专利名称：抛光平台的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种抛光设备，尤其涉及一种具有良好的清洁性能的抛光平台。
背景技术：
抛光机是一种电动工具，抛光机由底座、抛盘、抛光织物、抛光罩及盖等基本兀件组成。电动机固定在底座上，固定抛光盘用的锥套通过螺钉与电动机轴相连。抛光织物通过套圈紧固在抛光盘上，电动机通过底座上的开关接通电源起动后，便可用手对试样施加压力在转动的抛光盘上进行抛光。抛光过程中加入的抛光液可通过固定在底座上的塑料盘中的排水管流入置于抛光机旁的方盘内。抛光罩及盖可防止灰土及其他杂物在机器不使用时落在抛光织物上而影响使用效果。一般，在抛光作业时，被抛光物件会被置于一抛光平台上，然后抛光机再对该抛光物件进行抛光作业。如本领域中已知的，抛光作业时必定会产生研磨粉末之类的废料。这类废料在沉积于被抛光物件表面上时会对抛光作业产生许多不利影响
发明内容
本发明的发明人结合多年的研发经验，开发出了一种抛光平台，包括平台基座；第一凹槽，沿第一方向设置于所述平台基座的上表面上；多个第二凹槽，沿与所述第一方向垂直的第二方向设置于所述平台基座的上表面上；以及侧边凸台，设置于所述第一凹槽一侧，其中所述侧边凸台沿所述第二方向从所述平台基座的侧壁突出。较佳地，根据本发明的优选实施例，在上述的抛光平台中，所述平台基座的相对于所述第一凹槽和第二凹槽抬起的表面为承载表面，所述承载表面由具有弹性的聚合物制成。较佳地，根据本发明的优选实施例，在上述的抛光平台中，所述从所述平台基座的侧壁突出的侧边凸台覆盖所述第一凹槽的上方。 较佳地，根据本发明的优选实施例，在上述的抛光平台中，所述侧边凸台的上表面的靠近所述侧壁的一侧具有沿所述第二方向布置的第三凹槽。较佳地，根据本发明的优选实施例，在上述的抛光平台中，在将被抛光物件置于所述承载表面上进行抛光作业时，从所述抛光平台的与所述侧壁相对的一侧向所述侧壁方向吹气。本发明的抛光平台通过独特的导流设计可以有效地清除抛光作业时所产生的粉末状废料对抛光作业的影响。特别是，在持续地从所述抛光平台的与所述侧壁相对的一侧向所述侧壁方向吹气时，被吹入的气流由于侧边凸台、第一和第二凹槽的引导作用以及同上述持续吹入的气流的相互作用而向所述抛光平台的两侧吹离该抛光平台。如此，可以降低上述粉末状废料对抛光作业的不利影响。应当理解，本发明以上的一般性描述和以下的详细描述都是示例性和说明性的，并且旨在为如权利要求所述的本发明提供进一步的解释。
附图主要是用于提供对本发明进一步的理解。附图示出了本发明的实施例，并与本说明书一起起到解释本发明原理的作用。附图中图I示意性地示出了本发明的抛光平台的基本结构。
具体实施例方式以下结合附图详细讨论本发明的多个实施例。图I示意性地示出了本发明的抛光平台的基本结构。如图所示，本发明的抛光平台100主要包括平台基座101、第一凹槽102、第二凹槽103、侧边凸台104、侧壁105、承载表面106、第三凹槽107。第一凹槽102沿第一方向设置于所述平台基座101的上表面上。多个第二凹槽103沿与所述第一方向垂直的第二方向设置于所述平台基座101的上表面上。侧边凸台104设置于所述第一凹槽102 —侧，其中所述侧边凸台104沿所述第二方向从所述平台基座101的侧壁突出。较佳地，根据本发明的优选实施例，在上述的抛光平台100中，所述平台基座101的相对于所述第一凹槽102和第二凹槽103抬起的表面为承载表面106，所述承载表面106由具有弹性的聚合物制成。此外，如图I所示，所述从所述平台基座101的侧壁105突出的侧边凸台104优选覆盖所述第一凹槽102的上方。这样，可以更好地引导气流从两侧排出抛光平台100。较佳地，根据本发明的优选实施例，在上述的抛光平台100中，所述侧边凸台104的上表面的靠近所述侧壁105的一侧具有沿所述第二方向布置的第三凹槽107。在进行抛光作业时，被抛光物料被置于本发明的抛光平台100的承载表面106上，同时持续地从所述抛光平台100的与所述侧壁105相对的一侧向所述侧壁105方向吹气。由于侧边凸台104、第一凹槽102和第二凹槽103的引导作用，部分气流将被引导向从两侧排出抛光平台100。此外，部分从侧壁105沿第二方向被弹回的气流会进一步同上述持续吹入的气流在侧边凸台104的下方发生碰撞，两者的相互作用也会将这部分的气流向所述抛光平台100的两侧吹离该抛光平台100。综上所述，本发明的抛光平台通过独特的导流设计可以有效地清除抛光作业时所产生的粉末状废料对抛光作业的影响。特别是，在持续地从所述抛光平台的与所述侧壁相对的一侧向所述侧壁方向吹气时，被吹入的气流由于侧边凸台、第一和第二凹槽的引导作用以及同上述持续吹入的气流的相互作用而向所述抛光平台的两侧吹离该抛光平台。如此，可以降低上述粉末状废料对抛光作业的不利影响。上述实施例是提供给本领域普通技术人员来实现或使用本发明的，本领域普通技术人员可在不脱离本发明的发明思想的情况下，对上述实施例做出种种修改或变化，因而本发明的保护范围并不被上述实施例所限，而应该是符合权利要求书提到的创新性特征的
最大范围。
权利要求
1.一种抛光平台，包括 平台基座； 第一凹槽，沿第一方向设置于所述平台基座的上表面上； 多个第二凹槽，沿与所述第一方向垂直的第二方向设置于所述平台基座的上表面上；以及 侧边凸台，设置于所述第一凹槽一侧，其中所述侧边凸台沿所述第二方向从所述平台基座的侧壁突出。
2.如权利要求I所述的抛光平台，其特征在于，所述平台基座的相对于所述第一凹槽和第二凹槽抬起的表面为承载表面，所述承载表面由具有弹性的聚合物制成。
3.如权利要求I所述的抛光平台，其特征在于，所述从所述平台基座的侧壁突出的侧边凸台覆盖所述第一凹槽的上方。
4.如权利要求I所述的抛光平台，其特征在于，所述侧边凸台的上表面的靠近所述侧壁的一侧具有沿所述第二方向布置的第三凹槽。
5.如权利要求I所述的抛光平台，其特征在于，在将被抛光物件置于所述承载表面上进行抛光作业时，从所述抛光平台的与所述侧壁相对的一侧向所述侧壁方向吹气。
全文摘要
本发明提供了一种抛光平台，包括平台基座；第一凹槽，沿第一方向设置于所述平台基座的上表面上；多个第二凹槽，沿与所述第一方向垂直的第二方向设置于所述平台基座的上表面上；以及侧边凸台，设置于所述第一凹槽一侧，其中所述侧边凸台沿所述第二方向从所述平台基座的侧壁突出。本发明的抛光平台通过独特的导流设计可以有效地清除抛光作业时所产生的粉末状废料对抛光作业的影响。
文档编号B24B29/00GK102873626SQ20121043073
公开日2013年1月16日 申请日期2012年11月1日 优先权日2012年11月1日
发明者李金昌 申请人:昆山市大金机械设备厂