专利名称：真空多弧离子镀膜机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种镀膜机，尤其涉及一种真空多弧离子镀膜机。
背景技术：
目前，真空多弧离子镀膜机是对金属表面进行镀膜的专用设备，适用于镀制装 饰膜和超硬耐磨膜。现有技术的真空多弧离子镀膜机，包括真空抽气系统、真空室、真 空室门、设置在真空室中的工件转架以及设置在真空室体上的若干个弧源装置，弧源装 置包括与真空室体固定连接的法兰、设于法兰上的引弧装置和阴极水套、装在阴极水套 上的靶材、设于靶材上方的磁铁，磁铁与靶材的距离固定不变，存在对于不同靶材和工 况下，不能调节磁场强度使镀膜达到最佳工作状态的缺点。
实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题就是克服现有技术的不足，提供一种针对不同 靶材和工况下磁场强度可调的真空多弧离子镀膜机。本实用新型所采用的技术方案是真空多弧离子镀膜机，包括真空抽气系统、 真空室、真空室门、设置在真空室中的工件转架以及设置在真空室体上的若干个弧源装 置，弧源装置包括与真空室体固定连接的法兰、设于法兰上的引弧装置和阴极水套、装 在阴极水套上的靶材、设于靶材上方的磁铁，在阴极水套上插入固定连接的磁铁缸体， 磁铁缸体的上端固定连接磁缸调节套，磁缸调节套上设有螺纹连接的调节螺杆，磁铁与 调节螺杆的里端固定连接，磁铁置于磁铁缸体中。作为进一步改进，所述的磁铁由若干块永磁体环形间隔排列而成。本实用新型有益的技术效果是由于弧源装置中的磁铁与调节螺杆的里端固定 连接，旋转调节螺杆就可调节磁铁与靶材的相对位置，从而使真空室中的磁场强度发生 变化，镀膜机具有可针对不同靶材和工况下，达到最佳工作状态的优点。
图 1为本实用新型的结构示意图；图 2为图1的左视图；图 3为弧源装置的结构示意图；图 4为图3的A向放大视图(环形磁铁的结构示意图)
具体实施方式
以下结合附图和实施例对本实用新型作进一步描述如图1-3所示，真空多弧离子镀膜机，包括真空抽气系统、真空室、真空室门 1、设置在真空室中的工件转架2以及设置在真空室体9上的弧源装置3，弧源装置3包括 与真空室体9固定连接的法兰10、设于法兰10上的引弧装置12和阴极水套13、装在阴极水套13上的靶材14、设于靶材14上方的磁铁15，在阴极水套13上插入固定连接的磁 铁缸体16，磁铁缸体16的上端固定连接磁缸调节套17，磁缸调节套17上设有螺纹连接 的调节螺杆18，磁铁15与调节螺杆18的里端固定连接，磁铁15置于磁铁缸体16中。 在真空室中设有加热装置11，对真空室进行加温，加温温度可根据产品的不同工艺进行 设置。在真空室门1上设有观察窗8，便于观察镀膜状况。如图4所示，所述的磁铁15 由若干块永磁体19环形间隔排列而成，具有磁场分布均勻的优点。所述的阴极水套13与法兰10径向固定连接，轴向活动连接，装在阴极水套13 上的靶材14可根据不同工况的要求，进出位置可进行调节。所述的阴极水套13中的冷却水与靶材14直接接触，具有冷却效果更好的优点。 所述的引弧装置12包括引弧气缸20、绝缘套21和引弧杆22，引弧气缸20和绝缘套21 与法兰10固定连接，引弧杆22与绝缘套21径向固定连接，轴向活动连接，引弧杆22与 引弧气缸20的活塞杆固定连接。引弧气缸20动作直接带动引弧杆22动作，气动式引弧 比电磁式引弧时间更短。所述的弧源装置12的电源为脉冲电源，使电流更小，具有溅射 离子颗粒细腻，镀膜产品表面光泽度强的优点。所述的真空抽气系统包括低真空抽气装置和高真空抽气装置。所述的低真空抽 气装置包括罗茨真空泵5和机械真空泵7，高真空抽气装置包括维持真空泵6和扩散真空 泵4。其工作过程如下先开启罗茨真空泵5和机械真空泵7，进行低真空抽气，待真空 度抽至一定程度时，进入高真空抽气，由维持真空泵6和扩散真空泵4进行抽气，待真空 室的真空度抽气到8.0X 10_3Pa时，利用弧源装置3对装载在工件转架2上的镀膜产品进 行离子镀膜。
权利要求1.真空多弧离子镀膜机，包括真空抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中 的工件转架以及设置在真空室体上的若干个弧源装置，弧源装置包括与真空室体固定连 接的法兰、设于法兰上的引弧装置和阴极水套、装在阴极水套上的靶材、设于靶材上方 的磁铁，其特征在于在阴极水套上插入固定连接的磁铁缸体，磁铁缸体的上端固定连 接磁缸调节套，磁缸调节套上设有螺纹连接的调节螺杆，磁铁与调节螺杆的里端固定连 接，磁铁置于磁铁缸体中。
2.根据权利要求1所述的真空多弧离子镀膜机，其特征在于所述的磁铁由若干块 永磁体环形间隔排列而成。
3.根据权利要求1或2所述的真空多弧离子镀膜机，其特征在于所述的阴极水套与 法兰径向固定连接，轴向活动连接。
4.根据权利要求1或2所述的真空多弧离子镀膜机，其特征在于所述的阴极水套中 的冷却水与靶材直接接触。
5.根据权利要求1或2所述的真空多弧离子镀膜机，其特征在于所述的引弧装置包 括引弧气缸、绝缘套和引弧杆，引弧气缸和绝缘套与法兰固定连接，引弧杆与绝缘套径 向固定连接，轴向活动连接，引弧杆与引弧气缸的活塞杆固定连接。
6.根据权利要求1或2所述的真空多弧离子镀膜机，其特征在于所述的弧源装置的 电源为脉冲电源。
专利摘要本实用新型涉及一种真空多弧离子镀膜机，包括真空抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中的工件转架以及设置在真空室体上的若干个弧源装置，弧源装置包括与真空室体固定连接的法兰、设于法兰上的引弧装置和阴极水套、装在阴极水套上的靶材、设于靶材上方的磁铁，在阴极水套上插入固定连接的磁铁缸体，磁铁缸体的上端固定连接磁缸调节套，磁缸调节套上设有螺纹连接的调节螺杆，磁铁与调节螺杆的里端固定连接，磁铁置于磁铁缸体中。其有益的技术效果是可调节磁铁与靶材的相对位置，从而使真空室中的磁场强度发生变化，镀膜机具有可针对不同靶材和工况下，达到最佳工作状态的优点。
文档编号C23C14/32GK201793722SQ20102053948
公开日2011年4月13日 申请日期2010年9月17日 优先权日2010年9月17日
发明者林锡强, 陈孝田 申请人:温州市佳能真空电镀设备科技有限公司