专利名称：一种环形气囊抛光磨头的制作方法
技术领域：
一种环形气囊抛光磨头
技术领域：
本实用新型涉及抛光技术领域，特别涉及一种环形气囊抛光磨头。背景技术：
随着光电子技术的发展，在新型的具有高性能、高精密、高集成的光电子系统中， 采用光学玻璃和微晶玻璃等硬脆材料制造的元器件应用不断增多，而且要求具有很高的面形精度和超光滑的表面，因此高精度的镜面抛光技术是必不可少的。在过去几十年里，出现了许多抛光方法，如浮法抛光、浴法抛光、磁流变抛光、机械化学抛光等等，以适应各种光学材料超高精度、超光滑、无损伤的加工。然而，该等抛光方法应用光学玻璃或微晶玻璃等硬脆材料制造的元器件时，效果不佳。
实用新型内容本实用新型的目的是提供一种环形气囊抛光磨头，以解决上述技术问题。为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案一种环形气囊抛光磨头，包括抛光布、密封膜和基体，所述密封膜固定于所述基体上，所述密封膜与基体之间形成密封气腔，所述抛光布设置于所述密封膜外表面。所述环形气囊抛光磨头还包括充气阀，所述充气阀连通所述密封气腔。所述环形气囊抛光磨头还包括内压圈、螺栓和外压圈，所述密封膜通过内压圈、螺栓和外压圈固定于所述基体上。所述密封气腔呈环形。所述密封气腔中充有气体。与现有技术相比，本实用新型具有以下优点本实用新型一种环形气囊将密封膜固定于基体表面，使密封膜与基体表面形成密封气腔，该密封气腔中充有一定量气体使密封膜外张形成环形气囊，密封膜外表面贴上一层抛光布，抛光布与工件接触并产生相对运动时，通过抛光液的作用，达到抛光玻璃表面的目的，该种环形气囊抛光磨头可安装在光学零件铣磨机上，按照斜截圆原理实现平面、球面等光学玻璃或微晶玻璃等硬脆材料的高精度面形的抛光。
图1为本实用新型一种环形气囊抛光磨头的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型做进一步详细描述。请参阅图1所示，本实用新型一种环形气囊抛光磨头包括抛光布1、内压圈2、螺栓 3、密封膜4、外压圈5、基体6、充气阀7和密封圈8。密封膜4外覆盖有抛光布1，抛光布1和密封膜4通过内压圈2、螺栓3和外压圈5固定于基体6顶部，充气阀7通过密封圈8固定于基体6底部。密封膜4与基体6之间形成密封气腔，当通过充气阀7往密封气腔充入气体，抛光布1形成柔性环形凸起气冠，并可通过控制气体的输入量来控制气冠的压力。密封气腔中冲完气体后形成环形的柔性气囊抛光磨头，该抛光磨头与工件接触并产生相对运动时，通过抛光液的作用，达到抛光玻璃表面的目的，该种环形气囊抛光磨头能够实现平面、球面等光学元件的高精度面形的抛光。
权利要求1.一种环形气囊抛光磨头，其特征在于包括抛光布(1)、密封膜(4)和基体(6)，所述密封膜(4)固定于所述基体(6)上，所述密封膜(4)与基体(6)之间形成密封气腔，所述抛光布(1)设置于所述密封膜(4)外表面。
2.如权利要求1所述一种环形气囊抛光磨头，其特征在于所述环形气囊抛光磨头还包括充气阀(7)，所述充气阀(7)连通所述密封气腔。
3.如权利要求1所述一种环形气囊抛光磨头，其特征在于所述环形气囊抛光磨头还包括内压圈O)、螺栓⑶和外压圈(5)，所述密封膜(4)通过内压圈O)、螺栓(3)和外压圈(5)固定于所述基体(6)上。
4.如权利要求1所述一种环形气囊抛光磨头，其特征在于所述密封气腔呈环形。
5.如权利要求1至4中任一项所述一种环形气囊抛光磨头，其特征在于所述密封气腔中充有气体。
专利摘要本实用新型提供一种环形气囊抛光磨头，包括抛光布、密封膜和基体，所述密封膜固定于所述基体上，所述密封膜与基体之间形成密封气腔，所述抛光布设置于所述密封膜外表面。本实用新型一种环形气囊将密封膜固定于基体表面，使密封膜与基体表面形成密封气腔，该密封气腔中充有一定量气体使密封膜外张形成囊，密封膜外表面贴上一层抛光布，抛光布与工件接触并产生相对运动时，通过抛光液的作用，达到抛光玻璃表面的目的，该种环形气囊抛光磨头能够实现平面、球面等光学玻璃或微晶玻璃等硬脆材料的高精度面形的抛光。
文档编号B24B41/04GK202088093SQ20102058434
公开日2011年12月28日 申请日期2010年10月29日 优先权日2010年10月29日
发明者王新海 申请人:西安北方捷瑞光电科技有限公司