专利名称：一种薄膜沈积设备腔体冷却水加热装置的制作方法
技术领域：
本发明属于一种薄膜沈积设备腔体冷却水加热装置，具体涉及镀膜腔体冷却，以维持真空腔体温度不致于散热过多，使内部加热器不断加热节约能源。
背景技术：
现有溅镀设备的镀膜腔体冷却皆采取同一温度的冷却源来冷却，但大都忽略真空腔体并非主动发热源，若使用同一温度冷却会发生腔体温度低于室温，此举不利于内部设置有加热装置的腔体，腔体无形中变成散热装置会使加热源不断的加热以达到腔体内热平衡，不仅非常浪费能源同时增加加热源加热功率。
发明内容
综上所述，为了克服现有技术不足，本发明的主要目的在于提供一种薄膜沈积设备腔体冷却水加热装置。为了达到上述目的，本发明所采用的技术方案是:
一种薄膜沈积设备腔体冷却水加热装置，包括真空汞、冷却管路、储水槽及水汞组成，冷却水流经真空汞后间接被加热至一定温度后流入储水槽，同时储水槽设有温度计及液位传感器，当温度高于设定温度时，冷却水直接经由电磁阀冷却储水槽内部温度；当液位传感器动作时排水管排出多馀的水位使储水槽保持一定的液位。储水槽的冷却水再经由水汞流经薄膜沈积设备腔体使腔体保持一定的温度，此举节省加热冷却水所需的能源，不需另外设置加热系统。综上所述本发明结构简单、节省能源。具體實施方式
下面結合附图对本发明做进一步说明。請參閲圖I所示，一种薄膜沈积设备腔体冷却水加热装置，其包括真空汞11、沈积设备腔体12、储水槽13、水汞19及冷却管路18所组成，储水槽13设有温度计14及液位传感器15，冷却管路设有电磁阀17，冷却水经由真空汞11被加热至一定温度后流入储水槽13，储水槽13设有温度计14，当温度超过设定时，冷却水经由电磁阀17直接流入储水槽13冷却其温度；当液位传感器15动作时排水管16排出多馀的水位使储水槽13保持一定的液位。储水槽13的冷却水再经由水汞19流经薄膜沈积设备腔体12使腔体保持一定的温度，此举节省加热冷却水所需的能源，不需另外设置加热系统。以上所述实例是对本发明技术方案的说明而非限制，所属技术领域普通技术人员的等同替换或者根据现有技术而做的修改， 只要未超出本发明技术方案的思路和范围，均应包含在本发明的权力要求范围之内。
图1系为本发明结构示意图主要元件符号说明
11...真空汞
12...沈积设备腔体
13...储水槽
14...温度计
15...液位传感器
16...排水管
17...电磁阀
18...冷却管路
19... 水萊
权利要求
1.一种薄膜沈积设备腔体冷却水加热装置，其包括储水槽、供水管路、水汞所组成。
2.根据权利要求1所述之一种薄膜沈积设备腔体冷却水加热装置，其特徵在于储水槽设有接温度计及液位传感器及排水管，储水槽为不锈钢材质。
3.根据权利要求1所述之一种薄膜沈积设备腔体冷却水加热装置，其特徵在于冷却水入口管路设有一水路电 磁阀。
全文摘要
本发明系提供一种薄膜沈积设备腔体冷却水加热装置，通过真空汞产生的热源藉由冷却水带走，间接加热冷却水使冷却水维持一定的温度回流至储水槽，而储水槽设有温度计及液位传感器，若温度超过设定温度则打开电磁阀使部分冷却水流至储水槽冷却储水槽温度其保持一定温度，而液位传感器动作时，排水管会排除多馀的水位，储水槽水经过水汞流经腔体冷却管路使腔体保持在设定的温度，不致于过低。因各子系统分别需要不同温度的冷却温度，使用真空汞散热温度间接加热冷却水的方式使其回流冷却腔体，勿需再设置加热系统或另设一套冷却装置，对于设备制造成本及节约能源有相当的效果。
文档编号C23C14/54GK103215552SQ20121001960
公开日2013年7月24日 申请日期2012年1月23日 优先权日2012年1月23日
发明者周文彬, 刘幼海, 刘吉人 申请人:吉富新能源科技(上海)有限公司