专利名称：一种用于水钻斜面磨抛机的旋转架定位机构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种水钻(人造钻石)的斜面进行磨抛加工的一种水钻磨抛机， 尤其涉及其上用于实现旋转架旋转定位的旋转架定位机构。
背景技术：
公开号为CN101269472A的专利文献公开了一种四工位水钻斜面磨抛机，包括机 架，机架上设有旋转架，旋转架四面各设有一个固定夹具的机头，所述机架上设有磨削工 位、粗抛工位、精抛工位和上下料空位、分别与四个机头相对应；所述磨削工位上设有磨削 机构，所述磨削机构包括托架和架设在托架上的磨辊，磨辊的转轴与托架可转动和轴向滑 动连接，该转轴一端与设在机架上的磨削电机传动连接，该转轴另一端连接有驱动其做轴 向往复平动的平动机构，其中，所述托架设在机架上；所述粗抛工位和精抛工位上各设有一 组抛光机构，所述抛光机构包括托架和架设在托架上的抛辊，抛辊的转轴与托架可转动和 轴向滑动连接，该转轴一端与设在机架上的抛光电机传动连接，该转轴另一端连接有驱动 其做轴向往复平动的平动机构，其中，所述托架设在机架上。该专利文献采用磨抛辊对水钻 坯料进行磨抛加工，可以在不增加机器体积和制造成本、不影响机器运行稳定性的前提下， 大幅度提高磨抛机的加工效率。也正是因为采用磨抛辊进行磨抛加工，所以要求旋转架在 循环转换工位后能够准确定位以保证机头上的夹具的水钻排列方向与磨抛辊的轴向平行； 现有技术中，一般采用定位精度高的旋转电机进行自动定位，或者进一步采用顶出挡块限 制旋转架的转动范围来进行辅助定位。这样的定位机构在定位精度和可靠性方面还有所欠 缺。
发明内容为了解决上述的技术问题，本实用新型的目的是提供一种用于水钻斜面磨抛机的 旋转架定位机构，具有定位精度高、可靠性好等优点。为了达到上述的目的，本实用新型采用了以下的技术方案一种用于水钻斜面磨抛机的旋转架定位机构，包括机架和旋转架，所述旋转架上 固定设置有定位盘，定位盘在旋转架上设有与水钻斜面磨抛机的若干个工位相对应的若干 个定位销槽，所述机架上设有能够沿旋转架的径向移动的定位销，定位销一端与设置在机 架上的驱动装置连接，定位销另一端能够与所述定位销槽楔合。作为优选，所述驱动装置为定位气缸，定位气缸的活塞杆与定位销连接。采用气缸 作为驱动装置动作迅速、成本低。作为优选，所述定位盘在定位销槽位置设有检测定位销到位状态的检测开关。这 样机台控制系统可以及时获得旋转定位情况，避免误动作损坏机台和产品。作为优选，所述定位盘上设有与水钻斜面磨抛机的若干个工位相对应的若干个缓 冲器，机架上设有挡块气缸，挡块气缸的活塞杆上设置能够与缓冲器相接触缓冲的挡块。采 用缓冲器可以保证旋转到位及时、可靠。[0009]本实用新型由于采用了以上的技术方案，采用定位销楔合结构，定位更加准确可 靠，同时具有结构简单、可靠性好、成本低、使用寿命长等优点。
图1是本实用新型的结构示意图(俯视)；图2是定位机构中缓冲器部分的结构示意图(侧视)。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的具体实施方式
