专利名称：立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种立式真空镀膜机的装置，尤其涉及一种立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置。
背景技术：
现有立式真空镀膜机如图6所示，是在腔体70内的底部以及顶部分别设有一沿左、右方向延伸的驱动构造71以及一导引构造72，又在腔体70的前面以及内部的后侧各设有一溅射源73以及一加热器74，并将玻璃载具75设置在驱动构造71上而可沿左、右方向行进，当玻璃载具75行进时顶部受导引构造72的导引而能进行一直线的运动。前述现有的导引构造72是在腔体70顶部的底面结合多个分别朝下垂直延伸的基板支架杆721，在多数个基板支架杆721的底端结合一基板722，在基板722底面以左、右间隔的形态结合多对限位滚轮723，各对限位滚轮723分设于前、后两侧，并且各以内侧抵靠在玻璃载具75顶缘的前面与后面，作为传输玻璃载具75时的导正以及上方的固定手段。但因制程上的需求，镀膜过程中需要以加热器74将腔体70内的温度加温至300°C 至500°C，内部的高温容易造成导引构造72的热变形，使各对限位滚轮723的位置偏移，造成传输玻璃载具75时的不顺情况甚至卡住玻璃载具75不动，影响到镀膜作业的进行。因此，现有的立式真空镀膜机的导引构造缺乏冷却的设计，因此在加热后容易产生热变形，进而影响传输玻璃载具的流畅。
实用新型内容本实用新型的目的是提供一种立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置，在导引构造设有水冷管，以水冷管将导引构造热量带走而达到避免热变形的功效。为达到上述目的，本实用新型提供一种立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置，包括一腔体，为竖直的壳体并具有前、后面以及左、右两侧，在该腔体内部以贯穿左、右两侧的形态穿设一溅镀空间；以及一水冷导引构造，设置在该溅镀空间内的顶部，在该腔体顶部的底面以左、右间隔的形态结合多个分别朝下垂直延伸的基板支架杆，在多数个基板支架杆的底端结合一基板，该基板为沿左、右方向延伸的长板体，在该基板的顶面结合一水冷管，在该基板的底面结合多个朝下凸伸的滚轮座，在各滚轮座底部的周面以可旋转的形态套设一滚轮。进一步，本实用新型在所述基板的前、后两侧缘分别形成一朝上弯曲延伸的立板部，在前、后各立板部的内面与该基板的顶面之间分别形成一弧形且沿左、右方向延伸的弧曲面；所述水冷管为U形的管体且沿左、右方向延伸，该水冷管前、后两侧的外面贴设抵靠在两弧曲面。更进一步，本实用新型所述各个滚轮座是以左、右间隔的形态结合在所述基板底面的中间。
3[0012]本实用新型是设置在腔体内，以各个滚轮限制并导引玻璃载具的行进方向为一直线，在水冷导引构造的基板上增设水冷管，通过水冷管引进外部的冷却水进入腔体内循环， 将水冷导引构造上的热能带走。本实用新型的有益效果在于，由于水冷管能冷却水冷导引构造的各基板支架杆、 基板以及滚轮座的温度，因此使水冷导引构造的各部分皆能保持一定的温度，防止构造产生热变形而影响到传输的稳定性，因此能保持输送的玻璃载具所固定的玻璃机板镀膜的均勻性。
图1是本实用新型较佳实施例的立体图。图2是本实用新型较佳实施例的分解图。图3是本实用新型较佳实施例的剖面图。图4是本实用新型较佳实施例的侧视图。图5是本实用新型较佳实施例放大的剖面图。图6是现有立式真空镀膜机的示意图。元件符号说明10……腔体12......开口30......驱动构造311……输送轮41……加热器支架51……基板支架杆521……立板部53……滚轮座55......水冷管61……承载外框70……腔体72……导引构造722......基板73……溅射源75……玻璃载具
具体实施方式
一种立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置，请参看图1至图5的较佳实施例， 为本实用新型装设在立式真空镀膜机的使用形态，包括一腔体10，为竖直的矩形壳体并具有前、后面以及左、右两侧，在腔体10内部以贯穿左、右两侧的形态穿设一溅镀空间11，为竖直且沿左、右方向延伸的矩形孔洞，对应溅镀空间11的左、右两端，在腔体10相反位置的左、右两侧面分别形成一矩形的开口 12。一溅射源20，结合在腔体10的前面。
