专利名称：陶瓷设备用的防污抛光装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及陶瓷砖产品生产加工设备的技术领域，特别是用于陶瓷砖面防污处理的装置。
背景技术：
目前，陶瓷砖产品在生产加工过程中，尤其是抛光加工之后，需要对砖面进行防污的加工处理，即在抛光好的砖面上涂覆防污、防渗材料，通过防污材料覆盖瓷砖表面的微孔，形成防污层，从而提高瓷砖表面的抗污性能。防污材料的布施主要由防污装置的磨头旋转研磨完成。传统的防污装置采用一转盘装多个磨头结构，一般为六个，且每个磨头上都装配有驱动电机，每个磨头直接由电机驱动，而所装电机的功率一般为2.2KW，其缺点是:一方面，防污加工处理是由10-20组防污装置串联连排工作的，数十甚至过百台电机同时工作，生产加工时用电量极大、能耗较高，另一方面，由于装置的工作环境温度较高，而使用到的防污材料又是易燃液体，其与电机的距离又较近，这样存在较大的安全隐患，容易起火燃烧，再有，高温的工作环境也不利于电机的正常使用，电机常常容易烧毁，影响设备的正常使用。对此，有的防污装置进行了改进，取消了磨头上的电机，只使用一组较大功率的电机，通过齿轮传动来驱动各个磨头。这样可以大大减少了电机的能耗，但齿轮传动机构的砖盘转速较低，导致磨头的转速也难以较大提高，低转速的磨头防污处理的效果差，无法推广应用。而且，齿轮机构的密封性能差，齿轮上的润滑油容易滴落在陶瓷砖面，对产品造成二次污损。长期使用，齿轮传动机构的耐用性较差，维修维护成本高。
发明内容
本发明的目的是克服上述传统技术的不足之处，提出一种能耗低、防污效果好、工作效率高、维修维护便捷、使用成本低廉的陶瓷设备用的防污抛光装置。本发明的目的是通过如下技术方 案实现的:陶瓷设备用的防污抛光装置，包括有机架、装于机架上的电机、由电机驱动的转轴、装于机架下部由转轴带动的转盘、装于转盘下方的多个磨头，其特征在于:所述的电机分为主电机和副电机，所述的转轴分为主轴和副轴，副轴套装于主轴外形成两轴各自独立旋转的同心轴结构，而主轴上部通过第一皮带及皮带轮由主电机驱动、副轴通过第二皮带及皮带轮由副电机驱动，副轴下部通过轴套与转盘固连联动，主轴下部则穿过转盘，其下端部通过第三皮带及皮带轮驱动转盘下方的磨头。进一步地，每个磨头均通过磨头座安装于转盘下方，每个磨头的磨头座上均设有双皮带轮，双皮带轮上分别连接两条磨头皮带，这样，磨头皮带将相邻的磨头两两相互传动连接，将转盘下方的所有磨头等速同步联动。主轴下端部的第三皮带及皮带轮只驱动转盘下方的一个磨头，该磨头为主动磨头，由该主动磨头通过磨头皮带带动其余磨头旋转。机架上设有用于调整磨头上下位移的升降气缸。装于转盘下方的磨头数量为4一 10个。这样设计的构造，具有明显的优点:1、转盘和磨头分别由不同的电机驱动，可以分别控制转速，尤其是可使转盘以低转速旋转、而磨头以高转速旋转，这样的配合，防污处理效果更好；2、只使用主副两台电机，大大减少了电机的数量，降低了成本；3、与传统装置相t匕，每个转盘减少的电机每小时可节电8度以上，而每条生产线上至少有22-25个转盘，节能减排效果十分明显；4、采用皮带及皮带轮传动，维修维护方便、简单，使用成本低；5、结构简单耐用，不易对瓷砖产品造成二次污染。
图1是本发明的主视示意图。图2是图1的后视示意图。图3是图1的俯视示意图。图4是图1的仰视示意图。图5是本发明的立体示意图。附图标记说明:1.机架2.主电机3.副电机4.主轴5.副轴6.第一皮带及皮带轮7.第二皮带及皮带轮8.转盘9.磨头10.升降气缸11.轴套12.磨头座13.第三皮带及皮带轮14.磨头传动皮带15.双皮带轮。
具体实施方式
