专利名称：真空镀膜装置的改良结构的制作方法
技术领域：
本发明属于镀膜设备，特别涉及一种在真空沉积腔室内对工件镀膜的加工装置的改良结构。
背景技术：
真空镀膜技术在经济社会各个领域有着广泛应用，特别是科技迅速发展、人们生活的不断提高以及高科技镀膜产品的不断涌现，给真空镀膜技术的发展和推广应用带来了新的机遇。真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。需要镀膜的被称为 基片，镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。如蒸发镀膜就是加热靶材，使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。常见的蒸发镀膜就是放置镀膜工件的托架置于真空沉积腔室内，该托架通过环状滚珠轴转动固定于环状支撑架，而该环状支撑架环周设有环状齿条，并与之啮合的驱动齿轮及驱动马达控制转动，实现该托架连带工件转动，而该托架下方放置靶材，该靶材通过加热机构加热挥发，从而实现工件在真空腔室内高温镀膜操作。然而，驱动放置工件的托架转动机构十分繁琐，不利于放置各种尺寸的工件。
发明内容
为了克服上述缺陷，本发明提供了一种基于真空溅射沉积技术的真空镀膜装置的改良结构，使得放置工件的托架驱动机构简便实用。本发明为了解决其技术问题所采用的技术方案是一种真空镀膜装置的改良结构，包括真空沉积腔室以及位于该真空沉积腔室内的托架和靶材，该托架通过第一转轴和轴承转动固定于该真空沉积腔室顶部，而该第一转轴由驱动马达控制连带该托架转动，该革巴材位于该托架下方，通过加热机构控制该IE材加热蒸发。作为本发明的进一步改进，该托架呈穹顶状结构，该托架内侧向下设有多个用于固定工件的挂钩，该托架顶部中心通过该第一转轴和轴承转动固定于该真空沉积腔室顶部。作为本发明的进一步改进，该托架与该真空沉积腔室顶部之间至少设有一个能对该托架上的工件加热的预加热机构。作为本发明的进一步改进，该预加热机构为电热丝加热体或红外加热体。作为本发明的进一步改进，该加热机构为安装于该真空沉积腔室内并可放置该靶材的槽状金属加热体，该槽状金属加热体两侧设有一对电极，该对电极另一端引出于该真空沉积腔室后，分别与电源变压器之次级绕组引出端连接。作为本发明的进一步改进,该祀材还通过转动机构控制能相对该托架转动,该转动机构为通过轴承固定于该真空沉积腔室内侧底部的第二转轴，该第二转轴上端与绝缘连接杆一端固定，并且该绝缘连接杆与该第二转轴呈直角连接，该绝缘连接杆另一端固定该槽状电热体，该对电极另一端沿该绝缘连接杆，并通过该第二转轴内的两通孔引出，该第二转轴下端伸出该真空沉积腔室外后固定滚轮，并通过传送带和马达控制转动。作为本发明的进一步改进，该真空沉积腔室侧部设有可装卸镀膜工件的操作门。本发明的有益技术效果是所述托架顶部中心通过第一转轴转动固定于呈穹顶结构，该第一转轴又可由控制马达驱动转动，这样将该托架驱动转动机构设计在该真空沉积腔室内侧顶部后，将镀膜工件放置于该托架的操作更加方便。所述祀材还通过转动机构控制相对该托架转动,该转动机构为通过轴承固定于该真空沉积腔室内侧底部的第二转轴，该第二转轴上端与绝缘连接杆一端固定，并且该绝缘连接杆与该第二转轴呈直角连接，该绝缘连接杆另一端固定该槽状电热体，该对电极另一端沿该绝缘连接杆，并通过该第二转轴内的两通孔引出，该第二转轴下端伸出该真空沉积腔室外后固定滚轮，并通过传送带和马达控制转动。这样托架和靶材都可以分别控制转动，当靶材通过加热机构加热挥发后，沉积于该托架上工件镀膜层厚度一致性更加合理。·
图I为本发明的半剖视结构示意图。对照以上附图，作如下补充I——真空沉积腔室 60——第二转轴2——托架61——轴承3-靶材63-滚轮4——第一转轴64——传送带5——电热丝加热体 66——马达50——槽状金属加热体 73——电源变压器51——通孔100——工件52——绝缘连接杆
