专利名称：一种流动式研磨抛光机的滚筒结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种用于研磨、抛光的机加工设备，具体的说是一种用于各类五金、电子、塑料、珠宝首饰等零件去批锋、去毛刺、倒角、除油、去锈、表面抛光的滚筒研磨抛光机的滚筒结构。
背景技术：
在机器加工行业中，为了保证零件或产品的表面光洁度，方便零件或产品的使用及增加零件或产品的光亮度，厂家在实际生产中，常常会对零件或产品进行研磨、抛光加工。在实际进行抛光、研磨加工时，必须使用研磨、抛光设备，其中流动式研磨抛光机 因其结构简单，光饰光整效率高，并能适用批量中小型的工件光饰光整加工，且特别适用具有异型腔孔的工件，同时还具有噪音小、操作方便等优点，故而被广泛的应用于小型零件、产品的抛光、研磨加工中。其工作原理是，通过转筒中的转盘高速旋转，带动放置在转筒内的研磨添加物与待加工的零件或产品产生相对位移，从而使得研磨添加物对零件或产品进行研磨及抛光加工。现在的流动式研磨抛光机一般由底座、缸体、转盘及盖等基本元件组成。电动机固定在底座上，转盘与缸体相配合形成一底部可自动转动的桶状的半密封状腔体，转盘通过或连杆或齿轮或皮带等与通过与电动机轴配合。其转盘因需要在缸体底部自由转动，故而转盘与缸体为间隙配合，同时因为注入的研磨添加物的直径较小，易在转盘工作时，流入其与缸体的间隙内，并对转盘与缸体的间隙处进行研磨，使两者的间隙加大，在长期使用后，极易发生零件或产品卡入间隙，对设备造成损害，影响设备正常工作。为了避免这些情况的发生，就常常需要对转盘与缸体间隙进行调整。传统的流动光饰研磨抛光机结构及间隙调整方法为转盘固定设计。采用高度可调式缸体，且在其下部开口直径随高度增加而减小，使用者通过调整缸体高度，就可以调整转盘与缸体间隙大小。该方法虽然可以调整间隙，但其在实际操作中，因缸体体积较大，且质量较重，调整起来极为不便，且高度调整不易控制。综上所述，研发一种结构简单，易于调整间隙，且使用、维护方便的流动式研磨抛光机结构成为了本行业中亟待解决的问题。
发明内容本实用新型的目的在于克服现在流动式研磨抛光机的在使用、维护上所存在的不足，提供一种易于调整间隙的流动式研磨抛光的滚筒结构。本实用新型为实现上述目的，所采用的技术方案是一种流动式研磨抛光机的滚筒结构，由上缸体、转盘及下缸体组成，其特征在于所述所上缸体两端开口的空心结构体，其下端开口呈椎形，开口直径从下而上增加；[0010]所述的上缸体套于转盘上，其下端开口面与转盘面相配合，形成一个“U”形结构；所述的上缸体下端还通过螺丝与下缸体固定连接；所述的下缸体在其底部设有一插销孔位，其用于与插销相配合，固定转盘；所述的转盘由上转盘体、下转盘体组成；所述的上转盘体、下转盘体均呈盘状，且上转盘体与下转盘体通过螺纹固定为一体； 所述的上转盘体在其上转盘面上设有多个筋板；所述筋板在转盘面上均匀且环形分布；所述的上转盘体的内径面上设有螺纹齿；所述的上转盘体在其上端面上还设置有一个垫圈；所述的下转盘体的外径面上，设有与上转盘体相配合的螺纹槽。本实用新型的工作原理是当上缸体与转盘间因研磨添加物长时间研磨，而使两者间的间隙增大，需要调整时，使用者可将上转盘体及下转盘体间的固定螺丝拆卸，并旋转上转盘体，使得上转盘体在螺纹齿及螺纹槽的配合下，产生上下位移，而后再把固定螺丝将上转盘休、下转盘体固定，此时转盘厚度发生变体，调整后的转盘在缸体下端的锥形开口的配合下，达到调整转盘与缸体的配合间隙的目的。本实用新型与现有技术相比较，其优势在于结构简单、设计合理，使用者无须对质量较大的缸体进行上下调整，只需对转盘的厚度进行调整即可满足使用、维护需要，故而使用方便。
