔室以形成一个密闭的真空镀膜腔。该传输装置包括一个滑轨及一个升降手臂。 该滑轨跨设该低温腔室、隔离腔室及加热腔室。该升降手臂滑动设置于该滑轨上，用于夹持一个基材并带动该基材沿垂直于该滑轨的方向伸缩。该清洗槽、镀膜槽、热风喷槽及加热槽顺着该滑轨自该低温腔室至该加热腔室的滑向依次设置于该滑轨下。该清洗槽及镀膜槽位于该低温腔室内；该热风喷槽位于该隔离槽内；该加热槽位于该加热腔室内。利用本发明的湿式镀膜系统，基材可在传输装置的带动下，在单一、密闭的环境内 (镀膜腔)依次清洗、镀膜、风干及退火，避免基板不同设备中流装而被氧化，提升了良率。
图1为本发明较佳实施方式提供的湿式镀膜系统的结构示意图。主要元件符号说明湿式镀膜系统100镀膜腔101入气口103出气口105低温腔室10加热腔室20隔离腔室30传输装置40滑轨42升降手臂44
驱动马 达46动子48清洗槽50第一漏液口52镀膜槽60第二漏液口62热风喷槽70热风口72加热槽80拿取阀门90基板200
具体实施例方式下面将结合附图对本发明实施方式作进一步的详细说明。请参阅图1，本发明较佳实施方式的湿式镀膜系统100包括一个低温腔室10、一个加热腔室20、一个隔离腔室30、一个传输装置40、一个清洗槽50、一个镀膜槽60、一个热风喷槽70及一个加热槽80。隔离腔室20连通低温腔室10及加热腔室30以形成一个密闭的真空镀膜腔101。传输装置40包括一个滑轨42及一个升降手臂44。滑轨42跨设低温腔室10、隔离腔室20及加热腔室30。升降手臂44滑动设置于滑轨42上，用于夹持一个基材 200并带动基材200沿垂直于滑轨42的方向伸缩。清洗槽50、镀膜槽60、热风喷槽70及加热槽80顺着滑轨42自低温腔室10至加热腔室30的滑向依次设置于滑轨42下。清洗槽 50及镀膜槽60位于低温腔室10内；热风喷槽70位于隔离槽20内；加热槽80位于加热腔室30内。如此，基材200可在升降手臂44的夹持下，顺着滑轨42在单一、密闭的镀膜腔101 内依次滑向清洗槽50、镀膜槽60、热风喷槽70及加热槽80。在滑动过程中，升降手臂44沿远离清洗槽50、镀膜槽60、热风喷槽70或加热槽80的方向收缩，而在到达清洗槽50、镀膜槽60、热风喷槽70或加热槽80上方时，伸入清洗槽50、镀膜槽60、热风喷槽70或加热槽 80以对基板200进行清洗、镀膜、风干及退火等工艺，避免基板200在不同设备中流转而被氧化，提升了良率。镀膜腔101用于提供一个单一、密闭的真空环境，以防止基板200或所镀膜层(图未示)被氧化。具体地，镀膜腔101甚至可以有一个拿取阀门90，其在镀膜过程中关闭以提供密闭的真空环境，而在镀膜完成后打开，以供取下镀完膜的基板200并装载新的待镀膜基板200。具体地，湿式镀膜系统100还包括有一个入气口 103及一个出气口 105。入气口 103用于为镀膜腔101内引入惰性气体，如氮气，以使基板200的清洗、镀膜、风干及退火在惰性气体环境中进行，避免化学反应发生。出气口 105用于排出使用过的惰性气体，以保持镀膜腔101内气压平衡。根据气体的流动及使用特性，本实施方式中，入气口 103设置于低温腔室10靠近清洗槽40处，出气口 105设置于加热腔室30的顶部。可以理解，隔离腔室20是为了连通低温腔室10及加热腔室30两种不同的环境，其长度应视需求而定。传输装置40可以包括有一个驱动马达46及一个动子48。驱动马达46用于驱动动子48在滑轨42上滑动，而升降手臂44与动子48连接，如此，传输装置40可自动控制升降手臂44在滑轨42上的滑动。当然，在其他的实施方式中，也可以通过手动的方式驱动械手臂44在滑轨42上滑动。清洗槽50内有清洗液(图未示)，如水，并且包括有一个第一漏液口 52。第一漏液口 52伸出低温腔室10外，用于向清洗槽50内注入未使用的清洗液及漏出使用过的清洗液。本实施方式中，清洗槽50为一超声波清洗槽。 