11……溅镀空间 20……溅射源 31……输送轮支架 40……加热器 50……水冷导引构造 52……基板 522……弧曲面 54……滚轮 60……玻璃载具 62……导引沟 71……驱动构造 721……基板支架杆 723……限位滚轮 74……加热器[0039]一驱动构造30，设置在溅镀空间11内的底部，并在腔体10底部的顶面结合一沿左、右方向延伸的输送轮支架31，在输送轮支架31以左、右间隔的形态结合多个输送轮 311。一加热器40，为竖直设置的板形加热器并设在溅镀空间11内的后侧，在输送轮支架31结合一朝后延伸并依托加热器40的加热器支架41。一水冷导引构造50，设置在溅镀空间11内的顶部，并且在腔体10顶部的底面以左、右间隔的形态结合多个分别朝下垂直延伸的基板支架杆51，在多数个基板支架杆51的底端结合一基板52，为沿左、右方向延伸的长板体，并且在前、后两侧缘分别形成一朝上弯曲延伸的立板部521，在前、后各立板部521部的内面与基板52底部的顶面之间分别形成一弧形且沿左、右方向延伸的弧曲面522，在基板52底面的中间以左、右间隔的形态结合多个分别朝下凸伸的滚轮座53，各滚轮座53为圆形的竖直柱体，并且各滚轮座53底部的周面以可旋转的形态套设一滚轮54，又在基板52的顶面贴设有一 U形且沿左、右方向延伸的水冷管55，以水冷管55前、后两侧的外面贴设抵靠在两弧曲面522，以紧密的接触达到较佳的散热传输效果。一玻璃载具60，设有一承载外框61，为矩形且竖直设置的框体，在玻璃载具60的内侧可定位承载需要镀膜的玻璃基板，承载外框61以底面置放在输送轮支架31的各个输送轮311上，在承载外框61的顶部凹设一沿左、右方向延伸且贯穿承载外框61左、右两侧的导引沟62，以导引沟62容纳各个水冷导引构造50的滚轮M并受各滚轮M的导引。本实用新型如前述较佳实施例，是在水冷导引构造50的底部设有一直线成排的滚轮M以外，如同现有技术的设置方式，也可将滚轮M设为前、后成对且沿左、右方向间隔设置多对的形态，由于本实用新型的构造特征主要在于水冷管55的冷却作用，故导引作用的滚轮M设置方式在此不加以限制。本实用新型是设置在腔体10内，在水冷导引构造50的基板52上增设水冷管55， 通过水冷管55引进外部的冷却水进入腔体10内循环，将水冷导引构造50上的热能带走， 使水冷导引构造50的各基板支架杆51、基板52以及滚轮座53皆能保持一定的温度，防止构造热变形而影响到传输的稳定性，因此能保持输送的玻璃载具60所固定的玻璃机板镀膜的均勻性。
权利要求1.一种立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置，其特征在于，包括一腔体，为竖直的壳体并具有前、后面以及左、右两侧，在该腔体内部以贯穿左、右两侧的形态穿设一溅镀空间；以及一水冷导引构造，设置在该溅镀空间内的顶部，在该腔体顶部的底面以左、右间隔的形态结合多个分别朝下垂直延伸的基板支架杆，在多数个基板支架杆的底端结合一基板，该基板为沿左、右方向延伸的长板体，在该基板的顶面结合一水冷管，在该基板的底面结合多个朝下凸伸的滚轮座，在各滚轮座底部的周面以可旋转的形态套设一滚轮。
2.根据权利要求1所述的立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置，其特征在于，在所述基板的前、后两侧缘分别形成一朝上弯曲延伸的立板部，在前、后各立板部的内面与该基板的顶面之间分别形成一弧形且沿左、右方向延伸的弧曲面；所述水冷管为U形的管体且沿左、右方向延伸，该水冷管前、后两侧的外面贴设抵靠在两弧曲面。
3.根据权利要求1或2所述的立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置，其特征在于， 所述各个滚轮座是以左、右间隔的形态结合在所述基板底面的中间。
专利摘要一种立式真空镀膜机的高温基板传输水冷装置，包括一腔体，为竖直的壳体并具有前、后面以及左、右两侧，在该腔体内部以贯穿左、右两侧的形态穿设一溅镀空间；在腔体内的顶部设有水冷导引构造，其在腔体顶部的底面以左、右间隔的形态结合多个分别朝下垂直延伸的基板支架杆，在各基板支架杆底端结合一基板，该基板为沿左、右方向延伸的长板体，在基板顶面结合水冷管，在基板底部结合多个朝下凸伸的滚轮座，在各滚轮座底部的周面以可旋转的形态套设一导引作用的滚轮，以水冷管引进外部的冷却水进入腔体内，将水冷导引构造的热能带走，使水冷导引构造上的温度保持一定，防止热变形影响滚轮传输的稳定性，因此能保持镀膜的均匀性。
文档编号C23C14/34GK201990722SQ20112005656
公开日2011年9月28日 申请日期2011年3月4日 优先权日2011年3月4日
发明者蔡明展, 赖青华, 邱敬凯, 郑耿旻, 黄泰源 申请人:友威科技股份有限公司