附图I是本实用新型的结构示意图，也是摘要用图。附图2是本实用新型上缸体的结构示意图。附图3是本实用新型转盘结构示意图。附图4是本实用新型转盘结构培面图。图中各标号分别是(I)上缸体；(2)下缸体；；(3)上转盘体；(4)下转盘体；(5)螺纹齿；(6)螺纹槽；(7)筋板。
具体实施方式
现结合附图及实施例对本实用新型作出进一步的说明。实施例一种流动式研磨抛光机的滚筒结构，由上缸体I、转盘及下缸体2组成。所述所上缸体I两端开口的空心结构体，其下端开口呈椎形，开口直径从下而上增加；所述的上缸体I套于转盘上，其下端开口面与转盘面相配合，形成一个“U”形结构；所述的上缸体I下端还通过螺丝与下缸体2固定连接；所述的下缸体2在其底部设有一插销孔位，其用于与插销相配合，固定转盘；所述的转盘由上转盘体3、下转盘体4组成；所述的上转盘体3、下转盘体4均呈盘状，且上转盘体3与下转盘体4通过螺纹固 定为一体；所述的上转盘体3在其上转盘面上设有多个筋板7 ；所述筋板7在转盘面上均匀且环形分布；所述的上转盘体3的内径面上设有螺纹齿5 ；所述的上转盘体3在其上端面上还设置有一个垫圈；所述的下转盘体4的外径面上，设有与上转盘体3相配合的螺纹槽6。以上所述，仅是本实用新型的较佳实施而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，任何熟悉本专业的技术人员都可能利用上述技术内容加以变更或修饰为等同变化的等效实施例，在此，凡未脱离本实用新型的技术方案内容，就依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
权利要求1.一种流动式研磨抛光机的滚筒结构，由上缸体、转盘及下缸体组成，其特征在于所述的转盘由上转盘体、下转盘体组成；上转盘体与下转盘体通过螺纹固定为一体；所述的上转盘体的内径面上设有螺纹齿；所述的下转盘体的外径面上，设有与上转盘体相配合的螺纹槽。
2.根据权利要求I中所述的一种流动式研磨抛光机的滚筒结构，其特征在于所述的上转盘体在其上转盘面上设有多个筋板；所述筋板在转盘面上均匀且环形分布。
3.根据权利要求I中所述的一种流动式研磨抛光机的滚筒结构，其特征在于所述的上转盘体在其上端面上还设置有一个垫圈。
4.根据权利要求I中所述的一种流动式研磨抛光机的滚筒结构，其特征在于所述所上缸体两端开口的空心结构体，其下端开口呈椎形，开口直径从下而上增加；所述的上缸体下端还通过螺丝与下缸体固定连接。
5.根据权利要求I中所述的一种流动式研磨抛光机的滚筒结构，其特征在于所述的上缸体套于转盘上，其下端开口面与转盘面相配合，形成一个“U”形结构。
6.根据权利要求I中所述的一种流动式研磨抛光机的滚筒结构，其特征在于所述的下缸体在其底部设有一插销孔位，其用于与插销相配合，固定转盘。
专利摘要一种流动式研磨抛光机的滚筒结构，由上缸体、转盘及下缸体组成，其特征在于所述所上缸体两端开口的空心结构体，其下端开口呈椎形，开口直径从下而上增加；所述的上缸体套于转盘上，其下端开口面与转盘面相配合，形成一个“U”形结构；所述的上缸体下端还通过螺丝与下缸体固定连接；所述的下缸体在其底部设有一插销孔位，其用于与插销相配合，固定转盘；所述的转盘由上转盘体、下转盘体组成。本实用新型与现有技术相比较，其优势在于结构简单、设计合理，使用者无须对质量较大的缸体进行上下调整，只需对转盘的厚度进行调整即可满足使用、维护需要，故而使用方便。
文档编号B24B37/34GK202668323SQ20122026606
公开日2013年1月16日 申请日期2012年6月7日 优先权日2012年6月7日
发明者吕建康 申请人:吕建康