·参见图1-图5，本实施例的陶瓷设备用的防污抛光装置，主体是机架1，机架I上分别固定有主电机2和副电机3，转轴是分别由主轴4与副轴5相互套装形成的同心轴，主轴4在内、副轴5在外，且各自相互独立旋转。主电机2通过第一皮带及皮带轮6驱动主轴4，副电机3通过第二皮带及皮带轮7驱动副轴5，这样，主轴4与副轴5可以以不同的转速各自独立旋转。主轴4与副轴5均穿过机架I处于机架I下方，在机架I下方，副轴5通过轴套11与转盘8固连，因此，转盘8随副轴5转动而转动。转盘8的中央开有通孔，以便主轴4穿过，转盘8上还对称开有六个安装孔，用于安装六个磨头9。主轴4下部穿过转盘8后，其下端部通过第三皮带及皮带轮13与其中一个磨头9传动连接，这样，该磨头9随主轴4转动而转动。随着磨头9的高速旋转，将防污液均匀地布覆于陶瓷砖表面，以提高陶瓷砖的防污性能。为了使安装于转盘8上的磨头9都能同时以相同的转速同步旋转，转盘8上方均设有磨头座12，每个磨头9均通过磨头座12安装于转盘8下方，处于转盘8上方的每个磨头座上均设有双皮带轮15，双皮带轮15之间有两条磨头传动皮带14将相邻的磨头9两两连接驱动，这样，尽管主轴4的下端部只通过第三皮带及皮带轮13驱动一个磨头9，但该磨头9成为主动的磨头9，相邻连接的磨头传动皮带14使其余五个磨头9都能两两相互传动连接，实现同时同转速联动。根据陶瓷砖表面防污、抛光的需要，副轴5及转盘8的转速为100r/min左右，而主轴4及磨头9的转速为1400r/min左右。正是由于同心轴的设计,使两种转速能以同一轴向传送而不会互相干扰影响。而且，通过转盘8的低转速、而磨头9的高转速，才能使设备对瓷砖面进行防污处理的效果达到最佳。为了方便更换、维修各磨头9，机架I上还安装有一对升降气缸10，升降气缸10的活塞杆与固定副电机4的板台连接，升降气缸10的活塞杆上下位移，可带动副轴5连同转盘8上下移动，从而改变各磨头9与工作面的距离。当然，这里仅列举了一些较佳的实施方式，其它等同、类同的构造均应属于本专利的保护范畴，这里 不再赘述。
权利要求
1.陶瓷设备用的防污抛光装置，包括有机架、装于机架上的电机、由电机驱动的转轴、装于机架下部由转轴带动的转盘、装于转盘下方的多个磨头，其特征在于所述的电机分为主电机和副电机，所述的转轴分为主轴和副轴，副轴套装于主轴外形成两轴各自独立旋转的同心轴结构，而主轴上部通过第一皮带及皮带轮由主电机驱动、副轴通过第二皮带及皮带轮由副电机驱动，副轴下部通过轴套与转盘固连联动，主轴下部则穿过转盘，其下端部通过第三皮带及皮带轮驱动转盘下方的磨头。
2.根据权利要求I所述的防污抛光装置，其特征是，每个磨头均通过磨头座安装于转盘下方，每个磨头的磨头座上均设有双皮带轮，双皮带轮上分别连接两条磨头皮带，这样，磨头皮带将相邻的磨头两两相互传动连接，将转盘下方的所有磨头等速同步联动。
3.根据权利要求I或2所述的防污抛光装置，其特征是主轴下端部的第三皮带及皮带轮只驱动转盘下方的一个磨头，该磨头为主动磨头，由该主动磨头通过磨头皮带带动其余磨头旋转。
4.根据权利要求I或2或3所述的防污抛光装置，其特征是机架上设有用于调整磨头上下位移的升降气缸。
5.根据权利要求I或2或3所述的防污抛光装置，其特征是装于转盘下方的磨头数量为4一 10个。
全文摘要
本发明涉及陶瓷设备用的防污抛光装置，包括有机架、装于机架上的电机、由电机驱动的转轴、装于机架下部由转轴带动的转盘、装于转盘下方的多个磨头，其特征在于所述的电机分为主电机和副电机，所述的转轴分为主轴和副轴，副轴套装于主轴外形成两轴各自独立旋转的同心轴结构，而主轴上部通过第一皮带及皮带轮由主电机驱动、副轴通过第二皮带及皮带轮由副电机驱动，副轴下部通过轴套与转盘固连联动，主轴下部则穿过转盘，其下端部通过第三皮带及皮带轮驱动转盘下方的磨头，这样的设计，使用的能耗低、防污处理效果好、生产工作效率高、维修维护便捷、使用成本低廉，可广泛配套应用于各种陶瓷加工设备。
文档编号B24B29/02GK103252701SQ20131014725
公开日2013年8月21日 申请日期2013年4月25日 优先权日2013年4月25日
发明者李汉超 申请人:李汉超