具体实施例方式结合图1，作以下进一步描述一种真空镀膜装置的改良结构，包括真空沉积腔室I以及位于该真空沉积腔室内的托架2和靶材3，该托架2可放置工件100，该托架2呈穹顶状结构，该托架内侧向下设有多个用于固定工件的挂钩，该托架顶部中心通过该第一转轴4和轴承转动固定于该真空沉积腔室I顶部，而该第一转轴4由驱动马达控制连带该托架2转动，该托架2与该真空沉积腔室I顶部之间至少设有一个能对该托架上的工件加热的预加热机构，该预加热机构为电热丝加热体5(也可以采用红外加热体)，以便镀膜工件一直处于适合镀膜温度，该靶材3位于该托架下方，通过加热机构控制该靶材加热蒸发，实现对该托架上工件镀膜，这样所述靶材经加热机构加热后，其组分蒸发到穹顶结构上的工件，达到真空镀膜目的，该加热机构为安装于该真空沉积腔室内并可放置该靶材3的槽状金属加热体，该槽状金属加热体两侧设有一对电极，该对电极另一端引出于该真空沉积腔室I后，分别与电源变压器73之次级绕组引出端连接，该真空沉积腔室侧部设有操作门，便于装卸该托架上镀膜工件。
为了靶材蒸发成份更均匀镀膜于工件各表面，该靶材3还通过转动机构控制能相对该托架2转动，该转动机构为通过轴承61固定于该真空沉积腔室I内侧底部的第二转轴60，该第二转轴60上端与绝缘连接杆52 —端固定，并且该绝缘连接杆52与该第二转轴60呈直角连接，该绝缘连接杆52另一端固定该槽状金属加热体50，该对电极另一端沿该绝缘连接杆52，并通过该第二转轴60内的两通孔51引出，该第二转轴60下端伸出该真空沉积腔室I外后固定滚轮63，并通过传送带64和马达66控制转动。所述真空沉积腔室实现真空度属于现有技术，不是本发明的技术创新点，在此不作陈述，上述电热丝加热方式也可以采用红外加热体。所谓金属加热体就是利用金属体两端接通交流电，使得金属体发热产生热量，而红外加热和金属体加热不是本发明的创新点，属于现有 技术，在此不作详细描述。
权利要求
1.一种真空镀膜装置的改良结构，包括真空沉积腔室(I)以及位于该真空沉积腔室内的托架(2)和靶材(3)，其特征在于该托架(2)通过第一转轴(4)和轴承转动固定于该真空沉积腔室顶部，而该第一转轴(4)由驱动马达控制连带该托架(2)转动，该靶材(3)位于该托架下方，通过加热机构控制该IE材加热蒸发。
2.根据权利要求I所述的真空镀膜装置的改良结构，其特征在于该托架(2)呈穹顶状结构，该托架内侧向下设有多个用于固定工件(100)的挂钩，该托架顶部中心通过该第一转轴(4)和轴承转动固定于该真空沉积腔室(I)顶部。
3.根据权利要求I或2所述的真空镀膜装置的改良结构，其特征在于该托架(2)与该真空沉积腔室(I)顶部之间至少设有一个能对该托架上的工件加热的预加热机构。
4.根据权利要求3所述的真空镀膜装置的改良结构，其特征在于该预加热机构为电热丝加热体(5)或红外加热体。
5.根据权利要求I或2所述的真空镀膜装置的改良结构，其特征在于该加热机构为安装于该真空沉积腔室内并可放置该靶材(3)的槽状金属加热体，该槽状金属加热体两侧设有一对电极，该对电极另一端引出于该真空沉积腔室(I)后，分别与电源变压器(73)之次级绕组引出端连接。
6.根据权利要求5所述的真空镀膜装置的改良结构，其特征在于该靶材(3)还通过转动机构控制能相对该托架(2)转动，该转动机构为通过轴承(61)固定于该真空沉积腔室(I)内侧底部的第二转轴(60)，该第二转轴￠0)上端与绝缘连接杆(52) —端固定，并且该绝缘连接杆(52)与该第二转轴￠0)呈直角连接，该绝缘连接杆(52)另一端固定该槽状金属加热体(50)，该对电极另一端沿该绝缘连接杆(52)，并通过该第二转轴￠0)内的两通孔(51)引出，该第二转轴(60)下端伸出该真空沉积腔室(I)外后固定滚轮(63)，并通过传送带(64)和马达(66)控制转动。
7.根据权利要求I所述真空镀膜装置的改良结构，其特征在于该真空沉积腔室侧部设有可装卸镀膜工件的操作门。
全文摘要
一种真空镀膜装置的改良结构，包括真空沉积腔室以及位于真空沉积腔室内的托架和靶材，该托架呈穹顶状结构，该托架内侧向下设有多个用于固定工件的挂钩，该托架顶部中心通过该转轴转动固定于该真空沉积腔室顶部，该转轴可由控制马达驱动转动，该托架与该真空沉积腔室顶部之间至少设有一个能对该托架上的工件加热的电阻加热体，该靶材位于该托架下方，通过加热机构控制该靶材加热挥发，实现对该托架上工件镀膜，该加热机构为安装于该真空沉积腔室内并可放置该靶材的槽状电热体，该槽状电热体两侧设有一对电极，该对电极另一端引出于该真空沉积腔室与电源变压器之次级绕组引出端连接，本发明使得放置工件的托架驱动机构简便实用。
文档编号C23C14/34GK102899619SQ201110210048
公开日2013年1月30日 申请日期2011年7月26日 优先权日2011年7月26日
发明者黄水祥 申请人:御林汽配(昆山)有限公司