纽扣的抛光方法
【专利摘要】本发明公开了一种纽扣的抛光方法，在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，加水浸没上述物料；待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比1∶2-1∶7，硅砂粉、化学抛光剂的添加量分别为固体物料总质量的2%-7%、0.5%-1.5%；所述高频瓷粒的尺寸为2.5×8.0mm或3×3mm；设定第一抛光时间，涡流抛光机的转速为100-180转/分钟；根据第一次抛光效果，设定第二次抛光时间，至纽扣光泽度满足要求，清洗纽扣。本发明所述纽扣的抛光方法，抛光效率较传统方法抛光效率提高了3～4倍，抛光效果更加稳定，缩短了生产工期，降低了人工成本和员工劳动强度，且所制得的纽扣外观优良。
【专利说明】纽扣的抛光方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及纽扣生产制造【技术领域】，特别是涉及一种纽扣的抛光方法。
【背景技术】
[0002]随着人们审美观点的变化和服装制造技术的不断发展，纽扣的装饰效果和功能性要求也越来越广泛。不饱和聚酯纽、塑料纽、木纽、果实纽、贝壳纽和金属钮等，各种材质的纽扣被广泛应用；浇片、制棍、注塑、滴胶等多种制纽工艺层出不穷。抛光是纽扣生产过程中的一个重要工序，抛光效率和抛光效果对生产周期和光饰效果及喷油等后加工处理产生重要影响。
[0003]纽胚经车纽工序后，表面往往平整度不好，表面光泽不均匀，甚至有一些毛刺。传统的纽扣抛光方法是采用滚筒抛光机进行水磨，利用抛光物料对纽扣表面的磨擦作用，将纽扣表面打磨光滑。对于高光泽的纽扣，则需要利用果壳糠、植物油、硅油或石蜡等进行干磨。滚筒抛光机的抛光效率较低，抛光耗时较长；水磨过程中，泡沫丰富，纽扣会漂浮起来，影响了抛光效果；水磨过程中需要多次清洗，自来水消耗量较大，造成水资源的浪费。
[0004]而目前，双联涡流抛光机主要使用于抛光金属产品和工艺品，到目前为止还没有使用到抛光非金属钮扣这个特别的行业；而直接将双联涡流抛光机替代滚筒抛光机，因为设备速度快，打磨力度大，所制得的纽扣尖角易被磨圆。
【发明内容】
[0005]基于此，本发明提供一种纽扣的抛光方法。
[0006]解决上述技术问题的具体技术方案如下:
[0007]一种纽扣的抛光方法，包括如下步骤:
[0008](I)根据纽扣光泽度的要求，在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，并加水浸没上述物料；所述待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比为1:2-1:7,硅砂粉的添加量为固体物料总质量的1%_5%，化学抛光剂的添加量为固体物料总质量的0.5%-1.5% ;所述高频瓷粒的尺寸为0 2.5*8.0mm或3*3mm ;所述固体物料是指上述除水之外的其余物料；
[0009](2)设定第一抛光时间，双联涡流抛光机的转速为100-180转/分钟；
[0010](3)根据第一次抛光效果，设定第二次抛光时间，至纽扣光泽度满足要求；
[0011](4)清洗纽扣。
[0012]在其中一些实施例中，步骤(I)所述化学抛光剂为蜡乳液、有机硅化合物、硬酯酸钠、十二烷基苯磺酸钠或有机硅改性聚醚类表面活性剂中的一种或两种以上的混合物。
[0013]在其中一些实施例中，所述化学抛光剂为主要由以下重量百分比的原料组成:蜡乳液75-84wt%，有机硅化合物4-6wt%和硬脂酸钠12_19wt%。
[0014]在其中一些实施例中，步骤(I)所述硅砂粉的粒径为150-400目。
[0015]在其中一些实施例中，步骤(2)所述第一抛光时间为2_6h，步骤(3)所述第二次抛光时间为0.5-1.5h。
[0016]在其中一些实施例中，一种纽扣的抛光方法，包括如下步骤:
[0017](I)在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，并加水浸没上述物料；所述待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比为1:5-1:7，高频瓷粒的尺寸为0
2.5*8.0mm，硅砂粉的添加量为固体物料总质量的3%_5%，粒径为300-400目，化学抛光剂的添加量为固体物料总质量的1%_1.5%，所述化学抛光剂为棕榈蜡或高密度氧化聚乙烯蜡的水乳液、有机硅化合物、硬酯酸钠、十二烷基苯磺酸钠和有机硅改性聚醚类表面活性剂中的一种或几种的混合物；