镀膜槽60内有镀膜溶液(图未示)，并且包括有一个第二漏液口 62。第二漏液口 62伸出低温腔室10外，用于向镀膜槽50内注入未使用的镀膜溶液及漏出使用过的镀膜溶液。热风喷槽70包括有一个热风口 72，热风口 72伸出隔离腔室10外并与一个热风源 (图未示)连接，用于向热风喷槽50内提供热风。加热槽80用于加热以对基板200进行退火工艺。一般地，加热槽80可在短时间内将基板200加热至400-600°C，并在短时间内停止加热，以让基板缓慢冷却、退火。优选地，湿式镀膜系统100还包括另一个设置于清洗槽50与镀膜槽60之间的热风喷槽70，用于风干刚清洗完的基板200。虽然本发明已以较佳实施方式披露如上，但是，其并非用以限定本发明，另外，本领域技术人员还可以在本发明精神内做其它变化等。当然，这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围之内。
权利要求
1.一种湿式镀膜系统，其特征在于包括一个低温腔室、一个加热腔室、一个隔离腔室、 一个传输装置、一个清洗槽、一个镀膜槽、一个热风喷槽及一个加热槽；该隔离腔室连通该低温腔室及加热腔室以形成一个密闭的真空镀膜腔；该传输装置包括一个滑轨及一个升降手臂；该滑轨跨设该低温腔室、隔离腔室及加热腔室；该升降手臂滑动设置于该滑轨上，用于夹持一个基材并带动该基材沿垂直于该滑轨的方向伸缩；该清洗槽、镀膜槽、热风喷槽及加热槽顺着该滑轨自该低温腔室至该加热腔室的滑向依次设置于该滑轨下；该清洗槽及镀膜槽位于该低温腔室内；该热风喷槽位于该隔离槽内；该加热槽位于该加热腔室内。
2.如权利要求1的湿式镀膜系统，其特征在于，该湿式镀膜系统镀还包括有一个入气口及一个出气口，该入气口用于向该镀膜腔内引入惰性气体，该出气口用于排出该惰性气体。
3.如权利要求2的湿式镀膜系统，其特征在于，该入气口设置于该低温腔室靠近该清洗槽处。
4.如权利要求2的湿式镀膜系统，其特征在于，该出气口设置于该加热腔室的顶部。
5.如权利要求1的湿式镀膜系统，其特征在于，该传输装置还包括有一个驱动马达及一个动子，该驱动马达用于驱动该动子在该滑轨上滑动，该升降手臂与该动子连接以带动该升降手臂滑动。
6.如权利要求1的湿式镀膜系统，其特征在于，该清洗槽包括有一个第一漏液口，该第一漏液口伸出该低温腔室外，用于向该清洗槽内注入及漏出清洗液。
7.如权利要求1的湿式镀膜系统，其特征在于，该清洗槽为一超声波清洗槽。
8.如权利要求1的湿式镀膜系统，其特征在于，该镀膜槽包括有一个第二漏液口，该第二漏液口伸出低温腔室外，用于向该镀膜槽内注入及漏出镀膜溶液。
9.如权利要求1的湿式镀膜系统，其特征在于，该热风喷槽包括有一个热风口，该热风口伸出该隔离腔室外，用于向该热风喷槽内提供热风。
10.如权利要求1的湿式镀膜系统，其特征在于，该湿式镀膜系统还包括另一个设置于该清洗槽与该镀膜槽之间的热风喷槽。
全文摘要
本发明涉及一种湿式镀膜系统，其包括一个低温腔室、一个加热腔室、一个隔离腔室、一个传输装置、一个清洗槽、一个镀膜槽、一个热风喷槽及一个加热槽。该隔离腔室连通该低温腔室及加热腔室以形成一个密闭的真空镀膜腔。该传输装置包括一个跨设该三个腔室的滑轨及一个滑动设置于该滑轨上、用于夹持一个基材的升降手臂。该清洗槽、镀膜槽、热风喷槽及加热槽顺着该滑轨自该低温腔室至该加热腔室的滑向依次设置于该滑轨下。该清洗槽及镀膜槽位于该低温腔室内；该热风喷槽位于该隔离槽内；该加热槽位于该加热腔室内。如此，基材可在单一、密闭的环境内依次清洗、镀膜、风干及退火，避免基板不同设备中流装而被氧化，提升了良率。
文档编号C23C18/00GK102220571SQ201010146840
公开日2011年10月19日 申请日期2010年4月15日 优先权日2010年4月15日
发明者裴绍凯 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司