专利名称：一种微型磁流变磨头的制作方法
技术领域：
一种微型磁流变磨头
技术领域：
本实用新型涉及抛光技术领域，特别涉及一种微型磁流变磨头。背景技术：
随着光学与微电子学等的不断发展，对关键零件表面精度的要求越来越高，需要达到纳米甚至原子级，相应地，如何实现零件的超光滑抛光已经成为精密加工的一个重要研究课题，并且越来越受到重视。近年来，磁流变抛光技术(MRF)作为一种超光滑表面加工技术，以其加工效率高、无亚表层损伤等一系列优点成为国内外竞相研究的热点。目前，国内外磁流变抛光技术主要集中于“点接触”式和“面接触”式两种抛光方式。然而，基于“点接触”式和“面接触”式的磁流变抛光技术以抛光平面、球面和非球面光学元件为主，在抛光微孔、双面同时抛光方面比较困难。
实用新型内容本实用新型的目的是提供一种微型磁流变磨头，以解决上述技术问题。为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案一种微型磁流变磨头，包括上磁极、连接件、压圈、励磁线圈、垫圈、基座和下磁极； 上磁极固定于连接杆上，下磁极固定于基座上，基座上设有立柱，立柱顶端固定于连接杆上，立柱外周由下至上依次套设有垫圈、励磁线圈和压圈。所述上磁极和下磁极同轴。所述上磁极和下磁极之间存在间隙。所述微型磁流变磨头还包括控制所述励磁线圈中电流大小的控制器，所述控制器连接所述励磁线圈。与现有技术相比，本实用新型具有以下优点本实用新型一种微型磁流变磨头通过控制励磁线圈中电流的大小进而控制微型磁流变磨头的硬度，从而实现不同效率的抛光；本实用新型微型磁流变磨头可以实现硬脆材料的微孔抛光、微型光学元件双面的同时抛光等。
图1为本实用新型一种微型磁流变磨头的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型做进一步详细描述。请参阅图1所示，本实用新型一种微型磁流变磨头包括上磁极1、连接件2、压圈3、 励磁线圈4、垫圈5、基座6和下磁极7。上磁极1通过螺母固定于连接杆2上，下磁极7通过了螺母固定于基座6上，基座 6上设有立柱61，立柱61外周由下至上依次套设有垫圈5、励磁线圈4和压圈3，立柱61顶部延伸出连接杆2外，通过螺钉将连接件2、压圈3、励磁线圈4、垫圈5和基座6紧固在一起。 当向励磁线圈4中通入电流时，上磁极1、连接件2、基座6和下磁极7构成磁场回路，上下磁极(1、7)之间存在一定间隙由于漏磁而形成闭合梯度磁场，当磁流液也处于梯度磁场中时，迅速由牛顿流体转变成Bingham介质，从而形成微型磁流变抛光磨头，其硬度可以通过控制励磁线圈4的电流大小来控制。
权利要求1.一种微型磁流变磨头，其特征在于包括上磁极(1)、连接件(2)、压圈(3)、励磁线圈 、垫圈(5)、基座(6)和下磁极(7)；上磁极(1)固定于连接杆(2)上，下磁极(7)固定于基座(6)上，基座(6)上设有立柱(61)，立柱(61)顶端固定于连接杆( 上，立柱(61)外周由下至上依次套设有垫圈(5)、励磁线圈(4)和压圈(3)。
2.如权利要求1所述一种微型磁流变磨头，其特征在于所述上磁极(1)和下磁极(7) 同轴。
3.如权利要求2所述一种微型磁流变磨头，其特征在于所述上磁极(1)和下磁极(7) 之间存在间隙。
4.如权利要求3所述一种微型磁流变磨头，其特征在于所述微型磁流变磨头还包括控制所述励磁线圈(4)中电流大小的控制器，所述控制器连接所述励磁线圈G)。
专利摘要本实用新型提供一种微型磁流变磨头，包括上磁极、连接件、压圈、励磁线圈、垫圈、基座和下磁极；上磁极固定于连接杆上，下磁极固定于基座上，基座上设有立柱，立柱顶端固定于连接杆上，立柱外周由下至上依次套设有垫圈、励磁线圈和压圈。本实用新型一种微型的磁流变磨头通过控制励磁线圈中电流的大小进而控制微型磁流变磨头的硬度，从而实现不同效率的抛光；本实用新型微型磁流变磨头可以实现硬脆材料的微孔抛光、微型光学元件双面的同时抛光等。
文档编号B24B1/00GK202088094SQ201020584348
公开日2011年12月28日 申请日期2010年10月29日 优先权日2010年10月29日
发明者王新海 申请人:西安北方捷瑞光电科技有限公司