[0018](2)设定第一抛光时间5_6h，双联涡流抛光机的转速为100-180转/分钟；
[0019](3)设定第二次抛光时间0.5-1.5h ;
[0020](4)清洗纽扣，得光泽度为大于80度的全光纽扣。
[0021]在其中一些实施例中，步骤(I)所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成:巴西棕榈蜡乳液75-84wt%，有机硅化合物4-6wt%和硬脂酸钠12_19wt%。
[0022]在其中一些实施例中，步骤(I)所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成:巴西棕榈蜡乳液75-84wt%，DC-544-6wt%和硬脂酸钠12_19wt%。
[0023]在其中一些实施例中，一种纽扣的抛光方法，包括如下步骤:
[0024](I)在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，并加水浸没上述物料；所述待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比为1:4-1:5，高频瓷粒的尺寸为3*3mm，硅砂粉的添加量为固体物料总质量的3%_4%，粒径为150-300目，化学抛光剂的添加量为固体物料总质量的0.5%-1%，所述化学抛光剂为石蜡或低密度氧化聚乙烯蜡的水乳液、有机硅化合物、硬酯酸钠、十二烷基苯磺酸钠和有机硅改性聚醚类表面活性剂中的一种或几种的混合物；
[0025](2)设定第一抛光时间4_5h，双联涡流抛光机的转速为100-180转/分钟；
[0026](3)设定第二次抛光时间0.5-lh ;
[0027](4)清洗纽扣，得光泽度80-30度的半哑光纽扣。
[0028]在其中一些实施例中，步骤(I)所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成:低密度氧化聚乙烯蜡乳液75-84wt%，有机硅化合物4-6wt%和硬脂酸钠12_19wt%。
[0029]在其中一些实施例中，步骤(I)所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成:WE-215A75-84wt%，DC_514_6wt% 和硬脂酸钠 12_19wt%。
[0030]在其中一些实施例中，一种纽扣的抛光方法，包括如下步骤:
[0031](I)在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，并加水浸没上述物料；所述待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比为1:2-1:4，高频瓷粒的尺寸为3*3mm，硅砂粉的添加量为固体物料总质量的2%_3%，粒径为150-300目，化学抛光剂的添加量为固体物料总质量的0.5%-1%，所述化学抛光剂为石蜡或低密度氧化聚乙烯蜡的水乳液、有机硅化合物、硬酯酸钠、十二烷基苯磺酸钠和有机硅改性聚醚类表面活性剂中的一种或几种的混合物；
[0032](2)设定第一抛光时间2_4h，涡流抛光机的转速为100-180转/分钟；
[0033](3)设定第二次抛光时间0.5-lh ;
[0034](4)清洗纽扣，得光泽度小于30度的全哑光纽扣。[0035]在其中一些实施例中，步骤(I)所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成:低密度氧化聚乙烯蜡乳液75-84wt%，有机硅化合物4-6wt%和硬脂酸钠12_19wt%。
[0036]在其中一些实施例中，步骤(I)所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成:WE-215A75-84wt%，DC_514_6wt% 和硬脂酸钠 12_19wt%。
[0037]本发明所述一种纽扣的抛光方法具有以下优点和有益效果:
[0038]( I)本发明所述纽扣的抛光方法，其抛光效率较传统抛光方法的效率提高了 3?4倍，抛光效果更加稳定，缩短了生产工期，降低了人工成本和员工劳动强度，且所制得的纽扣外观优良。
[0039](2)本发明采用双联涡流抛光机，利用机械性带动涡流流动的原理，加快了物料的流动速度，增强了纽扣表面和磨料之间的作用力，从而提高了抛光效率。