做一个详细的说明。实施例1 如图1所示的一种用于水钻斜面磨抛机的旋转架定位机构，包括机架7和旋转架， 所述旋转架上固定设置有定位盘10，定位盘10在旋转架上设有与水钻斜面磨抛机的若干 个工位相对应的若干个定位销槽96，所述机架7上设有能够沿旋转架的径向移动的定位销 92，定位销92 —端与设置在机架7上的驱动装置连接，定位销92另一端能够与所述定位销 槽96楔合。安装本实施例定位机构的水钻斜面磨抛机，包括机架7，机架7上设有旋转架，旋 转架下部通过带轮与旋转电机传动连接，旋转架顶部设置电控柜，旋转架上的线缆通过电 刷与机架上的线缆连接，旋转架上部三面各设有一个固定夹具的机头，所述机架上设有分 别与三个机头相对应的磨削工位、抛光工位和上下料工位，所述磨削工位上设有磨削机构， 所述抛光工位上设有抛光机构，所述上下料工位为空位；所述旋转架通过本实施例定位机 构进行旋转定位。如图1所示，本实施例包括固定在旋转架上的定位盘10，定位盘10在 旋转架的同一旋转周面上设有与磨削工位、抛光工位和上下料工位相对应的三个定位销槽 96，所述机架7上通过销座93滑动设置有定位销92，定位销92 —端与设置在机架7上的定 位气缸91的活塞杆连接，定位销92另一端能够与所述定位销槽96楔合，定位销92的移动 方向为旋转架径向；定位盘10在定位销槽96位置设有检测定位销92楔合状态的检测开关 94，该检测开关94连接至电控柜；为了确保旋转架旋转稳定、到位迅速准确，定位盘10上设 有与磨削工位、抛光工位和上下料工位相对应的三个缓冲器95 (本实施例采用压簧缓冲销 结构的缓冲器)，机架7上设有挡块气缸97，挡块气缸97的活塞杆顶部设置能够与缓冲器 95相接触缓冲的挡块98。当旋转架旋转一个工位后，挡块气缸97将挡块98顶起，挡块98 与其中相应的缓冲器95接触缓冲及时制动，定位气缸91推动定位销92顶出并与定位销槽 96楔合固定，检测开关94将检测到的定位信号反馈至电控柜。
权利要求1.一种用于水钻斜面磨抛机的旋转架定位机构，包括机架(7)和旋转架，其特征在于， 所述旋转架上固定设置有定位盘(10)，定位盘(10)在旋转架上设有与水钻斜面磨抛机的 若干个工位相对应的若干个定位销槽(96)，所述机架(7)上设有能够沿旋转架的径向移动 的定位销(92)，定位销(92) —端与设置在机架(7)上的驱动装置连接，定位销(92)另一端 能够与所述定位销槽(96)楔合。
2.根据权利要求1所述的一种用于水钻斜面磨抛机的旋转架定位机构，其特征在于， 所述驱动装置为定位气缸(91)，定位气缸(91)的活塞杆与定位销(9 连接。
3.根据权利要求1所述的一种用于水钻斜面磨抛机的旋转架定位机构，其特征在于， 所述定位盘(10)在定位销槽(96)位置设有检测定位销(92)到位状态的检测开关(94)。
4.根据权利要求1所述的一种用于水钻斜面磨抛机的旋转架定位机构，其特征在于， 所述定位盘(10)上设有与水钻斜面磨抛机的若干个工位相对应的若干个缓冲器(95)，机 架(7)上设有挡块气缸(97)，挡块气缸(97)的活塞杆上设置能够与缓冲器(％)相接触缓 冲的挡块(98)。
专利摘要本实用新型涉及一种用于水钻斜面磨抛机的旋转架定位机构，包括机架和旋转架，所述旋转架上固定设置有定位盘，定位盘在旋转架上设有与水钻斜面磨抛机的若干个工位相对应的若干个定位销槽，所述机架上设有能够沿旋转架的径向移动的定位销，定位销一端与设置在机架上的驱动装置连接，定位销另一端能够与所述定位销槽楔合。本技术方案采用定位销楔合结构，定位更加准确可靠，同时具有结构简单、可靠性好、成本低、使用寿命长等优点。
文档编号B24B41/02GK201881232SQ201020266259
公开日2011年6月29日 申请日期2010年7月21日 优先权日2010年7月21日
发明者虞卫东 申请人:浙江名媛工艺饰品有限公司