[0040](3)本发明所述纽扣抛光方法中所用的抛光物料中还添加了化学抛光剂，该化学抛光剂的组分和含量是经发明人的大量实验和研究确定的，其配合0 2.5*8.0mm或3*3mm的高频瓷粒及适宜的双联涡流抛光机的转速，不仅显著增强了纽扣的光泽度，且有效消除和抑制水磨过程中的泡沫，还进一步提高了抛光效率和改善了纽扣的光饰效果。
[0041](4)本发明所述的纽扣抛光方法还针对纽扣的不同光泽度要求，设计了相应磨料配方，使得抛光效果更高，抛光效果更稳定。
[0042](5)本发明所述的纽扣抛光方法，其抛光过程中所用水为循环水或自来水，实现了抛光水的回收和重复利用，尽可能地做到能耗低，用料少的节能减排要求。
【具体实施方式】
[0043]以下将结合具体实施例对本发明做进一步说明。
[0044]下述实施例中所述双联涡流抛光机购自隆鑫研磨机械(东堯)有限公司；
[0045]所述巴西棕榈蜡乳液购自东莞澳达化工有限公司；
[0046]所述DC-54、DC-51购自道康宁公司；
[0047]所述硬脂酸钠购自常州市瓦屋山化工有限公司；
[0048]所述WE-215A购自上海新诺化工有限公司。
[0049]实施例1
[0050]一种光泽度为大于80度的全光纽扣的抛光方法，包括如下步骤:
[0051](I)在双联涡流抛光机内放入30公斤，尺寸为0 2.5*8.0mm的高频瓷粒、5公斤待抛光不饱和聚酯纽扣、1.8公斤粒径为300-400目的硅砂粉，开机混合上述物料，同时向双联涡流抛光机中注入适量循环水或自来水浸没上述物料，至使不饱和树脂纽扣和抛光磨料在水的作用下流动起来，停机，将水位控制在高出物料I?3cm的位置，加入0.5公斤，所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成:巴西棕榈蜡乳液80wt%，DC-545wt%和硬脂酸钠15wt% ；
[0052](2)设定第一抛光时间5h,双联润流抛光机的转速为160转/分钟，开始抛光，抛光过程中，根据设备内水量的变化，适量的补充循环水或自来水；
[0053](3)第一次抛光完成后，放出设备内的污水，重新注入循环水或自来水，设定第二次抛光1.0小时；
[0054](4)清洗纽扣，倒出抛光机内所有物料，并筛分纽扣和磨料。[0055]实施例2
[0056]一种光泽度为30-80度的半哑光纽扣的抛光方法，包括如下步骤:
[0057](I)依次向双联涡流抛光机内投入30公斤尺寸为3*3mm的高频瓷粒、6公斤不饱和聚酯钮和150?300目的硅砂粉I公斤。开机混合上述物料，同时向双联涡流机内注入适量的循环水或自来水浸没上述物料，能够使不饱和树脂纽扣和抛光磨料在水的作用下流动起来，停机，将水位控制在高出抛光物料I?3cm的位置，加入化学抛光剂0.3公斤，所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成:WE-215A80wt%，DC_515wt%和硬脂酸钠15wt% ；
[0058](2)设定第一次抛光的时间为4.0小时,设定速度为160转/分钟,开始进行抛光。抛光过程中，根据设备内水量的变化，适量地补充循环水；
[0059](3)第一次抛光完成后，放出设备内的污水，重新注入循环水或自来水。设定第二次抛光时间为1.0小时；
[0060](4)清洗纽扣，倒出抛光机内所有物料，并筛分纽扣和磨料。
[0061]实施例3
[0062]一种光泽度为小于30度的全哑光纽扣的抛光方法，包括如下步骤:
[0063](I)依次向双联润流抛光机内投入20公斤尺寸为3*3mm的高频瓷粒、10公斤不饱和聚酯纽和150-300目的硅砂粉0.5公斤。开机混合上述物料，同时向双联涡流机内注入适量的循环水或自来水浸没上述物料，能够使不饱和树脂纽扣和抛光磨料在水的作用下流动起来。停机，将水位控制在高出抛光物料I?3cm的位置，加入化学抛光剂0.2公斤，所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成:WE-215A80wt%，DC_515wt%和硬脂酸钠15wt% ；
[0064](2)设定第一次抛光的时间为3.0小时,设定速度为160转/分钟,开始进行抛光。抛光过程中，根据设备内水量的变化，适量地补充循环水；
[0065](3)第一次抛光完成后，放出设备内的污水，重新注入循环水或自来水。设定第二次抛光时间为0.7小时；
[0066](4)清洗纽扣，倒出抛光机内所有物料，并筛分纽扣和磨料。
[0067]实施例4
[0068]一种光泽度为大于80度的全光纽扣的抛光方法，包括如下步骤:
[0069](I)依次向双联涡流抛光机内投入30公斤尺寸为0 2.5*8.0mm的高频瓷粒、5.9公斤塑料纽和300?400目的硅砂粉1.2公斤。开机混合上述物料，同时向双联涡流机内注入适量的循环水或自来水浸没上述物料，能够使塑料纽扣和抛光磨料在水的作用下流动起来。停机，将水位控制在高出抛光物料I?3cm的位置，加入化学抛光剂0.4公斤，所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成:巴西棕榈蜡乳液75wt%，DC-546wt%和硬脂酸钠 19wt%0
[0070](2)设定第一次抛光的时间为5.0小时,设定速度为160转/分钟,开始进行抛光。抛光过程中，根据设备内水量的变化，适量地补充循环水。
[0071](3)第一次抛光完成后，放出设备内的污水，重新注入循环水或自来水。设定第二次抛光时间为1.5小时。
[0072](4)清洗纽扣，倒出抛光机内所有物料，并筛分纽扣和磨料。
[0073]实施例5[0074]一种光泽度为30-80度的半哑光纽扣的抛光方法，包括如下步骤:
[0075](I)依次向双联润流抛光机内投入20公斤尺寸为3*3mm的高频瓷粒、10公斤木纽和150?300目的硅砂粉0.5公斤。开机混合所有抛光物料，同时向双联涡流机内注入适量的循环水或自来水浸没上述物料，能够使木纽扣和抛光磨料在水的作用下流动起来。停机，将水位控制在高出抛光物料I?3cm的位置，加入化学抛光剂0.2公斤，所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成:巴西棕榈蜡乳液84wt%，DC-544wt%和硬脂酸钠12wt%。
[0076](2)设定第一次抛光的时间为3.0小时,设定速度为160转/分钟,开始进行抛光。抛光过程中，根据设备内水量的变化，适量地补充循环水。
[0077](3)第一次抛光完成后，放出设备内的污水，重新注入循环水或自来水。设定第二次抛光时间为0.5小时。
[0078](4)清洗纽扣，倒出抛光机内所有物料，并筛分纽扣和磨料。
[0079]对比例I
[0080]一种光泽度为大于80度的全光纽扣的抛光方法，包括如下步骤:
[0081](I)依次向滚筒抛光机内投入30公斤尺寸为0 2.5*8.0mm的高频瓷粒、5公斤不饱和聚酯纽和300?400目的硅砂粉1.8公斤。开机混合所有抛光物料，同时向双联涡流机内注入适量的自来水，能够使不饱和树脂纽扣和抛光磨料在水的作用下流动起来。停机，将水位控制在高出抛光物料I?3cm的位置。
[0082](2)设定第一次抛光的时间为4.0小时，设定速度为40转/分钟，开始进行抛光。抛光过程中，根据设备内水量的变化，适量地补充自来水。
[0083](3)第一次抛光完成后，放出设备内的污水，重新注入自来水，设定第二次抛光时间为4.0小时，再加硅砂粉2公斤，设定速度为40转/分钟，开始进行抛光。抛光过程中，根据设备内水量的变化，适量地补充自来水。
[0084](4)第二次抛光完成后，放出设备内的污水，重新注入自来水，设定第三次抛光时间为12小时，再加硅砂粉2公斤，设定速度为40转/分钟，开始进行抛光。抛光过程中，根据设备内水量的变化，适量地补充自来水。
[0085](5)第三次抛光完成后，放出设备内的污水，重新注入自来水，设定第四次抛光时间为1.0小时。
[0086](6)清洗纽扣，倒出抛光机内所有物料，并筛分纽扣和磨料。
[0087]对比例2
[0088]一种光泽度为30-80度的半哑光纽扣的抛光方法，包括如下步骤:
[0089](I)依次向滚筒抛光机内投入30公斤尺寸为3*3mm的高频瓷粒、6公斤不饱和聚酯纽和150?300目的硅砂粉I公斤。开机混合所有抛光物料，同时向涡流机内注入适量的自来水，能够使不饱和树脂纽扣和抛光磨料在水的作用下流动起来。停机，将水位控制在高出抛光物料I?3cm的位置。
[0090](2)设定第一次抛光的时间为4.0小时，设定速度为40转/分钟，开始进行抛光。抛光过程中，根据设备内水量的变化，适量地补充自来水。
[0091](3)第一次抛光完成后，放出设备内的污水，重新注入自来水，设定第二次抛光时间为4.0小时，再加硅砂粉2公斤，设定速度为40转/分钟，开始进行抛光。抛光过程中，根据设备内水量的变化，适量地补充自来水。[0092](4)第二次抛光完成后，放出设备内的污水，重新注入自来水，设定第三次抛光时间为4.0小时，再加硅砂粉2公斤，设定速度为40转/分钟，开始进行抛光。抛光过程中，根据设备内水量的变化，适量地补充自来水。
[0093](5)第三次抛光完成后，放出设备内的污水，重新注入自来水，设定第四次抛光时间为1.0小时。
[0094](6)清洗纽扣，倒出抛光机内所有物料，并筛分纽扣和磨料。
[0095]对比例3
[0096]一种光泽度小于30度的全哑光纽扣的抛光方法，包括如下步骤:
[0097](I)依次向滚筒抛光机内投入20公斤尺寸为3*3mm的高频瓷粒、10公斤不饱和聚酯纽和150?300目的硅砂粉0.5公斤。开机混合所有抛光物料，同时向双联涡流机内注入适量的自来水，能够使不饱和树脂纽扣和抛光磨料在水的作用下流动起来。停机，将水位控制在高出抛光物料I?3cm的位置；
[0098](2)设定第一次抛光的时间为4.0小时，设定速度为40转/分钟，开始进行抛光。抛光过程中，根据设备内水量的变化，适量地补充自来水；
[0099](3)第一次抛光完成后，放出设备内的污水，重新注入自来水，设定第二次抛光时间为4.0小时，再加硅砂粉2公斤，设定速度为40转/分钟，开始进行抛光。抛光过程中，根据设备内水量的变化，适量地补充自来水。
[0100](4)第二次抛光完成后，放出设备内的污水，重新注入自来水，设定第三次抛光时间为3.0小时，再加硅砂粉2公斤，设定速度为40转/分钟，开始进行抛光。抛光过程中，根据设备内水量的变化，适量地补充自来水。
[0101](5)第三次抛光完成后，放出设备内的污水，重新注入自来水。继续抛光2小时；
[0102](6)清洗纽扣，倒出抛光机内所有物料，并筛分纽扣和磨料。
[0103]对比例4
[0104]一种光泽度为大于80度的全光纽扣的抛光方法，包括如下步骤:
[0105](I)依次向滚筒抛光机内投入30公斤尺寸为6*6mm的高频瓷粒、5.9公斤塑料纽和300?400目的硅砂粉2公斤。开机混合所有抛光物料，同时向涡流机内注入适量的自来水，能够使塑料纽扣和抛光磨料在水的作用下流动起来。停机，将水位控制在高出抛光物料I?3cm的位置。
[0106](2)设定第一次抛光的时间为4.0小时，设定速度为40转/分钟，开始进行抛光。抛光过程中，根据设备内水量的变化，适量地补充自来水。
[0107](3)第一次抛光完成后，放出设备内的污水，重新注入自来水，设定第二次抛光时间为4.0小时，再加硅砂粉2公斤，设定速度为40转/分钟，开始进行抛光。抛光过程中，根据设备内水量的变化，适量地补充自来水。
[0108](4)第二次抛光完成后，放出设备内的污水，重新注入自来水，设定第三次抛光时间为12小时，再加硅砂粉2公斤，设定速度为40转/分钟，开始进行抛光。抛光过程中，根据设备内水量的变化，适量地补充自来水。
[0109](5)第三次抛光完成后，放出设备内的污水，重新注入自来水，继续抛光时间大概
1.0小时左右。
[0110](6)清洗纽扣，倒出抛光机内所有物料，并筛分纽扣和磨料。[0111]将上述实施例1-5和对比例1-4进行比较，对比其外观、耗水量和抛光时间，对比结果如下表1所示:
[0112]表1不同抛光方法制得的不同材质纽扣的外观、自来水消耗量和抛光时间对比表
[0113]
【权利要求】
1.一种纽扣的抛光方法，其特征在于，包括如下步骤: (1)在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，加水浸没上述物料；所述待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比为1:2-1:7，硅砂粉的添加量为固体物料总质量的1%_5%，化学抛光剂的添加量为固体物料总质量的0.5%-1.5% ;所述高频瓷粒的尺寸为0 2.5*8.0mm 或 3*3mm ； (2)设定第一抛光时间，双联涡流抛光机的转速为100-180转/分钟； (3)根据第一次抛光效果，设定第二次抛光时间，至纽扣光泽度满足要求； (4)清洗纽扣。
2.根据权利要求1所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，步骤(1)所述化学抛光剂为蜡乳液、有机硅化合物、硬酯酸钠、十二烷基苯磺酸钠或有机硅改性聚醚类表面活性剂中的一种或两种以上的混合物。
3.根据权利要求2所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，所述化学抛光剂为主要由以下重量百分比的原料组成:蜡乳液75-84wt%，有机硅化合物4-6wt%和硬脂酸钠12_19wt%。
4.根据权利要求1所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，步骤(1)所述硅砂粉的粒径为150-400 目。
5.根据权利要求1所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，步骤(2)所述第一抛光时间为2-6h，步骤(3)所述第二次抛光时间为0.5-1.5h。
6.根据权利要求1所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，包括如下步骤: (1)在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，加水浸没上述物料；所述待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比为1:5-1:7，高频瓷粒的尺寸为02.5*8.0mm,硅砂粉的添加量为固体物料总质量的3%-5%，粒径为300-400目，化学抛光剂的添加量为固体物料总质量的1%_1.5%，所述化学抛光剂为棕榈蜡或高密度氧化聚乙烯蜡的水乳液、有机硅化合物、硬酯酸钠、十二烷基苯磺酸钠和有机硅改性聚醚类表面活性剂中的一种或两种以上的混合物； (2)设定第一抛光时间5-6h，双联涡流抛光机的转速为100-180转/分钟； (3)设定第二次抛光时间0.5-1.5h ； (4)清洗纽扣，得光泽度大于80度的全光纽扣。
7.根据权利要求6所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，步骤(1)所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成:巴西棕榈蜡乳液75-84wt%，有机硅化合物4-6wt%和硬脂酸钠 12-19wt%0
8.根据权利要求1所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，包括如下步骤: (1)在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，加水浸没上述物料；所述待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比为1:3-1:5，高频瓷粒的尺寸为3*3mm，硅砂粉的添加量为固体物料总质量的2%-3%，粒径为150-300目，化学抛光剂的添加量为固体物料总质量的0.5%-1%，所述化学抛光剂为石蜡或低密度氧化聚乙烯蜡的水乳液、有机硅化合物、硬酯酸钠、十二烷基苯磺酸钠和有机硅改性聚醚类表面活性剂中的一种或两种以上的混合物； (2)设定第一抛光时间4-5h，双联涡流抛光机的转速为100-180转/分钟； (3)设定第二次抛光时间0.5-lh ；(4)清洗纽扣，得光泽度30-80度的半哑光纽扣。
9.根据权利要求1所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，包括如下步骤: (1)在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，并加水浸没上述物料；所述待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比为1:2-1:3，高频瓷粒的尺寸为3*3mm，硅砂粉的添加量为固体物料总质量的1%_2%，粒径为150-300目，化学抛光剂的添加量为固体物料总质量的0.5%-1%，所述化学抛光剂为石蜡或低密度氧化聚乙烯蜡的水乳液、有机硅化合物、硬酯酸钠、十二烷基苯磺酸钠和有机硅改性聚醚类表面活性剂中的一种或两种以上的混合物； (2)设定第一抛光时间2-4h，涡流抛光机的转速为100-180转/分钟； (3)设定第二次抛光时间0.5-lh ； (4)清洗纽扣，得光泽度小于30度的全哑光纽扣。
10.根据权利要求8或9任一项所述的纽扣的抛光方法，其特征在于，步骤(1)所述化学抛光剂主要由以下重量百分比的原料组成:低密度氧化聚乙烯蜡乳液75-84wt%，有机硅化合物4-6wt%和硬脂酸钠12-19wt%。
【文档编号】B24B37/00GK103639884SQ201310629353
【公开日】2014年3月19日 申请日期:2013年11月29日 优先权日:2013年11月29日
【发明者】王学甜, 盛峭敏, 龚凡, 王青松, 程福奎 申请人:广东溢达纺织有限公司